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    • 54. 发明申请
    • 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
    • 化合物,树脂,组合物和形成抗蚀剂图案的方法和电路图案形成方法
    • WO2018052026A1
    • 2018-03-22
    • PCT/JP2017/033063
    • 2017-09-13
    • 三菱瓦斯化学株式会社
    • 越後 雅敏
    • C07C39/21C07D311/78C08G8/20G03F7/004G03F7/027G03F7/11G03F7/20
    • C07C39/21C07D311/78C08G8/20G03F7/004G03F7/027G03F7/11G03F7/20
    • 本発明は、下記式(0)で表される、化合物を提供する。(式(0)中、R Y は、水素原子であり、 R Z は、炭素数1~60のN価の基又は単結合であり、 R T は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、R T の少なくとも1つは水酸基であり、またR T の少なくとも1つは炭素数2~30のアルケニル基であり、 Xは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、 mは、各々独立して0~9の整数であり、ここで、mの少なくとも1つは2~9の整数又はmの少なくとも2つは1~9の整数であり、 Nは、1~4の整数であり、ここで、Nが2以上の整数の場合、N個の[ ]内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、 rは、各々独立して0~2の整数である。)
    • 本发明提供了由下式(0)表示的化合物。 (在式(0),R ý是氢原子,R ž是N价基团或碳原子数1〜60的单键, [R Ť各自独立地为可以具有取代基的烷基为1〜30个碳原子,任选 - 碳原子数为6为30取代的芳基 基,可具有取代基的2至30个碳原子的链烯基,碳原子数为1〜30的可以具有取代基的烷氧基,卤原子,硝基,氨基,羧酸基团 巯基或羟基,烷基,芳基,烯基和烷氧基,醚键,可含有酮或酯键,其中,R Ť
    • 55. 发明申请
    • 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
    • 化合物,树脂,组合物,形成抗蚀剂图案的方法,
    • WO2018016640A1
    • 2018-01-25
    • PCT/JP2017/026530
    • 2017-07-21
    • 三菱瓦斯化学株式会社
    • 越後 雅敏
    • C07C43/215C07C39/15C07C43/20C07C43/205C07D311/78C07D311/82C08F12/22C08G8/04C08G8/20C08G8/36G03F7/031G03F7/11G03F7/26H01L21/30
    • C07C39/15C07C43/20C07C43/205C07C43/215C07D311/78C07D311/82C08F12/22C08G8/04C08G8/20C08G8/36G03F7/031G03F7/11G03F7/26H01L21/30
    • 下記式(0)で表される、化合物。(0)(R Y :水素原子、炭素数1~30のアルキル基又は炭素数6~30のアリール基、R Z: 炭素数1~60のN価の基又は単結合、R T :置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数6~30のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数2~30のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数1~30のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基、水酸基又は水酸基の水素原子が含ビニルフェニルメチル基で置換された基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合またはエステル結合を含んでいてもよい)、R T の少なくとも1つは水酸基の水素原子が含ビニルフェニルメチル基で置換された基を含む。X:酸素原子、硫黄原子又は無架橋、m:0~9の整数(少なくとも1つは1~9の整数)、N:1~4の整数、r:0~2の整数)
    • 由下式(0)表示的化合物。 (0)(R ý:氢原子,烷基或具有碳原子数为1〜30 6〜30个碳原子,R z中的一个芳基基团:碳原子数为1〜60 R 2 T:可以具有取代基的具有1至30个碳原子的烷基,可以具有取代基的具有6至20个碳原子的芳基, 30芳基,其具有1-2个碳原子,其可30具有取代基,具有1个碳原子,其可30具有取代基,卤素原子,硝基,氨基的烷氧基链烯基, 羧酸,硫醇基,羟基或其中氢原子被一个自由乙烯基苯基甲基(烷基,芳基,链烯基,烷氧基,含有醚键,酮键或酯键的羟基 并且至少一个R T是羟基的氢原子是含乙烯基的 .X包括取代的基团Enirumechiru团:氧原子,硫原子或交联的,M:0〜9的整数(至少一个为1〜9的整数),N:1〜4的整数,R: 一个从0到2的整数)
    • 56. 发明申请
    • ノボラック型フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト膜
    • NOVOLAC型含酚羟基含羟基的树脂和耐腐蚀膜
    • WO2017029935A1
    • 2017-02-23
    • PCT/JP2016/071381
    • 2016-07-21
    • DIC株式会社
    • 今田 知之佐藤 勇介
    • C07C39/15C07C37/20C08G8/20C08L61/12G03F7/023G03F7/11
    • C07C37/20C07C39/15C08G8/20C08L61/12G03F7/023G03F7/11
    • 現像性、耐熱性及びドライエッチング耐性に優れるノボラック型フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト膜を提供すること。下記構造式(1) [式中、Arはアリーレン基を表す。R 1 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子の何れかであり、mはそれぞれ独立に1~3の整数である。] で表される構造部位(I)又は下記構造式(2) [式中、Arはアリーレン基を表す。R 1 はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子の何れかであり、mはそれぞれ独立に1~3の整数である。] で表される構造部位(II)を繰り返し単位として有することを特徴とするノボラック型フェノール性水酸基含有樹脂。
    • 本发明的目的是提供:具有优异的显影性,耐热性和耐干蚀刻性的酚醛清漆型含酚基的树脂; 和抗蚀膜。 一种酚醛清漆型酚羟基树脂,其特征在于,以结构式(1)表示的结构部分(I)作为重复单元[其中Ar表示亚芳基; R 1独立地表示氢原子,烷基,烷氧基,芳基,芳烷基和卤素原子中的任一个; m独立地表示1〜3的整数]或结构式(2)表示的结构部分(II)[式中,Ar表示亚芳基, R 1独立地表示氢原子,烷基,烷氧基,芳基,芳烷基和卤素原子中的任一个; m独立地表示1〜3的整数]。
    • 60. 发明申请
    • ポジ型フォトレジスト組成物
    • 正极型光电组合物
    • WO2012063636A1
    • 2012-05-18
    • PCT/JP2011/074492
    • 2011-10-25
    • DIC株式会社今田 知之鹿毛 孝和今泉 規史
    • 今田 知之鹿毛 孝和今泉 規史
    • G03F7/023C08G8/20
    • G03F7/004C08G8/04C08G8/20C08L61/12G03F7/0236
    •  下記一般式(1)又は(2)で表される芳香族化合物(A)と脂肪族アルデヒド(B)とを縮合して得られるノボラック型フェノール樹脂(C)を必須成分として含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物を提供する。このポジ型フォトレジスト組成物は、これまで両立が困難であった感度及び耐熱性を高いレベルで両立し、近年の高集積化により、より細線化されたパターンの作製が要求されるIC、LSI等の半導体製造、LCD等の表示装置の製造、印刷原版の製造などに用いられるポジ型フォトレジストとして好適に用いることができる。(式中、R 1 、R 2 及びR 3 はそれぞれ独立して炭素原子数1~8のアルキル基である。また、m、n及びpはそれぞれ独立して0~4の整数であり、qは1~(5-p)の整数であり、sは1~(9-p)の整数である。)
    • 本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,含有通式(1)或(2)表示的芳香族化合物(A)与通式(1)或(2)表示的芳香族化合物(A) 脂肪醛(B)。 这种正型光致抗蚀剂组合物可以以高水平组合在过去难以组合的灵敏度和耐热性。 因此,正型光致抗蚀剂组合物可以适当地用作生产由于集成度最近增加而形成更精细图案的制品的正型光致抗蚀剂,所述制品包括半导体装置如IC和 LSI,LCD等显示装置和印版前体。 在通式中,R 1,R 2和R 3各自独立地为C 1-8烷基; m,n和p各自独立地为0〜4的整数; q是1至(5-p)的整数; s为1〜(9-p)的整数。