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51. 发明申请

WO2007139017A1 液体回収部材、基板保持部材、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：液体回收部件，基板保持部件，曝光装置及装置的制造方法
公开(公告)号：WO2007139017A1
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：PCT/JP2007/060703
申请日：2007-05-25
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341
摘要：　基板保持部材（４）は、液浸露光される基板（Ｐ）を着脱可能に保持する第１保持部（８）と、第１保持部（８）に保持された基板（Ｐ）の上面から流出した液体（ＬＱ）が流入する開口部を備えた液体回収部材（３０）を着脱可能に保持する第２保持部（９）とを備えている。
摘要翻译：基板保持部件（4）设置有用于可拆卸地保持浸没的基板（P）的第一保持部（8）和用于可移除地保持液体回收部件（30）的第二保持部（9）用于使液体（LQ）从由第一保持部（8）保持的基板（P）的上平面流出的开口部。

52. 发明申请

WO2007119501A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007119501A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/055969
申请日：2007-03-23
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70458 , G03F7/70208 , G03F7/70283
摘要：　露光装置（ＥＸ）は、第１波長の第１露光光（ＥＬ１）を第１露光領域（ＡＲ１）に照射し、第１波長とは異なる第２波長の第２露光光（ＥＬ２）を第２露光領域（ＡＲ２）に照射する光学システム（ＰＬ）を備え、第１露光領域（ＡＲ１）に照射される第１露光光（ＥＬ１）で形成される第１パターン（ＰＡ１）の像と、第２露光領域（ＡＲ２）に照射される第２露光光（ＥＬ２）で形成される第２パターン（ＰＡ２）の像とで、基板（Ｐ）上の所定領域（Ｓ）を多重露光する。
摘要翻译：曝光装置（EX）设置有利用具有第一波长的第一曝光光（EL1）照射第一曝光区域（AR1）并用第二曝光光（EL2）照射第二曝光区域（AR2）的光学系统（PL））具有不同于第一波长的第二波长。通过施加在第一曝光区域（AR1）上的由第一曝光光（EL1）形成的第一图案（PA1）的图像和基板（P）的图像，对基板（P）上的规定区域（S）由第二曝光区域（AR2）施加的第二曝光光（EL2）形成的第二图案（PA2）。

53. 发明申请

WO2007094414A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007094414A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/JP2007/052741
申请日：2007-02-15
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70208 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/706 , G03F9/7026 , G03F9/7088
摘要：　露光装置ＥＸは、第１パターンＰＡ１の像を第１露光領域ＡＲ１に形成可能であり、第１パターンＰＡ１と異なる第２パターンＰＡ２の像を第２露光領域ＡＲ２に形成可能な投影光学系ＰＬと、第１パターンＰＡ１の像の位置情報、及び第２パターンＰＡ２の像の位置情報の少なくとも一方を求めるための第１検出系１０とを備える。検出結果に基づいて、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像と基板Ｐ上の所定領域Ｓとの位置関係を調整し、第１及び第２パターンＰＡ１，ＰＡ２の像で基板Ｐ上の所定領域Ｓを多重露光する。基板を効率良く多重露光できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）包括能够在第一曝光区域（AR1）上形成第一图案（PA1）的图像的投影光学系统（PL）和第二曝光区域上的第二图案（PA2）的图像区域（AR2）和用于寻求第一图案（PA1）的图像的位置信息或第二图案（PA2）的图像的位置信息中的至少一个的第一检测系统（10）。基于检测结果，曝光装置调整第一图案和第二图案（PA1，PA2）的图像与基板（P）上的规定区域（S）之间的位置关系，并且多次曝光规定区域）与第一和第二图案（PA1，PA2）的图像在基板（P）上。基底可以有效地良好地多曝光。

54. 发明申请

WO2007058354A1 露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法、露光装置、並びに基板処理方法及び装置审中-公开
标题翻译：曝光方法和使用其的装置制造方法，曝光装置和基板处理方法和装置
公开(公告)号：WO2007058354A1
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：PCT/JP2006/323148
申请日：2006-11-21
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/70341
摘要：基板上の所定領域を露光する露光方法は、基板上に第１液体（ＬＱ１）の液浸領域（ＬＲ１）を形成して所定領域に対する第１露光を実行する動作と、第１露光が実行された基板上に第１液体とは異なる第２液体（ＬＱ２）の液浸領域（ＬＲ２）を形成して所定領域に対する第２露光を実行する動作と、第１露光と第２露光とで基板の表面状態（Ｔｃ１、Ｔｃ２）を異ならせることを含む。液浸法を用いて基板の第１及び第２露光を行う場合にも、各露光において基板上に液体の液浸領域を良好に形成し、基板を良好に露光することができる。
摘要翻译：用于曝光衬底上的预定区域的曝光方法包括在衬底上形成第一液体（LQ1）的浸没区域（LR1）并对预定区域进行第一曝光的步骤，形成浸没区域与经过第一曝光的基板上的第一液体不同的第二液体（LQ2）的LR2）和对预定区域进行第二次曝光的步骤，以及将基板的表面状态（Tc1，Tc2）第一次曝光和第二次曝光。即使通过液浸法进行基板的第一曝光和第二次曝光，也可以在每次曝光中在基板上良好地形成液浸区域，并且能够良好地露出基板。

55. 发明申请

WO2006112436A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006112436A1
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：PCT/JP2006/308040
申请日：2006-04-17
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 白石健一 , 藤原朋春 , 大和壮一 , 三輪晃弘
发明人：長坂博之 , 白石健一 , 藤原朋春 , 大和壮一 , 三輪晃弘
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70858 , G03F7/70891
摘要：　露光装置は、露光光（ＥＬ）の光路空間（Ｋ１）を第１液体（ＬＱ）で満たして液浸空間を形成する液浸空間形成部材（７０）と、液浸空間の形成の解除に伴う液浸空間形成部材（７０）の温度変化を抑制する温度調整機構（６０）とを備える。
摘要翻译：曝光装置包括：通过用第一液体（LQ）填充曝光光（EL）的光路空间（K1）来形成液浸空间的液浸空间形成部件（70）以及用于抑制伴随液浸空间的形成的释放的液浸空间形成部件（70）的温度变化的温度调节机构（60）。

56. 发明申请

WO2006098472A1 プレート部材、基板保持装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：板构件，基板保持装置，曝光装置和曝光方法以及装置制造方法
公开(公告)号：WO2006098472A1
公开(公告)日：2006-09-21
申请号：PCT/JP2006/305535
申请日：2006-03-20
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 藤原朋春
发明人：長坂博之 , 藤原朋春
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68735 , G03F7/11 , G03F7/70341 , G03F7/707 , H01L21/68714 , H01L21/6875 , H01L21/68757
摘要：　基板ホルダＰＨは、基板Ｐを保持する第１保持部ＰＨ１と、第１保持部ＰＨ１に保持された基板Ｐの側面Ｐｃに対して所定のギャップＡを介して対向し、撥液性を有するプレート部材Ｔの内側面Ｔｃと、内側面Ｔｃの上部に設けられた面取り部Ｃとを備えている。基板Ｐの側面Ｐｃには撥液性を有する撥液領域が設けられており、面取り部Ｃは、第１保持部ＰＨ１に保持された基板Ｐの撥液領域と対向するように設けられている。これによって、基板の裏面側に液体が浸入することを抑制できる基板保持装置が提供される。
摘要翻译：一种基板保持装置，包括：具有保持基板（P）的第一保持部（PH1）的基板保持架（PH），与所述基板的侧面（Pc）相对的平板构件（T）的内表面（Tc）（P）通过规定的间隙（A）保持并具有防液性，以及在内表面（Tc）的上部形成的倒角部（C）。在基板（P）的侧面（Pc）上形成具有疏液性的拒水区域，并且形成倒角部（C），以面对由第一（P）保持的基板（P）的拒水区域保持部分（PH1）。因此，可以提供能够抑制液体侵入基板的背面侧的基板保持装置。

57. 发明申请

WO2006041086A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006041086A1
公开(公告)日：2006-04-20
申请号：PCT/JP2005/018783
申请日：2005-10-12
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341
摘要：　露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬの像面側の光路空間を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光する。露光装置ＥＸは、液体ＬＱの光学的な特性を計測する計測装置３０を備えている。計測結果に基づいて液体混合装置１９により液体の光学的特性を調整してもよい。液浸露光するときの露光精度を所望状態に維持できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）用液体（LQ）填充投影光学系统（PL）的图像表面侧的光路空间，并通过投影光学系统（PL）和液体（LQ）暴露基板（P）。曝光装置（EX）具有用于测量液体（LQ）的光学特性的测量装置（30）。根据测量结果，可以通过液体混合装置（19）来调节液体的光学特性。因此，可以在期望的状态下进行浸渍曝光时保持曝光精度。

58. 发明申请

WO2006030908A1 基板保持装置、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：基板保持装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006030908A1
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：PCT/JP2005/017173
申请日：2005-09-16
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 渋田慎 , 中野勝志 , 吉田雄一 , 高岩宏明
发明人：長坂博之 , 渋田慎 , 中野勝志 , 吉田雄一 , 高岩宏明
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , H01L21/6715 , H01L21/6838 , H01L21/68735 , H01L21/6875 , Y10T29/49002
摘要：　基板の裏面側への液体の浸入を防止できる基板保持装置を提供する。基板保持装置（ＰＨ）は、基材（ＰＨＢ）と、基材（ＰＨＢ）に形成され、基板（Ｐ）を保持する第１保持部（ＰＨ１）と、基材（ＰＨＢ）に形成され、第１保持部（ＰＨ１）で保持された処理基板（Ｐ）の周囲を囲むようにプレート部材（Ｔ）を保持する第２保持部（ＰＨ２）とを備えている。第２保持部（ＰＨ２）は、プレート部材（Ｔ）の裏面（Ｔｂ）側に第２空間（３２）が形成されるようにプレート部材（Ｔ）を保持している。プレート部材（Ｔ）の裏面（Ｔｂ）には、第１保持部（ＰＨ１）で保持された基板（Ｐ）と第２保持部（ＰＨ２）で保持されたプレート部材（Ｔ）との間のギャップ（Ａ）から浸入した液体（ＬＱ）を吸収する吸収部材（１００）が配置されている。
摘要翻译：能够防止液体进入基板的背面的基板保持装置。基板保持装置（PH）设置有基材（PHB），在基材（PHB）上形成的用于保持基板（P）的第一保持部（PH1），以及形成在基板用于通过围绕由第一保持部（PH1）保持的处理基板（P）的周围来保持板构件（T）的基材（PHB）。第二保持部（PH2）保持板构件（T），以在板构件（T）的后平面（Tb）侧形成第二空间（32）。在板状构件（T）的背面（Tb）上设置吸收构件（100），用于吸收从由第一保持部（T）保持的基板（P）之间的间隙（A）进入的液体（LQ） PH1）和由第二保持部（PH2）保持的板构件（T）。

59. 发明申请

WO2006009169A1 露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法及其制造方法
公开(公告)号：WO2006009169A1
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/JP2005/013311
申请日：2005-07-20
申请人：株式会社ニコン , 藤原朋春 , 長坂博之
发明人：藤原朋春 , 長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/38
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/11 , Y10S430/162
摘要：　液体を所望状態に維持して基板を良好に露光できる露光方法を提供する。液体を介して露光される基板（Ｐ）を構成する基材（１）の上面（１Ａ）は、感光材（２）で被覆される有効領域（４）を有し、有効領域（４）の外側で基材（１）の表面が液体と接触しないように、有効領域（４）の外側の基材（１）の表面の少なくとも一部が第１材料（３）で被覆されている。
摘要翻译：公开了一种曝光方法，其中在保持液体处于所需状态的情况下，基板充分暴露于光。构成通过液体曝光的基板（P）的基座（1）的上表面（1A）具有被感光材料（2）覆盖的有效区域（4）。有效区域（4）周围的基部（1）的表面的至少一部分被第一材料（3）覆盖，使得基部（1）的表面不与有效区域周围的液体接触（4）。

60. 发明申请

WO2005071717A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005071717A1
公开(公告)日：2005-08-04
申请号：PCT/JP2005/000350
申请日：2005-01-14
申请人：株式会社ニコン , 東京エレクトロン株式会社 , 長坂博之 , 山本太郎 , 平河修
发明人：長坂博之 , 山本太郎 , 平河修
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要：　投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、前記液体を供給するための供給管と、前記液体を回収するための回収管と、前記供給管と前記回収管とを接続する接続管と、前記供給管からの液体の供給を停止しているときに、前記供給管に流入した液体が前記接続管を介して前記回収管に流れるように流路の切り替えを行う切替手段とを備える。前記供給管に接続され該供給管に供給される液体の温度調整を行う温調装置を更に備え、前記温調装置は、液体の温度を粗く調整するラフ温調器と、前記ラフ温調器と前記供給管との間に配置され、液体の温度の微調整を行うファイン温調器とを有するようにしても良い。
摘要翻译：一种曝光装置，用于通过投影光学系统和液体将曝光的光照射到基板上而使基板曝光。曝光装置具有用于供给液体的供给管，用于回收液体的回收管，用于连接供给管和回收管的连接管，以及切换装置，当从供给管供给液体是停止流动路径，使得流入供给管的液体通过连接管流到回收管。曝光装置还可以具有连接到供给管的温度调节装置，并且调节供应给供应管的液体的温度，其中温度调节装置具有粗略的温度调节器，用于大致调节液体的温度和精细温度调节器提供在粗调节温度调节器和供应管之间，并精细调节液体的温度。

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