专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

41. 发明申请

WO2007052659A1 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007052659A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/JP2006/321751
申请日：2006-10-31
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341
摘要：　露光装置（ＥＸ）は、基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して前記基板を露光する露光装置であって、前記露光光が射出される凹面（２）を有する光学素子（ＬＳ１）と、前記凹面と対向可能な物体（４）に設けられ、前記凹面と前記物体との間の空間に液体を供給する供給口（１２）と、前記物体に設けられ、前記凹面と前記物体との間の流体を吸引する吸引口（２２）と、を備える。
摘要翻译：曝光装置（EX）用于通过用曝光光（EL）照射基板来曝光基板（P）。该曝光装置设置有具有用于施加曝光光的凹面（2）的光学元件（LS1）布置在物体（4）上的供给口（12），所述供给口（12）可面对所述凹陷表面，以用液体供应所述凹入表面和所述物体之间的空间; 和吸入口（22），其设置在物体上，并且在凹入表面和物体之间吸入流体。

42. 发明申请

WO2006118108A1 露光方法、露光装置、デバイス製造方法、及び膜の評価方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置，制造装置的方法和胶片评价方法
公开(公告)号：WO2006118108A1
公开(公告)日：2006-11-09
申请号：PCT/JP2006/308648
申请日：2006-04-25
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70341
摘要：　露光方法は、基板（Ｐ）上に液体（ＬＱ）の液浸領域（ＬＲ）を形成する工程と、基板（Ｐ）の表面と液体（ＬＱ）との間に作用する付着力に応じて露光条件を決定する工程と、露光条件に基づいて液浸領域（ＬＲ）の液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）を露光する工程と、を有する。
摘要翻译：公开了一种曝光方法，包括在基板（P）上形成液体（LQ）的浸渍区域（LR）的步骤，根据作用在基板（P）的表面和液体（LQ），以及根据所确定的曝光条件，通过浸渍区域（LR）中的液体（LQ）使基板（P）曝光的步骤。

43. 发明申请

WO2006106836A1 露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006106836A1
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：PCT/JP2006/306682
申请日：2006-03-30
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 萩原恒幸
发明人：長坂博之 , 萩原恒幸
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/706
摘要：　液浸機構（１）を用いて計測部材（６５）上に液浸領域（ＬＲ）を形成するとともに、液浸領域（ＬＲ）を形成する液体（ＬＱ）を介して計測光を受光して、基板（Ｐ）の露光条件を決定するための計測を行い、計測時と露光時との液体（ＬＱ）の圧力差、及び計測結果を考慮して、基板（Ｐ）を露光する。
摘要翻译：通过使用液浸机构（1）在测量部件（65）上形成液浸区域（LR），通过形成液浸区域（LR）的液体（LQ）接收测量光，进行测量用于决定基板（P）的曝光条件。然后，考虑到测定时的液体（LQ）和暴露时的液体的压力（测量结果）之间的差异，露出基板（P）。

44. 发明申请

WO2006041083A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2006041083A1
公开(公告)日：2006-04-20
申请号：PCT/JP2005/018778
申请日：2005-10-12
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70341
摘要：　露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路空間を液体ＬＱで満たし、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光する。投影光学系ＰＬの第１光学素子ＬＳ１は、液体ＬＱに接する凹面部２を有している。露光装置ＥＸは、凹面部２の内側の異物を除去する除去装置４０を備えている。投影光学系と液体とを介して露光光を像面側まで良好に到達させて、液浸露光を実現する。
摘要翻译：曝光装置（EX）用液体（LQ）填充曝光光（EL）的光路空间，并通过投影光学（EL）照射曝光用光（EL）而使基板（P）曝光系统（PL）和液体（LQ）。投影光学系统（PL）的第一光学元件（LS1）设置有与液体（LQ）接触的凹面部分（2）。曝光装置（EX）设置有用于在内表面部分（2）的内侧去除异物的去除装置（40）。通过允许曝光光通过投影光学系统和液体优异地到达图像平面进行浸渍曝光。

45. 发明申请

WO2005122220A1 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005122220A1
公开(公告)日：2005-12-22
申请号：PCT/JP2005/010484
申请日：2005-06-08
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之 , 恩田稔
发明人：長坂博之 , 恩田稔
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要：露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬを有する。投影光学系ＰＬは、その像面に最も近い第１光学素子ＬＳ１と、第１光学素子ＬＳ１に次いで像面に近い第２光学素子ＬＳ２とを有する。第１光学素子ＬＳ１は、基板Ｐの表面と対向するように配置された下面Ｔ１と、第２光学素子ＬＳ２と対向するように配置された上面Ｔ２とを有している。上面Ｔ２のうち露光光ＥＬが通過する領域ＡＲ’を含む領域に液浸領域が形成されるように第１光学素子ＬＳ１の上面Ｔ２と第２光学素子ＬＳ２との間が第２液体ＬＱ２で満たされ、第１光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１側の第１液体ＬＱ１と上面Ｔ２側の第２液体ＬＱ２とを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射することで基板Ｐが露光される。光学素子の汚染に起因する露光精度の劣化を防止でき、液浸領域の巨大化を抑制できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）具有投影光学系统（PL）。投影光学系统（PL）具有最靠近投影光学系统（PL）的图像表面的第一光学元件（LS1）和最靠近第一光学元件（LS1）旁边的图像表面的第二光学元件（LS2）。第一光学元件（LS1）具有设置成面向基板（P）的表面的下表面（T1）和设置成面对第二光学元件（LS2）的上表面（T2）。第二液体（LQ2）被放置在第一光学元件（LS1）的上表面（T2）和第二光学元件（LS2）之间，使得在包括该区域（AR'）的区域中形成液浸区域曝光光（EL）通过的上表面（T2）。曝光光（EL）通过第一光学元件（LS1）的下表面（T1）侧的第一液体（LQ1）和上表面（T2）上的第二液体（LQ2）在基板（P）上发射）侧，以露出衬底（P）。可以防止由光学元件的污染引起的曝光精度的恶化，并且可以限制液浸区域的变大。

46. 发明申请

WO2005081295A1 露光方法、露光装置及び露光システム並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置，曝光系统和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2005081295A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/JP2005/002538
申请日：2005-02-18
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70 , G03F7/70341 , G03F7/70458
摘要：ウエハ（Ｗ１（又はＷ２））の同一レジスト層に対して複数回の露光を行うに際し、複数回の露光のうちの少なくとも１回の露光では、例えば、露光光（ＩＬ）をウエハ（Ｗ１（又はＷ２））上に投射する投影光学系（ＰＬ）とウエハとの間の空間を液体給排ユニット（３２）により水で浸すことにより、ウエハに到達する露光光（ＩＬ）の実質的な波長を、他の回の露光における露光光（ＩＬ）の実質的な波長とは異なるようにする。これにより、高精度かつ高スループットな露光を実現する。
摘要翻译：至少在多次曝光中曝光一次时，多次曝光晶片（W1（或W2））的相同抗蚀剂层时，曝光光的实际波长（IL）允许在其他时间的曝光中，例如通过在突出曝光光（IL）的投影光学系统（PL）之间浸渍空间，到达晶片的曝光光（IL）的实际波长不同，在晶片（W1（或W2））上，并且通过液体供应/排出单元（32）具有水的晶片。因此，获得了高精度和高通量的曝光。

47. 发明申请

WO2005067013A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置的制造方法
公开(公告)号：WO2005067013A1
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：PCT/JP2004/019813
申请日：2004-12-27
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70725
摘要：　露光装置ＥＸは、液体供給機構１０から供給された液体ＬＱと投影光学系ＰＬとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光する。液体供給機構１０から供給された液体ＬＱの圧力を調整する圧力調整機構９０を備えている。液浸領域を良好に形成して高い露光精度及び計測精度を得ることができる。
摘要翻译：曝光装置（EX）通过从液体供给机构（10）供给的液体（LQ）和投影光学系统（PL）照射基板（P）上的曝光光（EL）来曝光基板（P）。曝光装置（EX）具有用于调节从液体供给机构（10）供给的液体（LQ）的压力的压力调节机构（90）。优良的液浸区域，以获得高的曝光精度和测量精度。

48. 发明申请

WO2005006415A1 露光装置及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：WO2005006415A1
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：PCT/JP2004/010057
申请日：2004-07-08
申请人：株式会社ニコン , 株式会社ニコンエンジニアリング , 長坂博之 , 奥山猛
发明人：長坂博之 , 奥山猛
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70883 , G03F7/70341
摘要：この露光装置は、基板上の一部に液浸領域を形成し、該液浸領域を形成する液体と投影光学系とを介してパターンの像を基板上に投影することによって前記基板を露光する露光装置であって、前記基板表面に対向するように配置された供給口を有する液体供給機構を備え、前記液体供給機構の流路にはバッファ空間が形成されており、前記バッファ空間に所定量以上の液体を貯めてから前記供給口への液体供給が開始される。
摘要翻译：公开了一种曝光装置，其中通过在基板的一部分上形成浸渍区域并通过形成浸入区域的液体和投影光学系统将图案图像投影到基板上来进行基板的曝光。曝光装置包括具有与基板的表面相对布置的供给开口的液体供给机构。液体供给机构的通道设置有缓冲空间，并且在将一定量的液体储存在缓冲空间中之后，液体供给机构开始向供给口供给液体。

49. 发明申请

WO2009099021A1 ステージ装置、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：阶段装置，曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2009099021A1
公开(公告)日：2009-08-13
申请号：PCT/JP2009/051687
申请日：2009-02-02
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341
摘要：　ステージ装置２は、第１物体を保持するテーブル部材１７と、テーブル部材に設けられ、第１液体を回収するための液体回収口４０と、テーブル部材の内部に形成され、液体回収口と接続され、テーブル部材の温度を調整するための第２液体が流れる第１流路４１と、第１流路の圧力を調整する圧力調整装置４７とを備えている。ステージ装置２は、気化熱による温度変化を抑制できる。ステージ装置２を備える露光装置ＥＸが提供される。
摘要翻译：本发明提供一种台架装置（2），其具备安装有第一主体的工作台部件（17），设置在工作台部件内的回收第一流体的流体回收口（40），内部形成的第一流体管道所述工作台构件连接到所述流体回收端口，并且第二流体通过所述第二流体流动以调节所述工作台构件的温度;以及压力调节装置，其调节所述第一流体管道中的压力。舞台装置（2）能够限制由蒸发热引起的温度变化。提供了配备有舞台装置（2）的曝光装置（EX）。

50. 发明申请

WO2008069211A1 洗浄用液体、洗浄方法、液体発生装置、露光装置、及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：清洁液体，清洁方法，液体生成装置，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2008069211A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：PCT/JP2007/073414
申请日：2007-12-04
申请人：株式会社ニコン , 栗田工業株式会社 , 長坂博之 , 森田博志 , 床嶋裕人
发明人：長坂博之 , 森田博志 , 床嶋裕人
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70341 , Y10T137/0318
摘要：　露光装置は、露光用液体を介して露光光で基板を露光する。洗浄用液体は、露光装置の少なくとも一部を洗浄するために、露光装置に供給される。洗浄用液体には、所定ガスが飽和濃度以上に溶解されている。
摘要翻译：在曝光装置中，通过曝光液将基板曝光于曝光光束。向曝光装置供给清洁液体以清洁至少一部分曝光装置。在清洗液中，规定的气体以饱和浓度以上溶解。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式