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21. 发明申请

WO2015088741A1 CLEANING SOLUTION AND METHODS OF CLEANING A TURBINE ENGINE 审中-公开
标题翻译：清洁解决方案和清洁涡轮发动机的方法
公开(公告)号：WO2015088741A1
公开(公告)日：2015-06-18
申请号：PCT/US2014/066732
申请日：2014-11-21
申请人： GENERAL ELECTRIC COMPANY
发明人： TIBBETTS, Nicole, Jessica , KOOL, Lawrence, Bernard , BEWLAY, Bernard, Patrick , ANDERSON, Denise, Anne , MCLEAN, Nathan , TELFEYAN, Eric , HANSEN, Victoria, May
IPC分类号： C23G1/02 , C11D11/00 , C23G1/08 , F01D25/00 , C23G1/06
CPC分类号： F01D25/002 , C11D3/2086 , C11D3/30 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D11/0041 , C23G1/02 , C23G1/061 , C23G1/088 , Y02T50/672
摘要： A cleaning solution for a turbine engine is provided. The cleaning solution includes a reagent composition including water within a range between about 25 percent and about 70 percent by volume of the reagent composition, an acidic component within a range between about 0.1 percent and about 50 percent by volume of the reagent composition, and an amine component within a range between about 1 percent and 40 percent by volume of the reagent composition. The reagent composition is diluted with water by a factor of up to about 40 to form the cleaning solution. The cleaning solution has a pH value in the range between 2.5 and 7.0. The cleaning solution is used to clean a component of the turbine engine.
摘要翻译：提供了一种用于涡轮发动机的清洁溶液。清洁溶液包括试剂组合物，其包含在试剂组合物的体积的约25体积％至约70体积％之间的水，在试剂组合物的体积百分比为约0.1体积％至约50体积％范围内的酸性组分，胺组分在试剂组合物的体积的约1％至40体积％的范围内。试剂组合物用水稀释高达约40倍，形成清洗液。清洁溶液的pH值在2.5和7.0之间。清洁溶液用于清洁涡轮发动机的部件。

22. 发明申请

WO2012075686A1 一种厚膜光刻胶清洗液审中-公开
公开(公告)号：WO2012075686A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/CN2011/002055
申请日：2011-12-09
申请人：安集微电子(上海)有限公司 , 刘兵 , 彭洪修 , 孙广胜
发明人：刘兵 , 彭洪修 , 孙广胜
IPC分类号： G03F7/42 , C23G1/06 , C11D1/83
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/0073 , C11D3/3765 , C11D7/06 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C23G5/036 , G03F7/425

23. 发明申请

WO2012024680A1 RUST REMOVING COMPOSITION 审中-公开
标题翻译：去除组合物
公开(公告)号：WO2012024680A1
公开(公告)日：2012-02-23
申请号：PCT/US2011/048644
申请日：2011-08-22
申请人： 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY , WEI, Ying Wei , LIU, Ting , QIU, Kai
发明人： WEI, Ying Wei , LIU, Ting , QIU, Kai
IPC分类号： C23G1/08 , C11D1/12 , C11D3/02 , C11D3/20 , C11D3/00 , C11D11/00 , C23G1/06
CPC分类号： C23G1/088 , C11D1/143 , C11D1/22 , C11D3/0073 , C11D3/042 , C11D3/046 , C11D3/2006 , C11D3/2068 , C11D3/2075 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/349 , C11D11/0029 , C23G1/06
摘要： A rust removing composition is described. The composition, based on the total mass of the composition, comprises: 10 to 20% by mass of an inorganic acid; 1 to 10% by mass of an organic acid; 1 to 8% by mass of a penetrant selected from the group consisting of at least one of C 2 -C 4 short-chain ethers and short-chain alcohols; 2 to 10% by mass of a sulfonic acid and/or sulfonate type anionic surfactant; 0.5 to 10% by mass of a corrosion inhibitor; and a balance of water.
摘要翻译：描述除锈组合物。基于组合物的总质量的组合物包含：10〜20质量％的无机酸; 1〜10质量％的有机酸; 1〜8质量％的选自C2-C4短链醚和短链醇中的至少一种的渗透剂; 2〜10质量％的磺酸和/或磺酸盐型阴离子表面活性剂; 0.5〜10质量％的缓蚀剂; 和水的平衡。

24. 发明申请

WO2012009968A1 一种光刻胶的清洗液审中-公开
公开(公告)号：WO2012009968A1
公开(公告)日：2012-01-26
申请号：PCT/CN2011/001217
申请日：2011-07-25
申请人：安集微电子(上海)有限公司 , 刘兵 , 彭洪修 , 孙广胜
发明人：刘兵 , 彭洪修 , 孙广胜
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02 , C23G1/06 , C11D1/83
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D7/06 , C11D7/261 , C11D7/3218 , C11D7/3281 , C11D7/5013 , C23F1/34 , G03F7/425 , H01L21/02057 , H01L21/31133

25. 发明申请

WO2010060272A1 一种半导体晶圆金属基材保护液及其使用方法审中-公开
公开(公告)号：WO2010060272A1
公开(公告)日：2010-06-03
申请号：PCT/CN2009/001283
申请日：2009-11-19
申请人：安集微电子(上海)有限公司 , 宫勇 , 彭洪修 , 刘兵 , 于昊
发明人：宫勇 , 彭洪修 , 刘兵 , 于昊
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02 , C23F11/173 , C11D3/37 , C23G1/06 , C23G1/18
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/3773 , H01L21/02071

26. 发明申请

WO2010037266A1 一种去除光阻层残留物的清洗液审中-公开
公开(公告)号：WO2010037266A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：PCT/CN2009/001085
申请日：2009-09-25
申请人：刘兵 , 彭洪修 , 于昊
发明人：刘兵 , 彭洪修 , 于昊
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/02 , C23G1/06 , C11D1/66
CPC分类号： C23G1/06 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D11/0047 , G03F7/425 , H01L21/02068 , H01L21/31133

27. 发明申请

WO2008119533A1 VERFAHREN ZUR ENTFERNUNG VON KORROSIONSSCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：工艺对废水腐蚀分层损伤
公开(公告)号：WO2008119533A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/002541
申请日：2008-03-31
申请人： ASA SPEZIALENZYME GMBH , CORDES, Arno , KUNZ, Peter, M. , HOFERICHTER, Petra , STEBEL, Tatjana
发明人： CORDES, Arno , KUNZ, Peter, M. , HOFERICHTER, Petra , STEBEL, Tatjana
IPC分类号： C23G1/02 , C23G1/06 , C23G1/08 , C23F14/02 , C02F1/50 , C02F5/12 , C09K8/528
CPC分类号： C23G1/088 , C02F5/00 , C02F2303/08 , C23F14/02 , C23G1/025 , C23G1/061
摘要： Beschrieben wird ein Korrosionsentferner enthaltend die folgenden Komponenten: (a) mindestens ein biologischer Komplexbildner; (b) mindestens ein Puffersystem, insbesondere eine organische Säure enthaltend, wobei der pH-Wert des Korrosionsentferners zwischen 3 und 6 liegt. Weiterhin werden ein Verfahren zu dessen Herstellung sowie die bevorzugte Verwendung beschrieben.
摘要翻译：一个Korrosionsentferner描述包括下列部件：（a）至少一种有机配位剂; （B）至少一种缓冲系统，在含有特定的有机酸，其中，所述Korrosionsentferners的3和6之间将pH被定位。此外，描述了它的制备和处理的优选的用途。

28. 发明申请

WO2007009364A1 清洗液及其用途审中-公开
公开(公告)号：WO2007009364A1
公开(公告)日：2007-01-25
申请号：PCT/CN2006/001701
申请日：2006-07-17
申请人：安集微电子(上海)有限公司 , 俞昌 , 肖正龙 , 杨春晓 , 荆建芬 , 徐春
发明人：俞昌 , 肖正龙 , 杨春晓 , 荆建芬 , 徐春
IPC分类号： C23G1/06 , C23G1/10 , C23G1/12 , C08L33/08 , C08L33/10 , C08L33/12
CPC分类号： C11D11/0029 , C11D3/0073 , C11D3/3757
摘要： The present invention defines a washing solution which includes at least an anti corrosion agent. And also the invention defines the use of the washing solution in washing the metal substrate. As comparing with the traditional ones, the washing solution of the invention can notably reduce the corrosion of metal material and has some advantages as following: (1) reducing the defect of metal surface remarkably; (2) improving the flatness of metal surface evidently; (3) improving the quality of articles and increasing the rate of yield in the production; (4) improving washing efficiency.

29. 发明申请

WO02027409A1 PHOTORESIST STRIPPER/CLEANER COMPOSITIONS CONTAINING AROMATIC ACID INHIBITORS 审中-公开
标题翻译：含有芳香酸类抑制剂的光电分离器/清洁剂组合物
公开(公告)号：WO02027409A1
公开(公告)日：2002-04-04
申请号：PCT/US2001/029198
申请日：2001-09-18
IPC分类号： B08B3/08 , C09D9/00 , C11D3/00 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/50 , C11D11/00 , C23G1/06 , C23G1/18 , G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304 , H01L21/311 , C11D1/04
CPC分类号： C23G1/061 , C09D9/00 , C11D3/0073 , C11D7/264 , C11D7/265 , C11D7/3263 , C11D7/5013 , C11D11/0047 , C23G1/06 , C23G1/18 , G03F7/423 , G03F7/425 , H01L21/31133
摘要： A stripping and cleaning composition for the removal of residue from metal and dielectric surfaces in the manufacture of semi-conductors and microcircuits. The composition is an aqueous system including organic polar solvents including corrosive inhibitor component from a select group of aromatic carboxylic acids used in effective inhibiting amounts. A method in accordance with this invention for the removal of residues from metal and dielectric surfaces comprises the steps of contacting the metal or dielectric surface with the above inhibited compositions for a time sufficient to remove the residues.
摘要翻译：用于在半导体和微电路的制造中从金属和电介质表面除去残余物的剥离和清洁组合物。该组合物是包含有机极性溶剂的水性体系，包括选自有效抑制量的芳族羧酸的一组的腐蚀抑制剂组分。根据本发明的用于从金属和电介质表面去除残余物的方法包括以下步骤：使金属或电介质表面与上述抑制的组合物接触足以除去残余物的时间。

30. 发明申请

WO02013242A2 COMPOSITION FOR CLEANING CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：清洁化学机械平面设备的组合物
公开(公告)号：WO02013242A2
公开(公告)日：2002-02-14
申请号：PCT/US2001/024515
申请日：2001-08-03
IPC分类号： C11D1/68 , C11D3/20 , C11D3/30 , C11D11/00 , C23G1/06 , C23G1/18 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/02052 , C11D3/30 , C11D11/0047 , C23G1/061 , C23G1/18
摘要： The present invention relates to chemical compositions and methods of use for cleaning CMP equipment, including the interiors of delivery conduits carrying CMP slurry to the necessary sites. The chemical compositions of the present invention are also useful for post-CMP cleaning of the wafer itself. Three classes of cleaning compositions are described, all of which are aqueous solutions. One class operates in a preferable pH range from about 11 to about 12 and preferably contains one or more non-ionic surfactants, one or more simple amines, a surfactant or sticking agent such as one or more soluble dialcohol organic compounds and one or more quaternary amines. A second class of cleaning composition operates in a preferable pH range of approximately 8.5 and contains citric acid and oxalic acid. A third class of compositions is acidic, having a preferable pH range from about 1.5 to about 3, preferably containing at least one oxidizing acid, at least one chelating agent, at least one sticking agent and at least one anionic surfactant. HF and KOH are substantially absent from the preferred compositions of the present invention. Some compositions of the present invention are shown to be advantageously used for cleaning the slurry distribution system of CMP apparatus.
摘要翻译：本发明涉及用于清洁CMP设备的化学组成和方法，包括将CMP浆料输送到必要场所的输送管道的内部。本发明的化学组成也可用于晶片本身的CMP后清洗。描述了三类清洁组合物，所有这些都是水溶液。一类在约11至约12的优选pH范围内操作，并且优选含有一种或多种非离子表面活性剂，一种或多种简单胺，表面活性剂或粘着剂，例如一种或多种可溶性二醇有机化合物和一种或多种季铵胺。第二类清洁组合物在约8.5的优选pH范围内操作，并且含有柠檬酸和草酸。第三类组合物是酸性的，具有约1.5至约3的优选pH范围，优选含有至少一种氧化酸，至少一种螯合剂，至少一种粘着剂和至少一种阴离子表面活性剂。 HF和KOH基本上不存在于本发明的优选组合物中。显示出本发明的一些组合物有利地用于清洁CMP装置的浆料分配系统。

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