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21. 发明申请

WO2011130397A2 IMPROVED SILICON NITRIDE FILMS AND METHODS 审中-公开
标题翻译：改进的氮化硅膜和方法
公开(公告)号：WO2011130397A2
公开(公告)日：2011-10-20
申请号：PCT/US2011032303
申请日：2011-04-13
申请人： NOVELLUS SYSTEMS INC , HAUSMANN DENNIS M , HENRI JON , SRIRAM MANDYAM , VAN SCHRAVENDIJK BART J
发明人： HAUSMANN DENNIS M , HENRI JON , SRIRAM MANDYAM , VAN SCHRAVENDIJK BART J
IPC分类号： H01L21/318
CPC分类号： H01L21/0228 , C23C16/045 , C23C16/345 , C23C16/402 , C23C16/45523 , C23C16/4554 , C23C16/56 , H01L21/02164 , H01L21/0217 , H01L21/02274 , H01L21/02348 , H01L21/28562 , H01L21/67017 , H01L21/6719 , H01L21/67201 , H01L21/76224 , H01L21/76825 , H01L21/76826 , H01L21/76829 , H01L21/76837 , H01L21/76898
摘要： Described are methods of making SiN materials on substrates, particularly SiN thin films on semiconductor substrates. Improved SiN films made by the methods are also included.
摘要翻译：描述了在衬底上制造SiN材料，特别是在半导体衬底上的SiN薄膜的方法。还包括通过这些方法制备的改进的SiN膜。

22. 发明申请

WO2011120385A1 基片上载装置审中-公开
公开(公告)号：WO2011120385A1
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：PCT/CN2011/071920
申请日：2011-03-17
申请人：东莞宏威数码机械有限公司 , 杨明生 , 郭业祥 , 刘惠森 , 范继良 , 王勇 , 王曼媛
发明人：杨明生 , 郭业祥 , 刘惠森 , 范继良 , 王勇 , 王曼媛
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67201

23. 发明申请

WO2011024762A1 ロードロック装置及び処理システム审中-公开
标题翻译：负载锁定装置和处理系统
公开(公告)号：WO2011024762A1
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/JP2010/064194
申请日：2010-08-23
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 阪上博充
发明人：阪上　博充
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67739 , H01L21/67201
摘要：　真空室と大気室との間にゲートバルブを介して連結されると共に真空雰囲気と大気圧雰囲気とを選択的に実現することができるロードロック装置であって、ロードロック容器と、ロードロック容器内に設けられて複数枚の被処理体を複数段に亘って支持する支持部を有する支持手段と、ロードロック容器内の雰囲気を大気圧に復帰する大気圧復帰ガスを冷却ガスとして噴射するために支持部に対応させて設けられたガス噴射孔を有するガス導入手段と、ロードロック容器内の雰囲気を真空排気する真空排気系とを備える。
摘要翻译：一种负载锁定装置，其通过闸阀连接在真空室和大气室之间，并能够选择性地形成真空气氛和大气压力气氛。所述装载锁定装置包括：装载锁定容器; 设置在所述装载锁定容器内并具有支撑部分的支撑装置，所述支撑部分用于多个阶段支撑待处理的物体; 具有气体排出孔的气体导入装置，该气体排出孔设置成与支撑部相对应，并且作为冷却气体排出用于将负载锁定容器内的气氛返回到大气压的返回气体; 以及用于将负载锁定容器内的气体抽真空的真空排气系统。

24. 发明申请

WO2010102187A2 STACKED LOAD-LOCK APPARATUS AND METHOD FOR HIGH THROUGHPUT SOLAR CELL MANUFACTURING 审中-公开
标题翻译：用于高通量太阳能电池制造的堆叠式装载装置和方法
公开(公告)号：WO2010102187A2
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：PCT/US2010/026331
申请日：2010-03-05
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , BORDEN, Peter, G.
发明人： BORDEN, Peter, G.
IPC分类号： H01L31/042 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67201 , C23C14/566 , C23C16/4401 , C23C16/54
摘要： An apparatus with a plurality of load-lock chambers stacked having independently controlled pressures within their interior regions is provided. According to one or more embodiments, each load-lock chamber includes a pump valve connected to a pump line and a vent valve connected to a vent line to independently control the changes of pressure within the interior regions of the chambers. Methods for conveying substrates held within these chambers from the apparatus to one or more processing chambers, which may be in-line, are also provided.
摘要翻译：提供了具有多个在其内部区域内具有独立控制的压力的负载锁定室的装置。根据一个或多个实施例，每个加载锁定室包括连接到泵管线的泵阀和连接到排气管线的排气阀，以独立地控制室内部区域内的压力变化。还提供了将保持在这些室内的基板从设备输送到一个或多个处理室的方法，其可以是在线的。

25. 发明申请

WO2010042410A2 APPARATUS FOR EFFICIENT REMOVAL OF HALOGEN RESIDUES FROM ETCHED SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：有效去除蚀刻基板上的卤素残留的装置
公开(公告)号：WO2010042410A2
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/US2009/059449
申请日：2009-10-02
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , DAVIS, Matthew F. , BAHNG, Kenneth J. , MOREY, Travis , CARDUCCI, James D.
发明人： DAVIS, Matthew F. , BAHNG, Kenneth J. , MOREY, Travis , CARDUCCI, James D.
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/02071 , H01L21/67109 , H01L21/67115 , H01L21/67201 , H01L21/68728 , H01L21/68785 , Y10T428/24008 , Y10T428/24628
摘要： An apparatus for removing volatile residues from a substrate is provided. In one embodiment, an apparatus for removing halogen-containing residues from a substrate includes a chamber suitable for operating maintaining a vacuum therein and a heat module positioned to heat a substrate disposed in the chamber. The apparatus for removing halogen-containing residues from a substrate also includes at least one of A) a temperature controlled pedestal having a projection extending radially therefrom suitable for supporting the temperature control pedestal on a ledge of the chamber body, the projection thermally isolating the base from the chamber body; B) a pair of substrate holders that include two support flanges extending radially inward from an inner edge of an arc-shaped body, each support flange having a substrate support step that includes a sloped landing; or C) a domed window.
摘要翻译：提供了一种用于从基板除去挥发性残留物的装置。在一个实施例中，用于从衬底去除含卤素残留物的设备包括适于在其中保持真空的操作的腔室和定位成加热设置在腔室中的衬底的热模块。用于从基板除去含卤素残留物的装置还包括以下中的至少一个：A）温度控制基座，其具有从其径向延伸的适于将温度控制基座支撑在腔室主体的凸缘上的突出部，从室内; B）一对基板保持器，其包括从弧形体的内边缘径向向内延伸的两个支撑凸缘，每个支撑凸缘具有包括倾斜平台的基板支撑台阶; 或C）圆顶窗。

26. 发明申请

WO2010013333A1 真空装置及び真空処理方法审中-公开
标题翻译：真空装置和真空处理方法
公开(公告)号：WO2010013333A1
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：PCT/JP2008/063730
申请日：2008-07-31
申请人：株式会社島津製作所 , 坂口澄人 , 高見芳夫 , 岡本英樹 , 北原大
发明人：坂口澄人 , 高見芳夫 , 岡本英樹 , 北原大
IPC分类号： C23C14/56 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/345 , C23C16/54 , H01L21/67155 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67201 , H01L21/67751
摘要：　真空排気可能なチャンバ（３０）と、チャンバ（３０）の上方の一部に設けられた処理室（２０）と、チャンバ（３０）の上方の他の一部に設けられたロード室（１０）と、処理室（２０）及びロード室（１０）に対向し、ワーク（１ａ、１ｂ）を処理室（２０）又はロード室（１０）の下方に搬送する搬送機構（３６）と、ロード室（１０）と搬送機構（３６）との間を上下してロード室（１０）と搬送機構（３６）との間でワーク（１ａ、１ｂ）を搬送するとともに、ロード室（１０）を真空排気可能に間仕切りする第1トレイ（１１）と処理室（２０）と搬送機構（３６）との間を上下して、処理室（２０）と搬送機構（３６）との間でワーク（１ａ、１ｂ）を搬送する第２トレイ（２１）とを備える。
摘要翻译：真空装置具有可抽空室（30），设置在可抽空腔（30）的上部的一部分处的处理室（20），设置在可抽空室（30）的上部的另一部分处的装载室（30），面向处理室（20）和负载室（10）的输送机构（36）和输送工件（1a，1b）到处理室（20）或负载室（10）下方的部分），在所述负载室（10）和所述输送机构（36）之间垂直移动以在所述负载室（10）和所述输送机构（36）之间输送工件（1a，1b）的第一托盘（11）装载室（10），使得负载室（10）能够抽真空;以及在处理室（20）和输送机构（36）之间垂直移动的第二托盘（21），以将工件（1a，1b））处理室（20）和输送机构（36）之间。

27. 发明申请

WO2009107664A1 ロードロック装置および基板冷却方法审中-公开
标题翻译：负载锁定装置和底板冷却方法
公开(公告)号：WO2009107664A1
公开(公告)日：2009-09-03
申请号：PCT/JP2009/053414
申请日：2009-02-25
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 山崎良二
发明人：山崎良二
IPC分类号： H01L21/677 , C23C16/44
CPC分类号： H01L21/67201
摘要：　ロードロック装置（６，７）は、真空の搬送室（５）に対応する圧力と大気圧との間で圧力を変動可能に設けられた容器（３１）と、容器（３１）内の圧力を搬送室（５）に対応する真空と大気圧に調整する圧力調整機構（４９）と、容器（３１）内に相対向して設けられ、ウエハ（Ｗ）を近接または接触することによりウエハ（Ｗ）を冷却する下部クーリングプレート（３２）および上部クーリングプレート（３３）と、ウエハ（Ｗ）を下部クーリングプレート（３２）の冷却位置に搬送するウエハ昇降ピン（５０）および駆動機構（５３）と、ウエハ（Ｗ）を上部クーリングプレート（３３）の冷却位置に搬送するウエハ支持部材（６０）および駆動機構（６３）とを具備する。
摘要翻译：装载锁定装置（6,7）设置有容纳在与真空传送室（5）对应的压力和大气压之间改变压力的容器; 压力调节机构（49），其将所述容器（31）内的压力调节为与所述传送室（5）对应的真空和大气; 一个下部冷却板（32）和一个上部冷却板（33），它们在容器（31）中彼此面对并通过靠近或与晶片（W）接触来冷却晶片（W） ; 晶片提升销（50）和驱动机构（53），其将晶片（W）转移到下部冷却板（32）的冷却位置; 以及将晶片（W）转移到上部冷却板（33）的冷却位置的晶片支撑部件（60）和驱动机构（63）。

28. 发明申请

WO2009096249A1 ロードロック装置および基板冷却方法审中-公开
标题翻译：负载锁定装置和底板冷却方法
公开(公告)号：WO2009096249A1
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/JP2009/050627
申请日：2009-01-19
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 佐々木義明 , 杉本隆夫
发明人：佐々木義明 , 杉本隆夫
IPC分类号： H01L21/205 , C23C14/50 , C23C16/44 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67201 , H01L21/67109
摘要：　ロードロック装置（６，７）は、真空の搬送室（５）に対応する圧力と大気圧との間で圧力を変動可能に設けられた容器（３１）と、容器（３１）内の圧力を搬送室（５）に対応する真空と大気圧に調整する圧力調整機構（４８）と、容器（３１）内に設けられウエハＷが載置または近接されて冷却されるクーリングプレート（３２）と、容器（３１）内においてウエハ（Ｗ）の変形を検出する変位センサー（６１，６２）と、搬送室（５）から高温のウエハ（Ｗ）が容器（３１）内に搬入された後のウエハ冷却期間に、変位センサー（６１，６２）が所定値以上のウエハ（Ｗ）の変形を検出した際にウエハ（Ｗ）の冷却を緩和する制御機構（２０）とを具備する。
摘要翻译：每个装载锁定装置（6,7）设置有一个容器（31），其被设置成改变对应于真空传送室（5）的压力和大气压力之间的压力; 用于将所述容器（31）中的压力调节到对应于所述传送室（5）的真空和大气压的压力调节机构（48）布置在所述容器（31）的内部的冷却板（32），用于通过将所述晶片放置在所述冷却板上或其附近来冷却晶片（W）; 位移传感器（61,62），用于检测容器（31）中的晶片（W）的变形; 以及控制机构（20），其在位移传感器（61,62）检测到所述晶片（W）的规定值以上的变形后，在所述高温晶片的晶圆冷却期间，修正所述晶片（W）的冷却（W）从传送室（5）输送到容器（31）中。

29. 发明申请

WO2009015277A1 APPARATUSES AND METHODS OF SUBSTRATE TEMPERATURE CONTROL DURING THIN FILM SOLAR MANUFACTURING 审中-公开
标题翻译：薄膜太阳能制造过程中基板温度控制的设备及方法
公开(公告)号：WO2009015277A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/US2008/071024
申请日：2008-07-24
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , CHOI, Soo Young , KADAM, Ankur , CHAE, Yong Kee
发明人： CHOI, Soo Young , KADAM, Ankur , CHAE, Yong Kee
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67236 , H01L21/67201
摘要： Apparatus and methods of substrate temperature control during thin film solar cell manufacturing are provided. One method comprises performing a temperature stabilization process on a substrate to pre-heat the substrate for a time period in a first chamber, calculating a wait time period for a second chamber, wherein the wait time period is bases on the availability of the second chamber, the availability of a vacuum transfer robot adapted to transfer the substrate from the first chamber to the second chamber, or both, and adjusting the temperature stabilization time period to compensate for the loss of heat from the substrate during the wait time period.
摘要翻译：提供了在薄膜太阳能电池制造期间的衬底温度控制的装置和方法。一种方法包括在基板上执行温度稳定处理以在第一室中预热基板一段时间，计算第二室的等待时间段，其中等待时间段基于第二室的可用性适用于将衬底从第一腔室转移到第二腔室的真空传送机器人的可用性，或两者，以及调整温度稳定时间周期以补偿在等待时间段期间来自衬底的热量损失。

30. 发明申请

WO2008070003A3 HIGH THROUGHPUT SERIAL WAFER HANDLING END STATION 审中-公开
标题翻译：高速串行水槽处理终点站
公开(公告)号：WO2008070003A3
公开(公告)日：2008-08-07
申请号：PCT/US2007024698
申请日：2007-11-30
申请人： AXCELIS TECH INC , FERRARA JOSEPH , MITCHELL ROBERT
发明人： FERRARA JOSEPH , MITCHELL ROBERT
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67213 , C23C14/48 , H01L21/67201 , H01L21/67265 , H01L21/67745
摘要： An ion implantation apparatus, system, and method are provided for transferring a plurality of workpieces between vacuum and atmospheric pressures, wherein an alignment mechanism is operable to align a plurality of workpieces for generally simultaneous transportation to a dual-workpiece load lock chamber. The alignment mechanism comprises a characterization device, an elevator, and two vertically-aligned workpiece supports for supporting two workpieces. First and second atmospheric robots are configured to generally simultaneously transfer two workpieces at a time between load lock modules, the alignment mechanism, and a FOUP. Third and fourth vacuum robots are configured to transfer one workpiece at a time between the load lock modules and a process module.
摘要翻译：提供一种用于在真空和大气压之间传送多个工件的离子注入装置，系统和方法，其中对准机构可操作以对准多个工件以便大体上同时传送到双工件装载锁定室。对准机构包括表征装置，电梯和用于支撑两个工件的两个垂直对齐的工件支撑件。第一和第二大气机器人被配置为一般在负载锁定模块，对准机构和FOUP之间同时传送两个工件。第三和第四真空机器人被配置为在加载锁模块和处理模块之间一次传送一个工件。

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