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11. 发明申请

WO2023070926A1 移送装置及医疗器械生产线审中-公开
公开(公告)号：WO2023070926A1
公开(公告)日：2023-05-04
申请号：PCT/CN2021/141586
申请日：2021-12-27
申请人：迈得医疗工业设备股份有限公司
发明人：林军华 , 陈鑫炜 , 吴泽君 , 沈友贵 , 刘志伟
IPC分类号： B08B3/02 , B08B3/08 , B08B13/00 , B65G29/00
摘要：一种移送装置及医疗器械生产线。该移送装置包括安装平台(100)、转盘(210)、转动轴(220)、转动驱动件(230)和夹持组件(300)，所述夹持组件(300)与所述转盘(210)连接并沿着所述转盘(210)周向分布，其中：所述移送装置还包括内防护件(410)，至少部分所述内防护件(410)位于所述转盘(210)和所述安装平台(100)之间，至少部分所述内防护件(410)隔离所述清洗装置(700)和所述转动轴(220)。

12. 发明申请

WO2023070711A1 一种轴承生产用清洗装置审中-公开
公开(公告)号：WO2023070711A1
公开(公告)日：2023-05-04
申请号：PCT/CN2021/128484
申请日：2021-11-03
申请人：湖南美蓓达科技股份有限公司
发明人：赵青华 , 李治良 , 梁泽显 , 谢辉
IPC分类号： B08B3/12
摘要：本公开内容公开了一种轴承生产用清洗装置，包括机架，所述机架的上方设置有固定座，所述固定座的内侧正中位置处设置有承台，所述承台的上方设置有端盖，本公开内容适用于自动化清洗设备技术领域，本公开内容中通过在承台的内部设置有插接柱，在端盖与承台的相交处开设有孔洞，这样在放置端盖时，可以将端盖与插接柱插接，在插接柱的作用下对端盖起到限位的作用。本公开内容中通过在内胆和外壳的内侧设置有固定座，这样在内胆放置稳定之后，使得固定座插接在内胆和外壳的内侧，在固定座内部缓冲支撑件的作用下，对内胆和外壳起到限位的作用，而且缓冲支撑架具有缓冲的作用，这样可以使得在缓冲支撑件的作用下避免内胆出现晃动的问题发生。

13. 发明申请

WO2023070583A1 激光雷达设备、清洁方法以及车辆审中-公开
公开(公告)号：WO2023070583A1
公开(公告)日：2023-05-04
申请号：PCT/CN2021/127674
申请日：2021-10-29
申请人：华为技术有限公司
发明人：方群 , 韦浩 , 彭旭 , 冯向兵 , 黄博林
IPC分类号： G01S7/48 , G01S17/88 , B08B3/02 , B08B13/00
摘要：一种激光雷达设备、激光雷达清洁方法（500，600）以及车辆，该激光雷达设备包括清洁装置（220）和控制单元（212）；控制单元（212）用于根据遮蔽物在雷达视窗上的位置信息，确定雷达视窗的待清洁区域，并控制清洁装置（220）对雷达视窗的待清洁区域进行清洁。相对于传统的激光雷达设备及其清洁装置，能有针对性的对遮蔽物进行清洁，提高了雷达的清洁效率。

14. 发明申请

WO2023069557A1 POST CMP BRUSH AND METHOD OF MANUFACTURE 审中-公开
公开(公告)号：WO2023069557A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/US2022/047187
申请日：2022-10-19
申请人： RAJEEV, Bajaj
发明人： RAJEEV, Bajaj
IPC分类号： H01L21/02 , B08B1/00
摘要： A brush for post chemical/mechanical polishing cleaning of a semiconductor wafer is provided, the brush comprising a microporous core with open cell pores and an outer layer of a plurality of loop fibers formed on the outer surface of the microporous core, wherein the brush has a first core flow resistance R1, a second through surface flow resistance R2, and a third flow resistance R3 across the surface and wherein R3

15. 发明申请

WO2023068538A1 가정용 에어 샤워장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2023068538A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/KR2022/013135
申请日：2022-09-01
申请人： 주식회사 원어스
发明人： 김형수 , 김예지
IPC分类号： B08B5/02 , F24F8/108 , F24F13/20 , B01D46/00 , B01D46/12 , B01D39/20 , A61L9/20 , G01J5/00 , G01N15/00
摘要： 본 발명에 따른 가정용 에어 샤워장치는 내부의 양 측부에 내부의 중앙부와 분리된 공기 유동 통로인 유로가 형성되는 몸체부와; 상기 몸체부의 하단부에 결합되어 외부 공기를 유입시키기 위한 유입부와; 상기 유입부 내부에 배치되어 상기 몸체부의 유로로 공기를 유동시키기 위한 송풍팬과; 상기 유입부 내부에 배치되어 외부 공기에 포함되는 이물질을 여과하기 위한 필터부와; 상기 몸체부의 전면에 배치되어 제어신호를 입력받는 신호입력부와; 상기 몸체부에 배치되어 사용자의 모바일폰과 연동하여 사용자의 먼지 노출 시간 및 먼지 노출 강도에 따라 사용자 맞춤의 에어 샤워 시간 및 송풍 강도를 제어하는 모바일폰 연동부를 포함한다. 상기 몸체부의 전면에는 송풍개구가 형성되고, 상기 송풍개구는 상기 몸체부의 양 측부의 유로 내에서 상기 몸체부의 높이 방향을 따라 형성되되, 서로 다른 높이에 복수 개 형성된다. 본 발명에 의해, 기존 주택의 현관 구조를 변경하지 않고 공간 효율적이면서도 간편하게 에어 샤워장치를 설치하여 이용할 수 있으며, 전체 신체에 부착된 먼지와 세균 등을 효과적으로 제거하여 실내로 유입되는 것을 방지할 수 있다.

16. 发明申请

WO2023067470A1 USE OF A COMPOSITION COMPRISING PERFORMIC ACID AS BIOCIDE IN INDUSTRIAL COOLING SYSTEMS 审中-公开
公开(公告)号：WO2023067470A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/IB2022/059932
申请日：2022-10-17
申请人： CHIMEC S.P.A.
发明人： BUCCOLINI, Marco , MANTARRO, Milena , CIARDI, Umberto , ZOCCARATO, Tatiana , BANCONE, Michele , BRUNO, Massimo , VOLPONI, Andrea
IPC分类号： A61L2/18 , A01N59/00 , B08B17/02 , C01F1/00 , F24F5/00 , F28C1/00
摘要： The present invention relates to the use of a composition comprising performic acid as biocide and/or to hinder the regrowth of microorganisms in an industrial cooling system, such as for example, a cooling tower.

17. 发明申请

WO2023066669A1 AUTOMATED MONITORING APPARATUS AND METHOD FOR MONITORING CLEANING PROCEDURES IN A FILLING MACHINE 审中-公开
公开(公告)号：WO2023066669A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/EP2022/077763
申请日：2022-10-06
申请人： SIDEL PARTICIPATIONS
发明人： OLLARI, Michele , GUERRA, Riccardo , GUERRA, Davide , PERCANNELLA, Luca
IPC分类号： B08B9/032 , B67C3/00
摘要： An automatic monitoring apparatus (20) of a cleaning system (10) for a filling machine (1) is described, the cleaning system (10) being configured to clean a filling circuit (6) of the filling machine (1) by means of a plurality of subsequent cleaning procedures; wherein the automatic monitoring apparatus (20) is configured to carry out monitoring of the cleaning procedures, so that, for each cleaning procedure and for each cleaning parameter of a set of cleaning parameters, the monitoring comprises: detecting the time trend (TT) of the parameter (T); determining any anomalies, by comparing the detected time trend with a respective reference model (TM); the set of cleaning parameters comprising at least a temperature of a cleaning product flow.

18. 发明申请

WO2023065814A1 板擦清洗设备及带有板擦清洗功能的黑板审中-公开
公开(公告)号：WO2023065814A1
公开(公告)日：2023-04-27
申请号：PCT/CN2022/114573
申请日：2022-08-24
申请人：石家庄科达教育装备有限公司
发明人：何玉良 , 李明涛 , 李子宽
IPC分类号： B43L21/00 , B08B3/02 , B43L1/00 , B43L1/04
摘要：一种板擦清洗设备包括：开口向上设置的清洗箱（1）；设于清洗箱内用于承托板擦（6）的滤水盒（2），滤水盒的底部设有贯通孔（21），滤水盒与清洗箱之间形成位于滤水盒下方的收集腔（11）；设于滤水盒上方用于下压板擦以挤出污水的挤压组件（3），挤压组件具有能够上下移动以挤压板擦的下压臂（31）；设于滤水盒上方用于向板擦的外周壁喷水的喷淋件（4）；以及设于滤水盒下方且开口向上用于喷淋板擦的底喷头（41）。还公开了带有板擦清洗功能的黑板。该板擦清洗设备可避免板擦再次吸附清洗后的污水，提高了板擦的洁净度。

19. 发明申请

WO2023061144A1 擦拭装置及清洁设备审中-公开
公开(公告)号：WO2023061144A1
公开(公告)日：2023-04-20
申请号：PCT/CN2022/119110
申请日：2022-09-15
申请人：宁德时代新能源科技股份有限公司
发明人：谭心勇 , 陶光华 , 廖通章 , 杨威海 , 白银
IPC分类号： B08B1/00 , B08B1/02 , B08B1/04 , B08B5/04 , H01M50/691
摘要：本申请公开了一种擦拭装置及清洁设备。擦拭装置包括：旋转单元、抽吸单元和擦拭头，抽吸单元、旋转单元和擦拭头依次地设置在一个中心轴线上，在中心轴线上设置有擦拭装置中空管和擦拭头中空管，擦拭装置中空管设置在旋转单元中，擦拭头中空管设置在擦拭头中。

20. 发明申请

WO2023059660A2 CLEANING MECHANISM AND UNDERDRAIN FOR MEDIA VESSEL AND METHOD OF CLEANING 审中-公开
公开(公告)号：WO2023059660A2
公开(公告)日：2023-04-13
申请号：PCT/US2022/045700
申请日：2022-10-04
申请人： BL TECHNOLOGIES, INC.
发明人： DOUPE, Michael , VORA, Nishith , SCOTT, Chris
IPC分类号： C02F1/00 , B08B9/093 , C02F1/28 , B01J8/02 , B08B9/02 , B08B9/08 , B01D24/14 , B01J2208/00761 , B01J8/0025 , B01J8/0035 , B01J8/025 , B08B9/0813 , B08B9/0936 , C02F1/004 , C02F1/006 , C02F2201/004 , C02F2303/16
摘要： An underdrain system for a media pressure vessel has a set of removable pipe sections located between an external header and the bottom of a vessel. Septa extend upwards from the removable pipe sections into the vessel. The header is attached to the bottoms of the removable pipe sections. To clean the vessel, the pipe sections are removed. While a pipe section is removed, its associated septum is removed so that solids can be removed from the annulus between the septum and the vessel. In this way, media can be cleaned from the annuli without moving the external header or entering the vessel. A cleaning mechanism includes an elongated member with a spray nozzle that may be moved within the vessel. The cleaning mechanism may be used to removed media adhered to the walls of the vessel, for example while the septa are removed.

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