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    • 18. 发明申请
    • DIELECTRIC BUFFER LAYER
    • 介质缓冲层
    • WO2017099736A1
    • 2017-06-15
    • PCT/US2015/064620
    • 2015-12-09
    • INTEL CORPORATION
    • TELANG, AdwaitMUIRHEAD, John-GerardLEE, Kevin J.PATTABHIRAMAN, SriramJEONG, James
    • H01L21/768
    • H01L24/00H01L21/76837H01L23/145H01L23/147H01L23/49894H01L23/525H01L23/53238H01L23/5329H01L23/5385H01L2224/16225
    • Embodiment of the present disclosure are directed to methods for forming an LMI landing pad on a silicon wafer. The method includes forming, on a substrate, a redistribution layer (RDL); forming, on the RDL and the substrate, a passivation layer covering the substrate and the RDL; forming, on the passivation layer, a patternable dielectric material layer; processing the patternable dielectric material layer to expose a portion of the passivation layer covering the RDL; processing the portion of the passivation layer covering the RDL to expose a portion of the RDL; and forming, on the exposed portion of the RDL, an LMI landing pad. The resulting wafer can include a redistribution line having a top portion and a sidewall portion; a passivation layer covering the sidewall portion; a dielectric layer covering the passivation layer; and a metal interface covering the top portion of the redistribution line.
    • 本公开的实施例针对用于在硅晶片上形成LMI着陆焊盘的方法。 该方法包括在衬底上形成再分布层(RDL); 在所述RDL和所述衬底上形成覆盖所述衬底和所述RDL的钝化层; 在钝化层上形成可图案化的电介质材料层; 处理可图案化的介电材料层以暴露覆盖RDL的部分钝化层; 处理覆盖RDL的部分钝化层以暴露部分RDL; 以及在RDL的暴露部分上形成LMI着陆垫。 所得晶片可包括具有顶部和侧壁部分的再分布线; 覆盖所述侧壁部分的钝化层; 覆盖钝化层的介电层; 和一个覆盖再分配线顶部的金属接口。
    • 19. 发明申请
    • 半導体発光装置
    • 半导体发光器件
    • WO2017098689A1
    • 2017-06-15
    • PCT/JP2016/004864
    • 2016-11-11
    • パナソニック株式会社
    • 能崎 信一郎
    • H01S5/024H01S5/022
    • H01S5/022H01L2224/16225H01L2224/48091H01L2224/48137H01S5/024H01L2924/00014
    • 半導体発光装置は、ヒートシンクに接続される絶縁性のマウント部と、マウント部の上に配置された複数の半導体レーザ素子と、複数の半導体レーザ素子の上に配置された絶縁性の放熱ブロックと、を備えている。マウント部の上面には、金属からなる第1の配線が形成され、放熱ブロックの下面には、第1の配線と一部が電気的に接続され、金属からなる第2の配線が形成されている。第1の配線と第2の配線が、複数の半導体レーザ素子のそれぞれに電気的に接続されることにより、複数の半導体レーザ素子は直列に接続され、かつ、複数の半導体レーザ素子の第1の配線と接続する側は、互いに同一の極性である。
    • 所述的半导体发光器件中,绝缘支架被连接到热沉,多个设置在安装部的半导体激光器元件,设置在所述多个半导体激光元件的 并有一个绝缘的散热块。 安装部分的上表面,形成在第一布线由金属制成,所述散热块的下表面,第一布线和一部分电连接,并且由金属形成的第二布线 那里。 第一布线和第二布线,通过电连接至所述多个半导体激光元件构成,所述多个半导体激光元件的串联连接,和第一多个半导体激光元件的 连接到接线的一侧具有相同的极性。