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    • 11. 发明申请
    • 水槽内の水質改良方法とそのための水質改良器
    • 提高水质水质的方法及其水质改善装置
    • WO2008136532A1
    • 2008-11-13
    • PCT/JP2008/058585
    • 2008-04-30
    • 赤倉 賢
    • 赤倉 賢
    • C02F1/68C02F1/32C02F1/72
    • C02F1/325C02F1/725C02F2201/3225C02F2201/3227C02F2305/10
    • 本発明は、ビル、マンション、ホテル、集合住宅等に設けられている受水槽や給水槽や高架水槽など水槽内の水の水質改良方法とそのための水質改良器に関する。特に、本発明は、水を活性化するトルマリンや紫外線が当ると有機物を分解除去して浄化する酸化チタン系光触媒を利用して水槽内に貯留している水質改良をせんとするものである。 トルマリンおよび/または酸化チタン系光触媒を主体とする水質改良材と、当該水質改良材を水中に浮遊させることができる浮力を有する浮力体とを備えた水質改良器を,水槽内に収納されている水中に浮遊させ、水の対流と水質改良器の回遊により水質改良材と水との接触が良好になるようにしたことを特徴とする水質改良方法である。
    • 设置在建筑物,公寓,酒店,公寓等中或其中的水箱中的水的质量提高的方法,例如水槽,供水箱和升高的水箱。 及其水质改良装置。 储存在水箱中的水的质量可以通过激活水的电气石或氧化钛光催化剂得到改善,其在紫外线照射下分解并除去水中的有机物质以清洁水。 改善水质的方法的特征在于,提供一种改善水质的装置,包括主要由电气石和/或二氧化钛光催化剂组成的水质改性剂和具有这种浮力的浮力物质,使其能够将水质改性剂悬浮在 水被悬浮在水箱中的水中,由于水的循环和水质改善装置的迁移,水质调节剂和水彼此保持良好的接触。
    • 12. 发明申请
    • FILTER AND STERILIZATION APPARATUS
    • 过滤器和灭菌装置
    • WO2008077565A1
    • 2008-07-03
    • PCT/EP2007/011204
    • 2007-12-19
    • BLUM, Holger
    • BLUM, Holger
    • C02F1/32
    • A61L2/10C02F1/004C02F1/325C02F2201/3225C02F2201/3227C02F2201/326C02F2209/40C02F2209/42
    • A filter- and sterilizing apparatus comprising a gravity filter device with a liquid supply (L1), a downpipe filter (F) and a clean liquid drainage (L3) as well as a sterilizing device (U) hydraulically connected to the downpipe filter, is characterized in that the sterilizing device connected to the clean liquid circuit (L3) of the downpipe filter (F), is adjustable in height and has the shape of a supply channel to the overflow weir (Y), wherein the liquid level in the supply channel (K) before starting the filtration is approximately adjustable to the same height with the water level in the downpipe filter (F) above the filter medium (M). The sterilizing device (U) is an ultraviolet sluice.
    • 一种过滤消毒装置,包括具有液体供应源(L1)的重力过滤装置,下水管过滤器(F)和清洁液体排出装置(L3)以及液压连接到筒管过滤器的灭菌装置(U) 其特征在于,连接到下水管过滤器(F)的清洁液体回路(L3)的消毒装置的高度是可调节的,并且具有到溢流堰(Y)的供应通道的形状,其中供应中的液位 开始过滤之前的通道(K)大致可调节到与过滤介质(M)上方的下水过滤器(F)中的水位相同的高度。 灭菌装置(U)是紫外线闸。
    • 15. 发明申请
    • CLEANING APPARATUS, RADIATION SOURCE MODULE AND FLUID TREATMENT SYSTEM
    • 清洁装置,辐射源模块和流体处理系统
    • WO2014117254A1
    • 2014-08-07
    • PCT/CA2014/000063
    • 2014-02-03
    • TROJAN TECHNOLOGIES
    • TRAUBENBERG, George
    • B08B5/02B01J19/12C02F1/30
    • B01J19/12B08B3/024C02F1/325C02F2201/3225C02F2201/324
    • There is described a cleaning apparatus for a surface (e.g., a radiation source assembly) in a fluid treatment system. A preferred embodiment of the cleaning apparatus comprises: at least one jet element configured to generate a differential fluid current in a plane that is non-normal to a longitudinal axis of the elongate surface to cause the debris to be removed from the elongate surface. This preferred embodiment of the present cleaning apparatus is particularly advantageous for removing elongate debris from one or more radiation source assemblies disposed in the fluid treatment system. It is preferred to include in the cleaning apparatus a wiping element that is translated between a first position and a second position. As the wiping element is moved from the first position to the second position, it will tend to push the elongate debris toward a distal portion of the radiation source assembly and into the path of the differential fluid current generated by the cleaning apparatus. The differential fluid current will tend to cause the elongate debris to be lifted and/or carried away from the radiation source assembly such that the flow of fluid will carry the elongate debris past the radiation source assembly.
    • 在流体处理系统中描述了用于表面(例如,辐射源组件)的清洁装置。 清洁装置的优选实施例包括:至少一个射流元件,其构造成在与该细长表面的纵向轴线不平行的平面中产生差分流体流,以使碎屑从细长表面移除。 本清洁装置的该优选实施例对于从设置在流体处理系统中的一个或多个辐射源组件移除细长碎片是特别有利的。 优选在清洁装置中包括在第一位置和第二位置之间平移的擦拭元件。 当擦拭元件从第一位置移动到第二位置时,它将倾向于将细长碎片推向辐射源组件的远端部分并进入由清洁设备产生的差分流体流的路径。 差分流体流将倾向于使细长的碎屑被提升和/或从辐射源组件带走,使得流体流将携带细长碎片通过辐射源组件。