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    • 13. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR MESSUNG VON STRUKTUREN EINES OBJEKTS
    • 方法和装置用于测量对象结构
    • WO2006094641A1
    • 2006-09-14
    • PCT/EP2006/001640
    • 2006-02-23
    • FORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBHTHELEN, RichardSCHULZ, JoachimJANSSEN, Achim
    • THELEN, RichardSCHULZ, JoachimJANSSEN, Achim
    • G01B21/04
    • G01B11/03G01B5/008G01B11/007
    • Verfahren zur Messung von Strukturen eines Objekts (41) mittels eines Tastelements (11), das, von einer Tasterverlängerung (12) ausgehend, einem Koordinatenmessgerät zugeordnet ist, bei dem: a) das Tastelement (11) mit dem Objekt (41) in Berührung gebracht wird, b) ein Bild des Tastelements (11) auf einem Sensorfeld (28) eines optischen Sensors aufgenommen wird und c) die optische Position des Tastelements (11) bestimmt wird, indem Koordinaten des Bildes (31) des Tastelements (11) mit denen des Koordinatenmessgeräts verknüpft werden, wobei: d) aus einem Bereich des durch das Objekt (41) zumindest teilweise abgeschatteten Bildes (31) des Tastelements (11) auf dem Sensorfeld (28) der optische Schwerpunkt (32) des zumindest teilweise abgeschatteten Bildes (31) des Tastelements (11) auf dem Sensorfeld (28) bestimmt wird, e) dieser mit dem optischen Schwerpunkt des nicht durch das Objekt (41) abgeschatteten Bildes (31) des Tastelements (11) auf dem Sensorfeld (28) bei gleichem Abstand des Tastelements (11) vom optischen Sensor verglichen wird, f) hieraus die Differenz der beiden optischen Schwerpunkte ermittelt wird, und g) die physikalische Position des Tastelements (11) aus der optischen Position des Bildes (31) des Tastelements (11) auf dem Sensorfeld (28) und der Differenz der beiden optischen Schwerpunkte bestimmt wird.
    • 用于通过一个探针元件(11)的装置测量物体(41)的结构中,探针延伸(12)的方法是基于,分配给坐标测量机,其特征在于:与所接触的对象(41)a)所述探针元件(11) )b加入到探针元件(11)的光学传感器的传感器阵列(28)上,以及c)感元件11的光学位置()由探头元件的图像(31)的坐标来确定的图像(11)被带到与 所述至少部分遮挡图像的D)从的区域(通过重力(32的光学中心的传感器阵列(28)上的探针元件(11)的对象41)至少部分地遮蔽图像(31))(:那些坐标测量机的要被连接的,其中 传感器阵列(28)上的探针元件(11)的31)被确定时,e),本阴影以不重力的相同距离处的光学中心(由传感器阵列(28)上的探针元件(11)的对象41)的图像(31) 的探头元件(11)由光学传感器相比,F)及其,两个光学焦点的差被确定,和g)(从探测器元件11的图像(31)的光学位置探测元件(11)的物理位置)上的 传感器场(28)和两个光学焦点的差异被确定。
    • 15. 发明申请
    • RÖNTGENLITHOGRAPHIEMASKE AUS NICKEL ODER EINER NICKELBASISLEGIERUNG
    • X-RAY镍的光刻掩模或镍基合金
    • WO2011128031A1
    • 2011-10-20
    • PCT/EP2011/001669
    • 2011-04-02
    • KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIESCHULZ, JoachimWALTER, Marco
    • SCHULZ, JoachimWALTER, Marco
    • G03F1/14
    • G03F1/22
    • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Röntgenlithographiemaske aus Nickel oder einer Nickelbasislegierung. Vorgeschlagen wird eine Röntgenlithographiemaske, die einen Rahmen und eine darauf gespannte Membran umfasst, wobei die Membran aus Nickel oder einer Nickelbasislegierung besteht und zumindest teilweise mit einer Absorberschicht versehen ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung der Röntgenlithographiemaske. Dabei wird eine Nickelschicht oder eine Schicht aus einer Nickelbasislegierung auf ein Substrat aufgebracht. Anschließend wird eine Absorberstruktur auf der Nickelschicht oder der Schicht aus einer Nickelbasislegierung hergestellt und ein Rahmen wird bei erhöhten Temperaturen aufgeklebt. Abschließend werden alle Bauteile abgekühlt und der Rahmen mit der aufgespannten Membran aus Nickel oder einer Nickelbasislegierung wird vom Substrat abgelöst. Die Röntgenlithographiemaske eignet sich besonders als Maske für das Rontgentiefenlithographieverfahren.
    • 本发明涉及镍的X射线光刻掩模或镍基合金。 公开了一种X射线光刻掩模,其包括框架和在其上的拉膜,其中所述膜是由镍或镍基合金制成,并且至少部分地设置有吸收层。 本发明还涉及一种方法,用于产生X射线光刻掩模。 在这种情况下,镍层或镍基合金构成的层被施加到基底上。 接着,将镍层或镍基合金的层上的吸收体结构中产生并且一帧被胶合在升高的温度。 最后,所有的部件被冷却并用镍的夹紧隔膜或基于镍的合金中的帧被从衬底剥离。 X射线光刻掩模旨在作为用于Rontgentiefenlithographieverfahren的掩模。