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11. 发明申请

WO2016080729A1 기판 프로세싱 장치 审中-公开
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：WO2016080729A1
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：PCT/KR2015/012337
申请日：2015-11-17
申请人： 주식회사 테라세미콘
发明人： 이병일 , 박경완 , 강호영 , 박준규
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67
摘要： 기판 프로세싱 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 프로세싱 장치는, 기판 프로세싱 장치로서, 챔버(101) 내에 기판 프로세싱 가스를 공급하는 가스 인릿(inlet; 300); 챔버(101) 내의 기판 프로세싱 가스를 외부로 배출하는 가스 아웃릿(outlet; 400); 챔버(101) 내에 배치되며 챔버(101) 내부를 가열하는 히터(200); 및 챔버(101)의 외측면에 배치되며 챔버벽의 온도를 제어하는 온도 컨트롤러(500)를 포함하며, 온도 컨트롤러(500)는, 상기 챔버 내에서 기화되거나 건조되는 기판 상의 물질이 챔버(101)의 내벽에 응축되지 않도록, 챔버(101)의 내벽의 온도를 50℃ 내지 250℃로 유지하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：公开了一种基板处理装置。根据本发明的基板处理装置包括：用于将基板处理气体引入到室（101）中的入口（300）; 用于将所述室（101）内的基板处理气体排出到外部的出口（400）设置在所述腔室（101）内的加热器，用于加热所述腔室（101）的内部; 以及设置在所述室（101）的外表面上用于控制所述室壁温度的温度控制器（500），其中所述温度控制器（500）保持所述室（101）的内壁的温度），使得在室内蒸发或干燥的基板上的材料不会在室（101）的内壁上冷凝。

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