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11. 发明申请

WO2014115974A1 저굴절층 코팅용 조성물 및 이의 제조방법 审中-公开
标题翻译：用于涂覆低折射率层的组合物及其制备方法
公开(公告)号：WO2014115974A1
公开(公告)日：2014-07-31
申请号：PCT/KR2013/012386
申请日：2013-12-30
申请人： (주)엘지하우시스
发明人： 김헌조 , 류무선 , 서지연 , 김원국
IPC分类号： C09D183/04 , G02B5/00
CPC分类号： C09D183/06 , C08G77/14 , C08G77/20 , C09D183/04
摘要： 실록산 화합물을 포함하는 저굴절층 코팅용 조성물 및 이를 포함하여 형성된 저굴절필름을 제공한다. 또한, 알콕시 실란 화합물 및 탄소수 1 내지 18의 알킬기, 아크릴기, 글리시딜기 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나로 치환된 기능성 실란 화합물을 혼합하여 실록산 화합물을 형성하는 단계; 상기 형성된 실록산 화합물을 졸-겔 반응시켜 망상구조의 고분자 실록산 화합물을 형성하는 단계; 및 상기 형성된 고분자 실록산 화합물을 숙성시키는 단계를 포함하는 저굴절층 코팅용 조성물 제조방법을 제공한다.
摘要翻译：提供了用于涂覆含有硅氧烷化合物的低折射率层的组合物和包含该组合物的低折射率膜。另外，提供了一种制备低折射率层涂层用组合物的方法，包括以下步骤：通过将烷氧基硅烷化合物与被至少一种选自由以下组成的组中的至少一种取代的官能化硅烷化合物混合形成硅氧烷化合物： C1-C18烷基，丙烯酰基，缩水甘油基及其组合; 通过使所形成的硅氧烷化合物在溶胶 - 凝胶反应中反应形成网状聚合物硅氧烷化合物; 并熟化所形成的聚合物硅氧烷化合物。

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