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    • 92. 发明申请
    • OPTICAL MANIPULATOR, PROJECTION LENS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
    • 光学操纵器,投影镜头和投影曝光装置
    • WO2016001090A3
    • 2016-03-17
    • PCT/EP2015064551
    • 2015-06-26
    • ZEISS CARL SMT GMBH
    • EVA ERIC
    • G03F7/20G02B1/00G02B26/00
    • G03F7/7015G02B3/12G02B7/028G02B13/16G02B27/0031G02B27/0068G03F7/70266G03F7/70308G03F7/70958
    • The invention relates to an optical manipulator (MAN), comprising: an optical element (OE), in particular composed of fused silica, and an actuating device (DR) for reversibly changing the surface form (SF) of the optical element (OE), wherein the actuating device (DR) has a plurality of actuators (AK) for mechanically acting on the optical element (OE) at a plurality of contact areas. The optical element (OE) at least at action regions in the region of the contact areas of the actuators (AK) is prestressed to an compressive stress of more than 1 MPa, preferably of more than 100 MPa, particularly preferably of more than 500 MPa. The invention also relates to a projection lens comprising at least one such optical manipulator (MAN), to a projection exposure apparatus comprising such a projection lens, and to a method for producing such an optical manipulator (MAN).
    • 本发明涉及一种光学机械手(MAN),包括:光学元件(OE),特别是由熔融石英组成的光学元件(OE)和用于可逆地改变光学元件(OE)的表面形式(SF)的致动装置(DR) ,其中所述致动装置(DR)具有用于在多个接触区域处机械地作用在所述光学元件(OE)上的多个致动器(AK)。 至少在致动器(AK)的接触区域的作用区域处的光学元件(OE)预应力为大于1MPa,优选大于100MPa,特别优选大于500MPa的压缩应力 。 本发明还涉及一种包括至少一个这种光学机械手(MAN)的投影透镜,涉及包括这种投影透镜的投影曝光装置,以及一种用于制造这种光学机械手(MAN)的方法。
    • 95. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG STRUKTURIERTER SCHICHTEN MIT EINER PHOTONISCHEN BANDSTRUKTUR UND ANORDNUNG MIT EINER SOLCHEN SCHICHT
    • 方法制造具有PHOTO美国乐队结构和安排结构性层,该层
    • WO2015158330A1
    • 2015-10-22
    • PCT/DE2015/100154
    • 2015-04-13
    • HELMHOLTZ-ZENTRUM FÜR MATERIALIEN UND ENERGIE GMBH
    • PALACKAPPILLIL, Jolly XavierPROBST, MaxWYSS, PhilippeBECKER, Christiane
    • G02B1/00B82Y20/00G02B6/122
    • G02B1/005B82Y20/00G02B6/00G02B6/1225
    • Verfahren zur Herstellung strukturierter Schichten mit einer photonischen Bandstruktur, das mindestens die Schritte: Generierung eines zweidimensionalen Musters, Dichtereduktion des zweidimensionalen Musters durch Einführung einer unteren Signalschwelle, Berechnung der Koordinaten von Schwerpunkten von Motiven des zweidimensionalen Musters und Auswahl eines Ausschnitts aus dem zweidimensionalen Muster als eine Kachel aufweist. Das Verfahren ist gekennzeichnet dadurch, dass die Generierung des zweidimensionalen Musters durch Überlagerung von ausgewählten ebenen Wellen erfolgt, wobei sich die Auswahl der ebenen Wellen durch angestrebte Periodizitäten und Symmetrien im Fourierraum ergibt. Die Längen der Abstände nächster Nachbarn in den Koordinaten von Schwerpunkten von Motiven des zweidimensionalen Musters werden durch Wellenlängen von Licht, mit denen Wechselwirkungen mit der strukturierten Schicht mit photonischer Bandstruktur beabsichtigt sind bestimmt. Die Kachel mit den Koordinaten von Schwerpunkten von Motiven des zweidimensionalen Muster genügt dabei einer Erzeugung eines diskreten Fourierspektrums. Die Strukturierung einer Schicht mit einem schichtenstrukturierenden Verfahren erfolgt unter Verwendung der Koordinaten der Schwerpunkte von Motiven des zweidimensionalen Musters in der Kachel und der Basisvektoren der Kachel zur Parkettierung.
    • 一种用于生产具有光子带结构,其包括至少以下步骤的结构化层的方法:通过将低信号阈值,在计算的作为二维图案的一部分的二维图案和选择的图案的质心的坐标生成的二维图案,减少在所述二维图案的密度 瓷砖了。 该方法的特征在于,由平面波的叠加的二维图案的生成,从而能够通过该平面波的选择是通过在傅立叶空间靶向周期性和对称性给出。 在的二维图案的图案的质心的坐标最近邻居的距离的长度由与交互由具有光子带结构的图案化层意图的光的波长来确定。 用的二维图案的图案的质心的坐标瓦片足够的离散傅立叶光谱的产生。 使用的在图块的二维图案的图案和瓦片的基矢量的质心的坐标以平铺进行与schichtenstrukturierenden方法的层的图案化。
    • 96. 发明申请
    • 역파장 분산 필름용 조성물 및 이에 의한 역파장 분산 필름
    • 用于反向波长分散膜和反相波长分散膜的组合物
    • WO2015030316A1
    • 2015-03-05
    • PCT/KR2013/011702
    • 2013-12-17
    • 전북대학교 산학협력단
    • 이지훈
    • G02B1/00G02B1/11C08J5/18C09K19/52
    • C09K19/52C08J7/042C08J2301/12C08J2433/00C08J2479/08C09K2019/0448G02B1/04G02B1/111C08L33/24C08L101/12
    • 본 발명은 액정과 광경화성 고분자의 자기조립 배열에 따라 역파장 분산 특성을 제공하는 역파장 분산 필름용 조성물 및 이에 의한 역파장 분산 필름에 관한 것이다. 본 발명에 의해 제조된 필름은 역파장 특성을 가지므로 단일층으로 사용하여도 OLED의 반사방지 기능이나 LDD의 위상차 보상에 사용될 수 있다. 본 발명의 역파장 분산 필름은 단일층으로 OLED 반사방지 필름을 제조할 수 있으므로 종래 이중층(double layer)의 반사방지 필름에 비해 소자의 두께를 현저히 감소시킬 수 있다. 본 발명의 필름 제조방법은 역파장 특성을 가지는 고분자를 별도로 합성할 필요없이 액정과 고분자의 자기조립 특성을 활용해 간단한 방법으로 역파장 분산 특성을 구현할 수 있다. 따라서, 본 발명의 역파장 분산 필름이나 그 제조방법은 종래 방법에 비해 경제적이면서도 대량 생산이 용이하다.
    • 本发明涉及一种通过液晶的自组装布置和光固化性聚合物提供反向波长分散性的反向波长分散膜以及使用该组合物的反向波长分散膜。 由本发明制造的膜具有反向波长特性,因此可以用作用于OLED的抗反射功能的单层或LDD的相位差补偿。 本发明的反射波长分散膜可以制成用于OLED的抗反射膜的单层,从而与传统的双层型抗反射膜相比显着地减小了器件的厚度。 根据本发明的膜的制造方法,可以通过利用液晶和聚合物的自组装特性的简单方法,而不分开合成具有反射波长特性的聚合物来实现反向波长分散性。 因此,与常规方法相比,本发明的反向波长分散膜或其制造方法是经济的并且容易批量生产。