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    • 93. 发明申请
    • パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
    • 图案形成方法,主动感光或辐射敏感性树脂组合物,制造电子设备的方法和电子设备
    • WO2014141827A1
    • 2014-09-18
    • PCT/JP2014/053795
    • 2014-02-18
    • 富士フイルム株式会社
    • 山口 修平伊藤 純一高橋 秀知
    • G03F7/038C08F220/12G03F7/004G03F7/039G03F7/32H01L21/027
    • G03F7/038C08L33/16C08L2203/16C08L2312/06C09D133/16G03F7/0045G03F7/0046G03F7/0397G03F7/20G03F7/325
    •  (ア)(A)極性基が酸の作用により分解し脱離する脱離基で保護された構造を有する繰り返し単位(p)を有する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、(イ)該膜を露光する工程、及び(ウ)該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、前記繰り返し単位(p)が、カルボキシル基における水素原子が酸の作用により分解し脱離する脱離基に置き換えられた構造を有する繰り返し単位(p1)を含有し、かつ、前記繰り返し単位(p1)における前記脱離基が、前記カルボキシル基における-COO-基に直接的に結合する第4級炭素原子と、極性基と、を有する基である、パターン形成方法により、ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性、及び、露光ラチチュードに優れ、現像により形成されるパターン部の膜厚低下、いわゆる膜べりを抑制できるパターン形成方法、これに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
    • 提供了一种图案形成方法,其包括:(i)使用含有(A)具有重复单元(p)的树脂的主动感光或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤,其具有以下结构: 极性基团被离去基团保护,离去基团被酸的作用分解和分离,(B)当用活性光或辐射照射时产生酸的化合物; (ii)曝光胶片的步骤; 和(iii)通过使用含有有机溶剂的显影液显影曝光的薄膜来形成负图案的步骤。 在该图案形成方法中,重复单元(p)含有重复单元(p1),该重复单元(p1)具有其中羧基中的氢原子被离去基团取代的结构,该离去基团被酸的作用分解和分离, 重复单元(p1)中的离去基团具有与羧基中的-COO-基团直接键合的极性基团和季碳原子。 该图案形成方法具有优异的粗糙度性质,例如线宽粗糙度,局部图案尺寸均匀性和优异的曝光宽容度,并且能够抑制由于显影而形成的图案化部分的膜厚度的减小。 还提供了用于图案形成方法的主动光敏或辐射敏感性树脂组合物; 使用图案形成方法的电子设备的制造方法; 和电子设备。
    • 94. 发明申请
    • 含フッ素オリゴマー、それを用いたナノシリカコンポジット粒子およびそれらの製造法
    • 使用含氟的低聚物,使用其的纳米二氧化硅复合颗粒和两种制备方法
    • WO2014136895A1
    • 2014-09-12
    • PCT/JP2014/055820
    • 2014-03-06
    • ユニマテック株式会社国立大学法人弘前大学
    • 佐藤 勝之澤田 英夫
    • C08F220/22C08K3/36C08L33/14
    • C08F220/22C08K3/36C08K2201/011C08L33/16
    •  フルオロアルキルアルコール(メタ)アクリル酸誘導体 C n F 2n+1 (CH 2 ) d OCOCR=CH 2 〔I〕(Rは水素原子またはメチル基、nは1~10の整数、dは1~6の整数)および(メタ)アクリル酸誘導体 (CH 2 =CRCO) m R'〔II〕(Rは水素原子またはメチル基、mは1、2または3、R'はm=1のとき-OH基、非置換または炭素数1~6のアルキル基でモノまたはジ置換されたNH 2 基、あるいは炭素数2~3のアルキレン基を有するアルキレングリコールまたはポリアルキレングリコール基から導かれた1価の基、m=2または3のときジオールまたはトリオールから導かれた2価または3価の有機基)の共重合体よりなる含フッ素オリゴマー。この共重合反応は、炭化水素系有機過酸化物またはアゾ化合物重合開始剤を用いて行われる。または、該含フッ素オリゴマーおよびアルコキシシランを、ナノシリカ粒子との縮合体として形成させたナノシリカコンポジット粒子。
    • 含氟烷基醇CnF2n + 1(CH2)dOCOCR = CH2 [I](R为氢原子或甲基)的(甲基)丙烯酸衍生物的共聚物的含氟低聚物; n为1〜 10; d为1至6的整数)和(甲基)丙烯酸衍生物(CH 2 = CRCO)m R'[II](R为氢原子或甲基; m为1,2或3; 并且R'是-OH基团,未被取代或被C 1-6烷基单取代或二取代的NH 2基团或衍生自具有C 2-3亚烷基的亚烷基二醇或由聚亚烷基二醇 当m为1时,当m为2或3时为二醇或三醇衍生的二价或三价有机基团)。 共聚反应使用烃有机过氧化物或偶氮化合物聚合引发剂进行。 此外,纳米二氧化硅复合颗粒形成为纳米二氧化硅颗粒与含氟低聚物和烷氧基硅烷的缩合物。
    • 95. 发明申请
    • HYDRO- UND OLEOPHOBE POLYMERBLENDS
    • 疏水和疏油聚合物共混物
    • WO2014019867A1
    • 2014-02-06
    • PCT/EP2013/065193
    • 2013-07-18
    • PHILIPPS-UNIVERSITÄT MARBURG
    • GREINER, AndreasAGARWAL, SeemaPATTON, Agnes
    • C08F20/24C08L33/06C08L33/16C09D109/08D06M15/277
    • D06M15/643C08F120/18C08F120/24C08L33/08C08L33/16D06M15/277
    • Die Erfindung betrifft Polymerblends in wässriger Dispersion (Latex-Blends), die nach Beschichtung von Trägersubstanzen, insbesondere von Textilien, eine waschbeständige Oberfläche mit Rollwinkeln kleiner oder gleich 30° und/oder Kontaktwinkeln größer oder gleich 140° bilden. Die Polymerblends enthalten wenigstens ein nichtfluoriertes Homo- oder Copolymer (I) mit Monomeren ausgewählt aus der Gruppe Alkylacrylat, Alkylmethacrylat, Styrol, Vinylchlorid, Vinylalkylether, Vinylacetat und Dimethylsiloxan, und wenigstens ein Homo- oder Copolymer (II), das eine polyfluorierte Komponente oder ein Polydiorganosiloxan enthält. Die sehr niedrigen Rollwinkel bzw. die hohen Kontaktwinkel werden bei einem Anteil von 2 bis 40 Mol% für eine polyfluorierte Komponente und 30 bis 90 Mol% für ein Polydiorganosiloxan bezogen auf die Monomereinheiten erreicht. Bevorzugte Ausführungsformen sind Polymerblends aus Homopolymeren, die keine chemischen Vernetzungen zwischen den Polymerketten aufweisen. Dagegen enthalten im Stand der Technik bekannte hydrophobe Polymerblends, die zur waschbeständigen Ausrüstung von Textilien geeignet sind, komplexe Co- oder Pfropfpolymere, komplexe, mehrfach funktionelle Monomere sowie Quervernetzungen der Polymerketten.
    • 本发明涉及一种在构成大于或等于140°到的载体物质的涂层,尤其是纺织品的水性分散体(胶乳共混物)的聚合物共混物,与辊上的耐清洗表面角小于或等于30°和/或接触角。 该聚合物共混物包括至少一种非氟化的均聚物或共聚物(I)与选自丙烯酸烷基酯,甲基丙烯酸烷基酯,苯乙烯,氯乙烯,乙烯基烷基醚,乙酸乙烯酯和二甲基硅氧烷组成的组中的单体,和至少一种均聚物或共聚物(II),其具有多氟化组分或 聚二包含的内容。 非常低的侧倾角或者高接触角是从2至40摩尔%多氟化组分和在单体单元实现了聚二有机硅氧烷的30至90摩尔%的比例获得。 优选的实施方案是具有在聚合物链之间没有化学交联均聚物的聚合物共混物。 与此相反,在现有技术中包括已知的疏水性聚合物共混物,其适合于纺织品,复杂的共聚物或接枝聚合物,复杂的,多官能单体的耐清洗精加工以及交联该聚合物链。