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91. 发明申请

WO1992014717A1 5-SULFONYL-SUBSTITUTED BENZOTRIAZOLE UV-ABSORBERS AND STABILIZED COMPOSITIONS 审中-公开
标题翻译： 5-磺基取代的苯并噻唑紫外线吸收剂和稳定的组合物
公开(公告)号：WO1992014717A1
公开(公告)日：1992-09-03
申请号：PCT/US1992001081
申请日：1992-02-11
申请人： CIBA-GEIGY AG , WINTER, Roland, A., E. , VON AHN, Volker, H. , STEVENSON, Tyler, A. , HOLT, Mark, S. , RAVICHANDRAN, Ramanathan
发明人： CIBA-GEIGY AG
IPC分类号： C07D249/20
CPC分类号： C07F9/65188 , C07D249/20 , C07F7/1896 , C08F220/38 , C08K5/3475 , C08K5/41 , C09D7/48
摘要： 2-(2-Hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole UV-absorbers substituted at the 5-position of the benzo ring by a sulfoxide or sulfone group exhibit enhanced absorption in the near visible range (over 350 nm) allowing said compounds to be particularly effective in protecting polymer systems which are prone to degradation caused by actinic irradiation with wavelengths over 350 nm.

92. 发明申请

WO2017086213A1 レジスト下層膜形成組成物用添加剤及び該添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：含有添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物和抗蚀剂下层膜形成用组合物用添加剂
公开(公告)号：WO2017086213A1
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：PCT/JP2016/083116
申请日：2016-11-08
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：西田　登喜雄 , 坂本　力丸
IPC分类号： G03F7/11 , C08F220/24 , C08F220/26 , C08F220/36 , C08F220/38
CPC分类号： C08F220/24 , C08F220/26 , C08F220/36 , C08F220/38 , G03F7/11
摘要：【課題】新規なレジスト下層膜形成組成物用添加剤、及び当該添加剤を含むレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】下記式（１）乃至式（３）で表される構造単位を有する共重合体を含むレジスト下層膜形成組成物用添加剤。前記添加剤、前記共重合体とは異なる樹脂、有機酸、架橋剤及び溶剤を含み、前記共重合体の含有量は前記樹脂１００質量部に対し３質量部乃至４０質量部である、リソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。（式中、Ｒ１はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至３のアルキレン基を表し、Ａは保護基を表し、Ｒ３は４員環乃至７員環のラクトン骨格、アダマンタン骨格、トリシクロデカン骨格又はノルボルナン骨格を有する有機基を表し、Ｒ４は少なくとも１つの水素原子がフルオロ基で置換され更に置換基として少なくとも１つのヒドロキシ基を有してもよい、炭素原子数１乃至１２の直鎖状、分岐鎖状又は環状の有機基を表す。）
摘要翻译：提供新型抗蚀剂下层膜形成用组合物用添加剂和含有该添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。一种抗蚀剂下层膜形成用组合物用添加剂，其含有具有下述式（1）〜（3）所示的结构单元的共聚物。所述添加剂，所述共聚物从树脂不同，有机酸包含交联剂和溶剂，所述共聚物的含量为3头重量份至40质量份，相对于树脂100重量份，为光刻抗蚀剂下层膜形成用组合物。（式表示R ^{1各自独立地为氢原子或甲基，R ^{2 表示具有1至3个碳原子的亚烷基，A是受保护的^{表示的基团，R ^{3 是具有4元环或7元环内酯骨架，金刚烷骨架，三环癸烷骨架或降冰片烷骨架，R ^{4 表示具有1至12个碳原子的直链，支链或环状有机基团，其中至少一个氢原子被氟基取代并且可以进一步具有至少一个羟基作为取代基。）}}}}}

93. 发明申请

WO2017030950A1 PHOTOACTIVATABLE FOULING-RESISTANT COPOLYMERS 审中-公开
标题翻译：光敏抗菌共聚物
公开(公告)号：WO2017030950A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：PCT/US2016/046750
申请日：2016-08-12
申请人： ARROW INTERNATIONAL, INC.
发明人： ZHANG, Zheng , TOROK, Fanni , LI, Jun , BOUCHARD, Michael , VICTOR, John
IPC分类号： C08F2/38 , C08J7/04 , C07C323/12
CPC分类号： C08F2/48 , C08F2/38 , C08F2/50 , C08F220/38 , C08F2220/303 , C08F2220/382 , C08J7/047 , C08J7/123 , C08J2375/04 , C08J2433/14 , C08F2220/385 , C08F2220/301 , C08F2220/387
摘要： A photoactivatable fouling-resistant copolymer composed of a photoactivatable monomer and a hydrophilic monomer is disclosed. The photoactivatable monomer includes an aryl ketone derivative having one or more polar groups or alkyl groups.
摘要翻译：公开了由可光活化的单体和亲水性单体组成的可光活化的防污聚合物。可光活化的单体包括具有一个或多个极性基团或烷基的芳基酮衍生物。

94. 发明申请

WO2016010171A1 고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자 및 반응성 스틸렌 유도체를 이용한 이의 제조방법 审中-公开
标题翻译：具有高折射率的反应性聚苯乙烯聚合物及其使用反应性苯乙烯衍生物制备其的方法
公开(公告)号：WO2016010171A1
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：PCT/KR2014/006373
申请日：2014-07-15
申请人： (주)켐옵틱스
发明人： 김상하 , 정진권 , 이종휘 , 이형종
IPC分类号： C08F212/08 , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/34 , C08F220/38
CPC分类号： C08F212/08 , C08F212/14 , C08F220/10 , C08F220/34 , C08F220/38
摘要： 본 발명은 사이오 에폭시 스틸렌을 포함하는 경화성 고분자 합성을 통하여 굴절률을 획기적으로 향상시켜 높은 광투과성 및 투명성을 갖는 OLED 광추출용 평탄층에 적용 가능하며, 열 또는 광 경화 반응을 이용하여 박막 가공 및 패턴 형성이 용이하며, 황변이 적어 투과도를 높일 수 있어 OLED 조명 또는 디스플레이 분야 등에 응용가능성이 뛰어나다.
摘要翻译：本发明可应用于通过合成包含4,2,5环氧苯乙烯的可固化聚合物而急剧增加折射率的具有高透光率和透明度的OLED光提取的平坦化层，有助于薄膜的加工和使用热固性或光固化反应形成图案，并且对于OLED照明或显示领域具有高适用性，因为本发明很少变成黄色，因此能够增加透光率。

95. 发明申请

WO2015011147A1 TRANSPARENTER KLEBSTOFF MIT EINEM BRECHUNGSINDEX IM BEREICH VON 1,7 BIS 1,73 审中-公开
标题翻译：具有在1.7领域的折射率1.73透明粘胶
公开(公告)号：WO2015011147A1
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：PCT/EP2014/065737
申请日：2014-07-22
申请人： CERAMTEC-ETEC GMBH
发明人： KLEMM, Elisabeth , TITTEL, Markus
IPC分类号： C09J4/00 , C08F220/38 , C08F222/18 , C09J133/14 , C09J133/16 , C08F220/10
CPC分类号： C09J4/00 , C08F220/38 , C08F2222/1013 , C08K3/22 , C08K2003/2296 , C09J9/00 , C09J11/04 , C08F220/26
摘要： Die vorliegende Erfindung beschreibt ein transparenter Klebstoff mit einem Brechungsindex im Bereich von 1,7 bis 1,73, dessen Herstellung und Verwendung insbesondere dessen Verwendung für Beschichtungen und Verklebungen.
摘要翻译：本发明描述了具有在1.7的范围内的折射率1.73及其制备和用途，特别是其使用用于涂料和粘合剂的透明粘合剂。

96. 发明申请

WO2015004368A1 COPOLYMERE POUR REVETEMENT HYDROPHOBE A DURABILITE AMELIOREE 审中-公开
标题翻译：具有改善耐久性的疏水涂料的共聚物
公开(公告)号：WO2015004368A1
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：PCT/FR2014/051702
申请日：2014-07-03
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , SPECIFIC POLYMERS
发明人： GUILLEMOT, François , LOUBAT, Cédric
IPC分类号： C08F220/14 , C09D133/06
CPC分类号： C08F220/18 , C03C17/30 , C03C17/32 , C03C17/3405 , C03C2217/76 , C08F220/14 , C08F220/24 , C08F220/38 , C08K9/06 , C09D5/00 , C09D133/12
摘要： L'invention concerne -un copolymère de formule (I) dans laquelle le groupe R 1 est hydrophobe, le groupe R 2 est réticulable, x, z et t>0 et y≥0 et x + y + z + t= 1, n est un nombre entier; un substrat verrier comprenant un revêtement de ce copolymère, avec interposition d'une couche de silane à fonction apte à réagir avec le groupe R 2 réticulable; et l'application de ce substrat verrier comme vitrage hydrophobe de véhicule de transport, paroi de cabine de douche ou vitrage intérieur facile à nettoyer.
摘要翻译：本发明涉及式（I）的共聚物，其中基团R 1是疏水性的，基团R 2是可交联的，x，z和t> 0且y≥0且x + y + z + t = 1，n是整数数; 包括由该聚合物制成的涂层的玻璃基板，其包含具有能够与可交联基团R2反应的功能的插入硅烷层; 以及使用所述玻璃基板作为用于运输车辆的疏水性玻璃面板，用于淋浴室壁或易于清洁的内部玻璃面板。

97. 发明申请

WO2014070973A1 THIOL ACRYLATE NANOCOMPOSITE FOAMS 审中-公开
标题翻译：硫醇丙烯酸酯纳米复合材料
公开(公告)号：WO2014070973A1
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：PCT/US2013/067663
申请日：2013-10-31
申请人： BOARD OF SUPERVISORS OF LOUISIANA STATE UNIVERSITY AND AGRICURAL AND MECHANICAL COLLEGE , HAYES, Daniel , POJMAN, John
发明人： HAYES, Daniel , POJMAN, John
IPC分类号： C08G63/688 , A61P19/00 , A61L27/44 , C08F8/32 , C08F8/30 , C08F238/00 , C08F228/00
CPC分类号： C08J9/122 , A61L27/46 , A61L27/54 , A61L27/56 , A61L27/58 , A61L2300/112 , A61L2400/06 , A61L2430/02 , C08F220/38 , C08F222/1006 , C08G63/688 , C08J9/0066 , C08J2381/00 , C08L33/14
摘要： Thiol-acrylate copolymers are disclosed that are useful, for example, as injectable biomaterials to provide both mechanical support and biological cues to stimulate bone regrowth. Composites can be formed, for example incorporating hydroxyapatite crystal inclusions into the copolymer. In one embodiment, the composite is gas-foamed with a blowing agent during or before cure to form a porous, interconnected scaffold. The synthesis employs an amine-catalyzed Michael addition co-polymerization of a poly-thiol with a poly-acrylate. The catalyst is an in situ catalyst, such as a tertiary amine moiety that is covalently bonded to one of the reactants, preferably to the poly-acrylate. The materials can rapidly co-polymerize in vivo or in vitro via catalysis by the "attached" in situ tertiary amine groups.
摘要翻译：公开了硫醇 - 丙烯酸酯共聚物，其可用作例如可注射生物材料以提供机械支持和生物学提示以刺激骨再生长。可以形成复合材料，例如将羟基磷灰石晶体夹杂物结合到共聚物中。在一个实施方案中，在固化期间或之前，复合材料用发泡剂气泡发泡以形成多孔互连的支架。该合成采用多硫醇与聚丙烯酸酯进行胺催化的迈克尔加成共聚。催化剂是原位催化剂，例如与一种反应物共价结合的叔胺部分，优选与聚丙烯酸酯结合。这些材料可以通过“附着”原位叔胺基团的催化在体内或体外快速共聚。

98. 发明申请

WO2014002679A1 パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス审中-公开
标题翻译：图案形成方法，抗紫外线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，电阻膜，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：WO2014002679A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/JP2013/065110
申请日：2013-05-30
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：高橋　秀知
IPC分类号： G03F7/32 , C08F20/36 , C08F20/38 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , C08F220/36 , C08F220/38 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/325
摘要：　露光ラチチュード、及び、局所的なパターン寸法の均一性に優れるパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスを提供する。　（ア）環状構造と下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ－１）又は（ＩＩ－２）で表される部分構造とを有する繰り返し単位（ａ）、及び、酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する繰り返し単位（ｂ）を有する樹脂（Ｐ）、並びに、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含む、パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイス。式中、Ａ１及びＡ２は、各々独立に、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－を表す。　Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子又はアルキル基を表す。Ｒ１とＲ２とが互いに結合して環を形成してもよい。　Ｒ３は、水素原子、又は、アルキル基を表す。　＊は、結合手を表す。ただし、上記一般式（ＩＩ－１）における部分構造の２つの結合手は、前記環状構造の環に直接又は間接的に結合し、上記一般式（ＩＩ－２）における部分構造の３つの結合手の内の２つ以上は、前記環状構造の環に直接又は間接的に結合する。
摘要翻译：提供曝光宽容度和局部图案尺寸均匀性优异的图案形成方法，由此使用的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜，电子器件的制造方法和电子器件。一种图案形成方法，包括：（1）使用包含具有循环结构的重复单元（a）和由通式（I）表示的部分结构的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤，（II-1）或（II-2）和在酸的作用下溶解并具有产生极性基团的重复单元（b）的树脂（P）以及化合物（B）通过光化射线或辐射的照射产生酸; （2）曝光胶片的步骤; （3）和使用包含有机溶剂的显影剂流体形成阴图案，由此使用的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物的膜显影的步骤，抗蚀剂膜，电子器件的制造方法，和电子设备。（式（I），（II-1）和（II-2）中，A1和A2各自独立地表示-CO-或-SO2-，R1和R2各自独立地表示氢原子或烷基，R1和 R2可以彼此键合形成环，R3表示氢原子或烷基，星号（*）表示原子键，上述式（II-1）中的部分结构中的两个原子键直接或间接结合到环状结构的环上，上述式（II-2）中的部分结构中的三个原子键中的两个或更多个直接或间接地键合到环状结构的环上。

99. 发明申请

WO2013183532A1 被覆材用樹脂組成物审中-公开
标题翻译：涂料的树脂组合物
公开(公告)号：WO2013183532A1
公开(公告)日：2013-12-12
申请号：PCT/JP2013/065007
申请日：2013-05-30
申请人：電気化学工業株式会社
发明人：後藤　慶次 , 星野　貴子 , 依田　公彦
IPC分类号： C09D4/00 , C08F220/38 , C08F228/06 , C09D4/02 , C09D7/12
CPC分类号： C08F20/38 , C08F28/06 , C09D4/00 , C08F2220/1825 , C08F220/38 , C08F228/06 , C08F2220/185 , C08F2220/301 , C08F220/18
摘要：　高い屈折率と高い透明性を有し且つ溶剤の使用が不要である被覆材用樹脂組成物を提供する。　本発明によれば、（１）（Ａ）成分として、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性官能基を１つ以上有する特定のジナフトチオフェン系化合物、（Ｂ）成分として、１つ以上の芳香環を含有する単官能（メタ）アクリレート、（Ｃ）成分として、光ラジカル重合開始剤、を含有し、前記（Ａ）成分の含有割合が１５～６０質量部の範囲であり、前記（Ｂ）成分の含有割合が４０～８５質量部の範囲であることを特徴とする被覆材用樹脂組成物が提供される。
摘要翻译：提供一种涂料的树脂组合物，其具有高折射率和高透明度，而不需要使用溶剂。本发明提供（1）一种涂料用树脂组合物，其特征在于含有具有一个或多个具有烯属不饱和双键的可聚合官能团（组分（A））的特定二萘并噻吩化合物，单官能（甲基）丙烯酸酯其含有一个或多个芳环（组分（B））和自由基光聚合引发剂（组分（C）），其特征还在于组分（A）的含量比在15-60 质量份，成分（B）的含有比例在40〜85质量份的范围内。

100. 发明申请

WO2013141222A1 レジストパターン形成方法及びフォトレジスト組成物审中-公开
标题翻译：电阻图案形成方法和光电子组成
公开(公告)号：WO2013141222A1
公开(公告)日：2013-09-26
申请号：PCT/JP2013/057751
申请日：2013-03-18
申请人： JSR株式会社
发明人：大▲崎▼　仁視 , 生井　準人 , 峯岸　信也
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/34 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0275 , C08F220/38
摘要：　本発明は、フォトレジスト組成物でレジスト膜を形成する工程、上記レジスト膜を露光する工程、及び上記露光されたレジスト膜を現像する工程を有し、上記フォトレジスト組成物が、露光光の照射によりプロトン酸を発生する酸発生体、及びプロトンと共にカチオン性基を形成する基（ａ）を含む構造単位を有し、酸解離性基を含む構造単位を実質的に有さない重合体を含有するレジストパターン形成方法である。上記基（ａ）が、非共有電子対を有する窒素原子及び非共有電子対を有するリン原子からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。
摘要翻译：本发明是一种抗蚀剂图案形成方法，其包括使用光致抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的步骤，用于曝光抗蚀剂膜的步骤和用于显影曝光的抗蚀剂膜的步骤，所述光致抗蚀剂组合物包含：用曝光光照射时的质子酸; 和具有包含与质子一起形成阳离子基团但基本上不具有含有酸可裂解基团的结构单元的基团（a）的结构单元的聚合物。优选基团（a）含有至少一个选自具有非共享电子对的氮原子和具有非共享电子对的磷原子的原子。

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