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    • 100. 发明申请
    • PSEUDO-SUBSTRAT POUR DISPOSITIF OPTOÉLECTRONIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
    • WO2019129945A1
    • 2019-07-04
    • PCT/FR2018/052936
    • 2018-11-21
    • ALEDIA
    • ROBIN, Ivan-ChristopheNAPIERALA, Jérôme
    • H01L27/15H01L33/12
    • La présente invention concerne un pseudo-substrat(10) pour dispositif optoélectronique (100) adapté à la croissance de diodes électroluminescentes (11, 12, 3) comprenant un substrat (1) et une structure tampon (2) formée sur une face supérieure (1a) du substrat (1). La structure tampon (2) comprend au moins une première partie (21) où une couche (211) formée en nitrure de gallium (GaN)massif délimite au moins une surface libre d'un premier type(210) tournée du côté opposé à la face supérieure (1a) du substrat (1), chaque surface libre du premier type (210) étant adaptée à la croissance sur celle-ci d'au moins une diode électroluminescente (11) majoritairement à base d'un composé III-V apte à émettre de la lumière (L1) à une première longueur d'onde. La structure tampon (2) comprend au moins une deuxième partie (22) où un empilement (221) alternant des couches de nitrure d'indium et de gallium (InGaN)et des couches intermédiaires de GaNet dans lequel l'indium est présent dans une première proportion massique, délimite au moins une surface libre d'un deuxième type (220) tournée du côté opposé à la face supérieure (1a) du substrat (1), chaque surface libre du deuxième type (220) étant adaptée à la croissance sur celle-ci d'au moins une diode électroluminescente (12) majoritairement à base d'un composé III-V apte à émettre de la lumière (L2) à une deuxième longueur d'onde différente de la première longueur d'onde. La deuxième partie (22) de la structure tampon (2) est décalée par rapport à la première partie (21) de la structure tampon (2) dans un plan général (P) orienté parallèlement au plan de la face supérieure (1a) du substrat (1). Il est également décrit un dispositif optoélectronique (100) et un procédé de fabrication.