专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2008016651A2 METHODS AND SYSTEMS FOR PERFORMING LITHOGRAPHY, METHODS FOR ALIGNING OBJECTS RELATIVE TO ONE ANOTHER, AND NANOIMPRINTING MOLDS HAVING NON-MARKING ALIGNMENT FEATURES 审中-公开
标题翻译：用于执行算术的方法和系统，与其他方法对准对象的方法，以及具有非标记对齐特征的纳米粒子
公开(公告)号：WO2008016651A2
公开(公告)日：2008-02-07
申请号：PCT/US2007/017195
申请日：2007-07-30
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P. , PICCIOTTO, Carl , GAO, Jun , WU, Wei , YU, Zhaoning
发明人： PICCIOTTO, Carl , GAO, Jun , WU, Wei , YU, Zhaoning
CPC分类号： G03F9/7092 , G03F9/7038 , G03F9/7042 , G03F9/7088
摘要： Methods of performing lithography include calculating a displacement vector (74) for a lithography tool (50) using an image (60) of a portion of the lithography tool (50) and a portion of a substrate (10) and an additional image (28) of a portion of an additional lithography tool (30) and a portion of the substrate (10). Methods of aligning objects include positioning a second object (30) proximate a first object (10) and acquiring a first image (38) illustrating a feature (32) on a surface of the second object (30) and a feature (18) on a surface of the first object (10). As additional object (50) is positioned proximate the first object (10), and an additional image (60) is acquired that illustrates a feature (52) on a surface of the additional object (50) and the feature (18) on the surface of the first object (10). The additional image (60) is compared with the first image (38). Imprint molds (30, 50) include at least one non-marking reference feature (32, 52) on animprinting surface of the imprint molds (30, 50).
摘要翻译：执行光刻的方法包括使用光刻工具（50）的一部分的图像（60）和基底（10）的一部分和附加图像（28）来计算光刻工具（50）的位移矢量（74））附加光刻工具（30）的一部分和基底（10）的一部分。对准对象的方法包括定位邻近第一物体（10）的第二物体（30）并且获取第二图像（38），该第一图像（38）示出在第二物体（30）的表面上的特征（32）第一物体（10）的表面。随着附加物体（50）被定位在第一物体（10）附近，并且获取附加图像（60），其示出了附加物体（50）的表面上的特征（52）和第一物体（10）的表面。将附加图像（60）与第一图像（38）进行比较。压印模具（30,50）包括在压印模具（30,50）的印模表面上的至少一个非标记参考特征（32,52）。

2. 发明申请

WO2008013886A2 APPARATUS AND METHOD FOR ALIGNMENT USING MULTIPLE WAVELENGTHS OF LIGHT 审中-公开
标题翻译：使用光的多个波长对准的装置和方法
公开(公告)号：WO2008013886A2
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/US2007/016793
申请日：2007-07-25
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P. , WU, Wei , TONG, William , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl
发明人： WU, Wei , TONG, William , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7069 , G03F9/7065 , G03F9/7088
摘要： A method and system are disclosed for aligning a lithography template (120) having a pattern with a sunstrate (130) in preparation for transferring the pattern to a surface of the substrate (130). The system includes an optical imaging system (100) adapted to image a first alignbment structure formed on a top surface of the template (120) using light of a first wavelength and a second alignment structure formed on a top surface of the substrate (130) using light of a second wavelength.
摘要翻译：公开了一种方法和系统，用于对准具有图案的图案的光刻模板（120）以准备将图案转移到衬底（130）的表面。该系统包括光学成像系统（100），其适于使用形成在基板（130）的顶表面上的第一波长的光和第二对准结构对形成在模板（120）的顶表面上的第一对准结构进行成像，使用第二波长的光。

3. 发明申请

WO2008048595A2 LITHOGRAPHY ALIGNMENT SYSTEM AND METHOD USING NDSE-BASED FEEDBACK CONTROL 审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHY对准系统和使用基于NDSE的反馈控制的方法
公开(公告)号：WO2008048595A2
公开(公告)日：2008-04-24
申请号：PCT/US2007/022067
申请日：2007-10-16
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L. P. , PARK, Inkyu , WU, Wei , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl
发明人： PARK, Inkyu , WU, Wei , GAO, Jun , PICCIOTTO, Carl
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F9/7038 , G03F9/7088 , G03F9/7092 , G03F9/7096
摘要： A contact lithography alignment system (500) and methods (100, 200, 400) use nanoscale displacement sensing and estimation (nDSE) 300, 300' to maintain an alignment and compensate for a disturbance of one or more objects (510) during contact lithography. A method (100) of maintaining an alignment includes establishing (110) an initial alignment of one or more objects and employing (120, 200) nDSE-based feedback control of relative positions of one or more of the objects to maintain the alignment during contact lithography. A method (400) of disturbance compensation includes acquiring (410) a first image, acquiring (210, 420) a second image, estimating (220, 430) an alignment error using (120, 200) nDSE applied to the first and second images, and adjusting (230, 440) a relative position to reduce the alignment error. The contact lithography system (500) includes an optical sensor (520), a feedback processor (530, 600) providing nDSE and a position controller (540) that adjusts relative positions of one or more objects to reduce an alignment error determined using the nDSE.
摘要翻译：接触光刻对准系统（500）和方法（100,200,400）使用纳米尺度位移感测和估计（nDSE）300,300'来保持对准并补偿接触光刻期间的一个或多个物体（510）的干扰。保持对准的方法（100）包括建立（110）一个或多个对象的初始对准，并采用（120,200）基于nDSE的反馈控制，以反映一个或多个对象的相对位置以保持接触期间的对准光刻。干扰补偿的方法（400）包括获取（410）第一图像，获取（210,420）第二图像，使用应用于所述第一和第二图像的（120,200）nDSE估计（220,430）对准误差，并调整（230,440）相对位置以减小对准误差。接触光刻系统（500）包括光学传感器（520），提供nDSE的反馈处理器（530,600）和调整一个或多个物体的相对位置以减少使用nDSE确定的对准误差的位置控制器（540）。

4. 发明申请

WO2008045504A2 HYDRAULIC-FACILITATED CONTACT LITHOGRAPHY APPARATUS, SYSTEM AND METHOD 审中-公开
标题翻译：液压辅助接触平面设备，系统和方法
公开(公告)号：WO2008045504A2
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/US2007/021722
申请日：2007-10-10
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. , GAO, Jun , WU, Wei , PICCIOTTO, Carl
发明人： GAO, Jun , WU, Wei , PICCIOTTO, Carl
CPC分类号： G03F7/2014 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： A contact lithography apparatus 100, 220, a system 200 and a method 300 use a hydraulic deformation to facilitate pattern transfer. The apparatus, the system and the method include a spacer 120, 226 that provides a spaced apart proximal orientation of lithographic elements 110, 228a, 130, 228b, and a hydraulic force member 140, 240 that provides the hydraulic deformation. One or more of the lithographic elements and the spacer is deformable, such that hydraulic deformation thereof facilitates the pattern transfer.
摘要翻译：接触式光刻设备100,220，系统200和方法300使用液压变形来促进图案转印。该装置，系统和方法包括隔离物120,226，其提供光刻元件110,228a，130,228b以及提供液压变形的液压力构件140,240的间隔开的近端取向。一个或多个光刻元件和间隔件是可变形的，使得其液压变形有利于图案转印。

5. 发明申请

WO2008014305A2 A MULTI-DIE APPARATUS INCLUDING MOVEABLE PORTIONS 审中-公开
标题翻译：包括可移动部分的多模设备
公开(公告)号：WO2008014305A2
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/US2007/074292
申请日：2007-07-25
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. , HARTWELL, Peter , PICCIOTTO, Carl
发明人： HARTWELL, Peter , PICCIOTTO, Carl
IPC分类号： B81B3/00
CPC分类号： B81C1/0023 , B81B3/0062 , B81B2201/0235 , B81B2201/11 , B81B2207/012 , B82Y10/00 , G01P15/08 , G01P15/125 , G01P15/18 , G11B9/1436
摘要： An electronic apparatus includes a first die, a second die, a third die, and a fourth die (101-104), wherein a portion of the second die (50) and a portion of the third die (150) are movably connected between the first die and the fourth die (101, 104).
摘要翻译：一种电子设备，包括第一裸片，第二裸片，第三裸片和第四裸片（101-104），其中，第二裸片（50）的一部分和第三裸片模具（150）可移动地连接在第一模具和第四模具（101,104）之间。

6. 发明申请

WO2011046552A1 STABILIZED LIGHT SOURCE HAVING LUMINANCE FEEDBACK CONTROL 审中-公开
标题翻译：具有发光反馈控制的稳定光源
公开(公告)号：WO2011046552A1
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：PCT/US2009/060704
申请日：2009-10-14
申请人： HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. , PICCIOTTO, Carl , MONTGOMERY, Glen Eric , DICARLO, Jeffrey
发明人： PICCIOTTO, Carl , MONTGOMERY, Glen Eric , DICARLO, Jeffrey
IPC分类号： H05B37/02 , F21S13/14
CPC分类号： H05B37/0218 , H05B33/0854 , Y02B20/46
摘要： An optical lighting apparatus having a constant luminance with a drive current controlled by a controller unit. A temperature controlled photodetector indirectly monitors the luminance and informs the controller when a change in luminance has occurred so that the controller can make appropriate adjustments to the drive current. Also disclosed is a method of regulating the drive current to a light source to enable the luminance to remain fixed and independent of fluctuations in ambient temperature. A temperature compensated photodetector senses the amount of light reflected off a diffuser lens and feeds back the output to a controller circuit which regulates the drive current to the light source. The lighting apparatus has application in calibrating imaging systems, such as digital cameras, and for scanning devices.
摘要翻译：一种具有由控制器单元控制的驱动电流的恒定亮度的光学照明装置。温度控制光电检测器间接监控亮度，并且当发生亮度变化时通知控制器，从而控制器可以适当地调整驱动电流。还公开了一种调节到光源的驱动电流以使亮度保持固定且与环境温度波动无关的方法。温度补偿光电探测器感测从漫射器透镜反射的光的量并将输出反馈到调节到光源的驱动电流的控制器电路。照明装置可用于校准诸如数码相机的成像系统和扫描装置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式