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热词
    • 7. 发明授权
    • Ferroelectric memory
    • 铁电存储器
    • US07279342B2
    • 2007-10-09
    • US11210010
    • 2005-08-23
    • Mamoru UedaKazuhiro MasudaShinichi Fukada
    • Mamoru UedaKazuhiro MasudaShinichi Fukada
    • H01L21/00
    • H01L27/11502H01L27/11507
    • A ferroelectric memory includes a base member, a first dielectric layer formed above the base member, a second dielectric layer formed above the first dielectric layer, a contact hole that penetrates the first and second dielectric layers, a plug formed in the contact hole, and a barrier layer formed above the plug, and a ferroelectric capacitor formed from a lower electrode, a ferroelectric layer and an upper electrode successively laminated in a region including above the plug. The second dielectric layer has a property that is more difficult to be polished than the plug and the first dielectric layer.
    • 铁电存储器包括基底构件,形成在基底构件上的第一电介质层,形成在第一电介质层上方的第二电介质层,穿透第一和第二电介质层的接触孔,形成在接触孔中的插塞,以及 形成在插塞上方的阻挡层,以及由下电极,强电介质层和上电极形成的强电介质电容器,其连续地层压在包括在插塞上方的区域中。 第二电介质层具有比插塞和第一电介质层更难以抛光的性质。