专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

US5607346A Polishing tool component 失效
标题翻译：抛光工具组件
公开(公告)号：US5607346A
公开(公告)日：1997-03-04
申请号：US367301
申请日：1995-01-11
申请人： Stuart M. Wilson , John S. Sexton , Derek N. Wright
发明人： Stuart M. Wilson , John S. Sexton , Derek N. Wright
IPC分类号： B24D7/18 , B24D7/06 , B24D99/00 , B23F21/03
CPC分类号： B24D99/005 , B24D7/066
摘要： A polishing tool component comprises a carrier and a plurality of spaced abrasive elements located in a surface of the carrier. Each abrasive element presents a working surface having a perimeter which is circular, polygon or of like non-elongate shape, and comprises a mass of abrasive particles such as diamond or cubic boron nitride uniformly dispersed in a bonding matrix. The bonding matrix may be metal, ceramic or polymeric. The working surfaces of the elements together define a working surface for the component. The working surfaces may be located in the surface in which the elements are located, or project beyond that surface.
摘要翻译： PCT No.PCT / GB94 / 01034 Sec。 371 1995年1月11日第 102（e）1995年1月11日PCT PCT 1994年5月13日PCT公布。出版物WO94 / 26470 日期1994年11月24日抛光工具部件包括载体和位于载体的表面中的多个间隔的研磨元件。每个研磨元件具有工作表面，该工作表面具有圆形，多边形或类似非细长形状的周边，并且包括均匀分散在粘结基质中的大量磨料颗粒，例如金刚石或立方氮化硼。键合基质可以是金属，陶瓷或聚合物。元件的工作表面一起定义了组件的工作表面。工作表面可以位于元件所在的表面中，或者突出超过该表面。

2. 发明授权

US5567503A Polishing pad with abrasive particles in a non-porous binder 失效
标题翻译：抛光垫，磨料颗粒在无孔粘合剂中
公开(公告)号：US5567503A
公开(公告)日：1996-10-22
申请号：US308399
申请日：1994-09-19
申请人： John S. Sexton , Derek N. Wright
发明人： John S. Sexton , Derek N. Wright
IPC分类号： B24B7/22 , B24D3/30 , B24D7/00 , B24D7/06 , B24D13/14
CPC分类号： B24D7/066 , B24B7/22 , B24D3/30 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24372 , Y10T428/24488 , Y10T428/2457 , Y10T428/24587 , Y10T428/24612 , Y10T428/24893 , Y10T428/24909 , Y10T428/24926 , Y10T428/25 , Y10T428/252 , Y10T428/26 , Y10T428/268 , Y10T428/30
摘要： A polishing pad comprises a carrier and layer of a non-porous thermoplastic polymer secured to a surface thereof and containing a mass of discrete abrasive particles, comprising diamond or cubic boron nitride, uniformly dispersed therein. The abrasive particles have a particle size of up to 500 microns and are present in the layer in a concentration of up to 30 volume percent. The layer presents an abrasive polishing surface. The abrasive layer may also comprise a plurality of spaced strips secured to a surface of the carrier and each strip presents an abrasive polishing surface.
摘要翻译：抛光垫包括载体和固定到其表面的无孔热塑性聚合物层，并且包含大量分散的研磨颗粒，其包含均匀分散在其中的金刚石或立方氮化硼。研磨颗粒具有高达500微米的粒度，并且以高达30体积％的浓度存在于该层中。该层呈现研磨抛光表面。研磨层还可以包括固定到载体的表面的多个间隔的条，并且每个条呈现研磨抛光表面。

3. 发明授权

US5454752A Abrasive device 失效
标题翻译：磨料装置
公开(公告)号：US5454752A
公开(公告)日：1995-10-03
申请号：US152402
申请日：1993-11-15
申请人： John S. Sexton , Derek N. Wright
发明人： John S. Sexton , Derek N. Wright
IPC分类号： B24D3/00 , B24D3/32 , B24D7/10 , B24D9/08 , B24D11/00 , B24D7/06
CPC分类号： B24D7/10
摘要： The abrasive polishing device has a carrier, typically in the form of a rotatable polishing head (10) and abrasive polishing pads (16) mounted on the carrier. Each polishing pad (16) includes an abrasive body (18) which is provided by a thermoplastic polymer impregnated with ultrahard abrasive particles and which presents an abrasive polishing surface for performing an abrasive polishing action in use. The abrasive body (18) is formed with a regular array of recesses, typically narrow capillarytype passages therein which extend to the abrasive surface. The recesses result in improved cooling of the abrasive layer during a polishing operation.
摘要翻译：研磨抛光装置具有通常为旋转抛光头（10）形式的载体和安装在载体上的研磨抛光垫（16）。每个抛光垫（16）包括研磨体（18），其由浸渍有超硬磨料颗粒的热塑性聚合物提供，并且其呈现用于在使用中进行研磨抛光动作的研磨抛光表面。研磨体（18）形成有规则的凹槽阵列，通常在其中延伸到磨料表面的细毛细管型通道。在抛光操作期间，凹槽导致磨料层的冷却改善。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式