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61. 发明申请

US20120283294A1 CO-CRYSTAL OF 4-FURAN-2(5H)-ONE WITH BENZOIC ACID AND USE THEREOF AS PESTICIDE 审中-公开
标题翻译：具有苯甲酸的4-呋喃-2（5H） - 酮的CO晶体，其作为杀菌剂的用途
公开(公告)号：US20120283294A1
公开(公告)日：2012-11-08
申请号：US13504045
申请日：2010-10-26
申请人： Martin Weiss , Dirk Storch , Wolfgang Wirth , Britta Olenik , Hans-Christoph Weiss , Ulrich Schwiedop
发明人： Martin Weiss , Dirk Storch , Wolfgang Wirth , Britta Olenik , Hans-Christoph Weiss , Ulrich Schwiedop
IPC分类号： C07D405/12 , A01P7/04 , A01P5/00 , A01N43/40
CPC分类号： C07D405/12 , A01N43/40 , A01N25/12 , A01N2300/00
摘要： The invention relates to a new co-crystal of 4-{[(6-chloropyrid-3-yl)methyl](2,2-difluoroethyl)amino} furan-2(5H)-one with benzoic acid, to processes for the preparation thereof and use thereof.
摘要翻译：本发明涉及4 - {[（6-氯吡啶-3-基）甲基]（2,2-二氟乙基）氨基}呋喃-2（5H） - 酮与苯甲酸的新型共晶，用于其制备及其用途。

62. 发明申请

US20120270904A1 CO-CRYSTAL OF 4-FURAN-2(5H)-ONE WITH OXALIC ACID AND USE THEREOF AS PESTICIDE 审中-公开
标题翻译： 4-FURAN-2（5H） - 酮与硝酸的共晶，并用作农药
公开(公告)号：US20120270904A1
公开(公告)日：2012-10-25
申请号：US13504029
申请日：2010-10-26
申请人： Martin Weiss , Dirk Storch , Wolfgang Wirth , Britta Olenik , Ulrich Schwiedop , Hans-Christoph Weiss
发明人： Martin Weiss , Dirk Storch , Wolfgang Wirth , Britta Olenik , Ulrich Schwiedop , Hans-Christoph Weiss
IPC分类号： C07D405/12 , A01P5/00 , A01P7/04 , A01P7/00 , A01N43/40 , A01P15/00
CPC分类号： C07D405/12 , A01N25/12 , A01N43/40 , A01N37/04 , A01N2300/00
摘要： The invention relates to a new co-crystal of 4-{[(6-chloropyrid-3-yl)methyl](2,2-difluoroethyl)amino}furan-2(5H)-one with oxalic acid, and also to processes for preparation thereof and use.
摘要翻译：本发明涉及4 - {[（6-氯吡啶-3-基）甲基]（2,2-二氟乙基）氨基}呋喃-2（5H） - 酮与草酸的新型共晶，还涉及方法用于制备和使用。

63. 发明授权

US08061667B2 Mounting device for bicycle control components 有权
标题翻译：自行车控制部件的安装装置
公开(公告)号：US08061667B2
公开(公告)日：2011-11-22
申请号：US12762155
申请日：2010-04-16
申请人： Martin Weiss , Scott McLaughlin , Paul Feuerstein
发明人： Martin Weiss , Scott McLaughlin , Paul Feuerstein
IPC分类号： A47B96/06
CPC分类号： B62K23/06 , B60T7/102
摘要： A mounting device for mounting first and second bicycle control components to a bicycle handlebar having a handlebar axis. The mounting device generally includes first and second mounting brackets. The first mounting bracket is adjustably mounted to the handlebar about the handlebar axis. One of the first and second bicycle control components is attached to the first mounting bracket. The second mounting bracket is adjustably attached to the first mounting bracket. The other of the first and second bicycle control components is attached to the second mounting bracket. The second mounting bracket is displaced between alternative attachment positions on the first mounting bracket. The first mounting bracket is rotated between alternative mounting positions on the handlebar.
摘要翻译：一种用于将第一和第二自行车控制部件安装到具有把手轴线的自行车把手上的安装装置。安装装置通常包括第一和第二安装支架。第一安装支架可围绕车把轴线可调节地安装到车把上。第一和第二自行车控制部件中的一个附接到第一安装支架。第二安装支架可调节地附接到第一安装支架。第一和第二自行车控制部件中的另一个连接到第二安装支架。第二安装支架在第一安装支架上的替代安装位置之间移动。第一安装支架在手把上的替代安装位置之间旋转。

64. 发明授权

US08058177B2 Winged vias to increase overlay margin 有权
标题翻译：翼形通孔增加覆盖边缘
公开(公告)号：US08058177B2
公开(公告)日：2011-11-15
申请号：US12183518
申请日：2008-07-31
申请人： Martin Weiss , Ruth Brain , Bob Bigwood , Shannon Daviess
发明人： Martin Weiss , Ruth Brain , Bob Bigwood , Shannon Daviess
IPC分类号： H01L21/311
CPC分类号： H01L21/76816 , H01L23/5226 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： Winged via structures to increase overlay margin are generally described. In one example, a method comprises depositing a sacrificial layer to an interlayer dielectric, the interlayer dielectric being coupled with a semiconductor substrate, forming at least one trench structure in the sacrificial layer wherein the trench structure comprises a first direction along a length of the trench structure and a second direction along a width of the trench structure wherein the second direction is substantially perpendicular to the first direction, depositing a light sensitive material to the trench structure and the sacrificial layer, and patterning at least one winged via structure in the light sensitive material to overlay the trench structure wherein the winged via structure extends in the second direction beyond the width of the trench structure onto the sacrificial layer.
摘要翻译：通常通过结构来扩展覆盖边缘。在一个示例中，一种方法包括将牺牲层沉积到层间电介质，层间电介质与半导体衬底耦合，在牺牲层中形成至少一个沟槽结构，其中沟槽结构包括沿沟槽长度的第一方向结构和沿着沟槽结构的宽度的第二方向，其中第二方向基本上垂直于第一方向，将光敏材料沉积到沟槽结构和牺牲层，并且在光敏感中图案化至少一个翼状通孔结构覆盖沟槽结构的材料，其中有翼通孔结构在第二方向上延伸超过沟槽结构的宽度到牺牲层上。

65. 发明申请

US20110224815A1 Industrial Robot And Path Planning Method For Controlling The Movement Of An Industrial Robot 审中-公开
标题翻译：用于控制工业机器人运动的工业机器人和路径规划方法
公开(公告)号：US20110224815A1
公开(公告)日：2011-09-15
申请号：US13122904
申请日：2009-10-05
申请人： Christian Sonner , Martin Weiss , Uwe Zimmermann
发明人： Christian Sonner , Martin Weiss , Uwe Zimmermann
IPC分类号： B25J9/12
CPC分类号： B25J9/1664 , G05B2219/40363 , G05B2219/40416 , G05B2219/45104 , G05B2219/45138
摘要： The invention relates to an industrial robot (1) and to a path planning method for controlling the movement of an industrial robot (1), on the robot arm (2) of which an effector, particularly a remote laser welding device (9), is mounted, said effector being provided for the processing of process points at a predetermined distance (f) to a first defined point (8a) of the industrial robot (1).
摘要翻译：本发明涉及一种工业机器人（1）和用于控制工业机器人（1）在其机器人臂（2）上的运动的路径规划方法，其中，所述机器人臂（2）具有效应器，特别是远程激光焊接装置（9）所述效应器被提供用于处理与工业机器人（1）的第一限定点（8a）预定距离（f）的处理点。

66. 发明授权

US08004678B2 Wafer level alignment structures using subwavelength grating polarizers 有权
标题翻译：使用亚波长光栅偏振器的晶圆级对准结构
公开(公告)号：US08004678B2
公开(公告)日：2011-08-23
申请号：US11823107
申请日：2007-06-26
申请人： Martin Weiss , Brian Kinnear , Telly Koffas , David Fryer , Ming-chuan Yang , William T Blanton
发明人： Martin Weiss , Brian Kinnear , Telly Koffas , David Fryer , Ming-chuan Yang , William T Blanton
IPC分类号： G01B11/00 , G01J4/00
CPC分类号： G03F9/7076 , G03F9/7065
摘要： In one embodiment, a wafer alignment system, comprises a radiation source to generate radiation, a radiation directing assembly to direct at least a portion of the radiation onto a surface of a wafer, the radiation having a polarization state, an optical analyzer to collect at least a portion of the radiation reflected from the wafer, the wafer including at least a first region having a first grating pattern oriented in a first direction and at least a second region having a second grating pattern oriented in a second direction, different from the first direction.
摘要翻译：在一个实施例中，晶片对准系统包括辐射源以产生辐射，辐射导向组件将辐射的至少一部分引导到晶片的表面上，所述辐射具有偏振状态，光学分析器收集在从晶片反射的辐射的至少一部分，晶片至少包括具有沿第一方向取向的第一光栅图案的第一区域和至少第二区域，具有在第二方向上定向的第二光栅图案，第二区域不同于第一方向方向。

67. 发明申请

US20110125320A1 Method And Apparatus For Planning And/Or Control Of A Robot Application 审中-公开
标题翻译：用于规划和/或控制机器人应用的方法和装置
公开(公告)号：US20110125320A1
公开(公告)日：2011-05-26
申请号：US12948967
申请日：2010-11-18
申请人： Thomas Bongardt , Dirk Jacob , Thomas Kohler , Klaus Schlickenrieder , Martin Weiss
发明人： Thomas Bongardt , Dirk Jacob , Thomas Kohler , Klaus Schlickenrieder , Martin Weiss
IPC分类号： B25J9/00
CPC分类号： B25J9/1671 , B25J9/1664 , G05B2219/40446
摘要： A method according to the invention for planning and/or controlling a robot application (1) on the basis of system and/or process parameters (M1, . . . M7, G1, . . . G7, B1, K1, S1, H1, W1, F1, U1, R1), includes these steps: storing parameter values, and planning and/or controlling the application on the basis of stored parameter values, wherein parameters are managed with the aid of a graph structure (FIG. 2).
摘要翻译：根据本发明的用于基于系统和/或过程参数（M1，... M7，G1 ... ... G7，B1，K1，S1，H1）来规划和/或控制机器人应用（1）的方法，W1，F1，U1，R1）包括以下步骤：存储参数值，以及基于存储的参数值来规划和/或控制应用，其中借助于图形结构（图2）来管理参数，。

68. 发明申请

US20100312389A1 Industrial Robot And Method For Controlling The Movement Of An Industrial Robot 有权
标题翻译：用于控制工业机器人运动的工业机器人和方法
公开(公告)号：US20100312389A1
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：US12739552
申请日：2008-10-22
申请人： Martin Weiss , Manfred Hüttenhofer , Andreas Hagenauer , Günther Wiedemann
发明人： Martin Weiss , Manfred Hüttenhofer , Andreas Hagenauer , Günther Wiedemann
IPC分类号： B25J9/00
CPC分类号： B25J9/1656 , G05B2219/34175 , G05B2219/36032 , G05B2219/40395
摘要： The invention relates to an industrial robot (1) having a control apparatus (8), and to a method for controlling the movement of the industrial robot (1). For the purposes of the method, an instruction which is intended for controlling the industrial robot (1) is checked, an interpreted instruction is produced by interpretation of the checked instruction by means of an interpreter (13), and the interpreted instruction is stored in a temporary store (10). This process is repeated until a first keyword is detected. A data record (15) is then produced from the interpreted instructions stored in the temporary store (10), wherein the data record (15) has information relating to at least one path element of a path on which the industrial robot (1) is intended to be moved. The data record (15) is loaded into a buffer store (11), is checked by the buffer store (11) and is interpolated by means of an interpolator (14), in order to move the industrial robot (1) on the path element.
摘要翻译：本发明涉及一种具有控制装置（8）的工业机器人（1）以及用于控制工业机器人（1）的运动的方法。为了方法的目的，检查用于控制工业机器人（1）的指令，通过解释器（13）解释所检查的指令来产生解释的指令，并将解释的指令存储在临时店（10）。重复该过程，直到检测到第一个关键字。然后从存储在临时存储器（10）中的解释指令产生数据记录（15），其中数据记录（15）具有与工业机器人（1）所在的路径的至少一个路径要素有关的信息打算移动。数据记录（15）被加载到缓冲存储器（11）中，由缓冲存储器（11）检查，并通过内插器（14）进行内插，以将工业机器人（1）移动到路径元件。

69. 发明申请

US20100090458A1 Multicoupling Device 审中-公开
标题翻译：多重装置
公开(公告)号：US20100090458A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：US12224747
申请日：2007-02-14
申请人： Winfried Schulz , Hans-Jürgen Claus , Klaus Zoller , Viola Amiridis , Hans-Walter Brenner , Martin Weiss , Monika Scherer
发明人： Winfried Schulz , Hans-Jürgen Claus , Klaus Zoller , Viola Amiridis , Hans-Walter Brenner , Martin Weiss , Monika Scherer
IPC分类号： F16L37/248
CPC分类号： F16L37/248 , F16L37/367 , F16L37/56
摘要： A multiple coupling means for the production of a detachable connection between fluid lines for a fluid pressure medium, said fluid lines being associated with a fluid pressure producer being on the pressure source side and fluid lines associated with at least one fluid load and being on the load side, comprises a first coupling part (12), which has several first fluid ports (13) for the fluid lines on the source side, and a second coupling part (14), which has several fluid ports (15) for the fluid lines on the load side, the two coupling parts (12 and 14) being able to be shifted during a coupling operation by traveling toward each other in the direction of an installation axis (17) into a working position (18), in which a fluid passage through the two coupling parts (12 and 14) is formed and in which the two coupling parts (12 and 14) are secured by means of a holding means (22 and 29) to avoid uncoupling, and a manually operable slide element (19) is provided, which is able to be shifted in an actuation plane extending athwart the installation axis (17) between a coupling/uncoupling position (20) rendering possible coupling and uncoupling of the two coupling parts (12 and 14) and a securing position (21) associated with the working position (18) of the two coupling parts (12 and 14).
摘要翻译：一种用于产生用于流体压力介质的流体管线之间的可拆卸连接的多重联接装置，所述流体管线与在压力源侧的流体压力生产器相关联，并且与至少一个流体负载相关联的流体管线负载侧包括第一联接部分（12），其具有用于源侧的流体管线的多个第一流体端口（13）和具有用于流体的多个流体端口（15）的第二联接部件（14）在两个连接部分（12和14）能够在联接操作期间沿着安装轴线（17）的方向彼此相向地移动到工作位置（18）中，其中，形成通过两个联接部件（12和14）的流体通道，并且其中两个联接部件（12和14）借助于保持装置（22和29）固定以避免脱开，并且可手动操作的滑动元件 19），其能够是s 在安装轴线（17）延伸的联动/非耦合位置（20）之间延伸，使得两个联接部件（12和14）可能的联接和分离，以及与工作位置相关联的固定位置（21） 18）。

70. 发明申请

US20100025858A1 WINGED VIAS TO INCREASE OVERLAY MARGIN 有权
标题翻译： WEDED VIAS增加覆盖面
公开(公告)号：US20100025858A1
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：US12183518
申请日：2008-07-31
申请人： Martin Weiss , Ruth Brain , Bob Bigwood , Shannon Daviess
发明人： Martin Weiss , Ruth Brain , Bob Bigwood , Shannon Daviess
IPC分类号： H01L23/48 , H01L21/44
CPC分类号： H01L21/76816 , H01L23/5226 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： Winged via structures to increase overlay margin are generally described. In one example, a method comprises depositing a sacrificial layer to an interlayer dielectric, the interlayer dielectric being coupled with a semiconductor substrate, forming at least one trench structure in the sacrificial layer wherein the trench structure comprises a first direction along a length of the trench structure and a second direction along a width of the trench structure wherein the second direction is substantially perpendicular to the first direction, depositing a light sensitive material to the trench structure and the sacrificial layer, and patterning at least one winged via structure in the light sensitive material to overlay the trench structure wherein the winged via structure extends in the second direction beyond the width of the trench structure onto the sacrificial layer.
摘要翻译：通常通过结构来扩展覆盖边缘。在一个示例中，一种方法包括将牺牲层沉积到层间电介质，层间电介质与半导体衬底耦合，在牺牲层中形成至少一个沟槽结构，其中沟槽结构包括沿沟槽长度的第一方向结构和沿着沟槽结构的宽度的第二方向，其中第二方向基本上垂直于第一方向，将光敏材料沉积到沟槽结构和牺牲层，并且在光敏感中图案化至少一个翼状通孔结构覆盖沟槽结构的材料，其中有翼通孔结构在第二方向上延伸超过沟槽结构的宽度到牺牲层上。

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