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    • 53. 发明授权
    • 6 alkoxy-4-pyrimidinyl bis-sulfonamides
    • 6烷氧基-4-嘧啶基双磺酰胺
    • US06596719B1
    • 2003-07-22
    • US10031555
    • 2001-08-16
    • Martin BolliChristoph BossMartine ClozelWalter Fischli
    • Martin BolliChristoph BossMartine ClozelWalter Fischli
    • C07D23947
    • C07D239/69C07D401/12
    • The present invention relates to novel bis-sulfonamides represented, for example, by formula I below and a pure diastereomer, a mixture of diastereomers, a diastereomeric racemate, a mixture of diastereomeric racemates and meso-forms and a pharmaceutically acceptable salt thereof, wherein R1 represents aryl; aryl-lower alkyl; aryl-lower alkenyl; heteroaryl; or heteroaryl-lower alkyl; and R2 represents lower alkyl; trifluoromethyl; lower alkoxy-lower alkyl; lower alkenyl; lower alkynyl; aryl; aryl-lower alkyl; aryl-lower alkenyl; heterocyclyl; heterocyclyl-lower alkyl; heteroaryl; heteroaryl-lower alkyl; cycloalkyl; or cycloalkyl-lower alkyl. The present invention also relates to a process for manufacturing those compounds, pharmaceutical compositions containing one or more of those compounds as endothelin antagonists, and a method of treating a subject having a disorder involving endothelin with the compounds of the invention.
    • 本发明涉及例如由下式I表示的新型双磺酰胺和纯非对映异构体,非对映异构体的混合物,非对映体外消旋体,非对映体外消旋体和内消旋体的混合物及其药学上可接受的盐,其中R 1 表示芳基; 芳基 - 低级烷基; 芳基 - 低级烯基; 杂芳基; 或杂芳基 - 低级烷基; 并且R 2表示低级烷基; 三氟甲基 低级烷氧基 - 低级烷基; 低级链烯基 低级炔基 芳基; 芳基 - 低级烷基; 芳基 - 低级烯基; 杂环基 杂环基 - 低级烷基; 杂芳基; 杂芳基 - 低级烷基; 环烷基 或环烷基 - 低级烷基。 本发明还涉及制备这些化合物的方法,含有作为内皮素拮抗剂的那些化合物中的一种或多种的药物组合物,以及本发明化合物治疗患有内皮素疾病的受试者的方法。