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41. 发明授权

US06437178B2 O-aminophenolcarboxylic acid and o-aminothiophenolcarboxylic acid 有权
标题翻译：邻氨基苯甲酸和邻氨基苯硫酚羧酸
公开(公告)号：US06437178B2
公开(公告)日：2002-08-20
申请号：US09901218
申请日：2001-07-09
申请人： Recai Sezi , Michael Keitmann
发明人： Recai Sezi , Michael Keitmann
IPC分类号： C07G22934
CPC分类号： C07D213/643 , C07C69/92 , C07C217/90
摘要： The invention relates to novel o-aminophenolcarboxylic acids or o-aminothiophenolcarboxylic acids of the following structure in which: A1 to A7 are—independently of one another—H, CH3, OCH3, CH2CH3 or OCH2CH3; T is O or S, and m is 0 or 1; Z is a carbocyclic or heterocyclic aromatic radical.
摘要翻译：本发明涉及以下结构的新型邻氨基苯甲酸或邻氨基苯硫酚羧酸，其中：A 1至A 7彼此独立地为H，CH 3，OCH 3，CH 2 CH 3或OCH 2 CH 3; T为O或S，m为0 或1; Z是碳环或杂环芳族基团。

42. 发明授权

US5922825A Preparation of poly-o-hydroxyamides and poly o-mercaptoamides 失效
标题翻译：聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的制备
公开(公告)号：US5922825A
公开(公告)日：1999-07-13
申请号：US705446
申请日：1996-08-29
申请人： Recai Sezi , Hellmut Ahne , Eberhard Kuehn
发明人： Recai Sezi , Hellmut Ahne , Eberhard Kuehn
IPC分类号： C08G69/26 , C08G69/28 , C08G73/06 , C08G73/08 , C08G73/18 , C08G73/22 , C08G75/32 , G03F7/023 , G03F7/037 , C08G64/26
CPC分类号： C08G73/0683 , C08G73/06 , C08G73/0638 , C08G73/0677 , C08G73/08 , C08G73/18 , C08G73/22 , C08G75/32 , G03F7/0233
摘要： In a process for the preparation of poly-o-hydroxyamides and poly-o-mercaptoamides, a bis-o-aminophenol or a bis-o-aminothiophenol is reacted with a dicarboxylic acid derivative with the following structure: ##STR1## where D=O, S, or NH, and where R* is the parent body of the dicarboxylic acid and at least one of the groups R.sup.1 through R.sup.5 is F or CF.sub.3.
摘要翻译：在制备聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的方法中，将双邻氨基苯酚或双邻氨基苯硫酚与具有以下结构的二羧酸衍生物反应：其中D = O，S 或NH，并且其中R *是二羧酸的母体，并且基团R 1至R 5中的至少一个是F或CF 3。

43. 发明授权

US5807969A Preparation of poly-O-hydroxyamides and poly O-mercaptoamides 失效
标题翻译：聚-O-羟基酰胺和聚O-巯基酰胺的制备
公开(公告)号：US5807969A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：US705099
申请日：1996-08-28
申请人： Recai Sezi , Hellmut Ahne , Eberhard Kuehn , Roland Gestigkeit
发明人： Recai Sezi , Hellmut Ahne , Eberhard Kuehn , Roland Gestigkeit
IPC分类号： C08G69/26 , C08G69/28 , C08G69/32 , C08G73/22 , C08G75/32 , G03F7/038 , C08G73/10 , C08G75/04
CPC分类号： G03F7/0387 , C08G69/32 , C08G73/22 , C08G75/32
摘要： In a process for the preparation of poly-o-hydroxyamides and poly-o-mercaptoamides, a bis-o-aminophenol or a bis-o-aminothiophenol is reacted with a dicarboxylic acid derivative with the following structure: M--CO--R*--CO--M where M stands for the residue of an (optionally substituted) 2-hydroxybenzoxazole, 2-hydroxybenzothiazole, or 1-hydroxybenzotriazole or of corresponding mercapto compounds and R* is the parent body of the dicarboxylic acid.
摘要翻译：在制备聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的方法中，将双邻氨基苯酚或双邻氨基苯硫酚与具有以下结构的二羧酸衍生物反应：M-CO-R * -CO-M，其中M代表（任选取代的）2-羟基苯并恶唑，2-羟基苯并噻唑或1-羟基苯并三唑或相应的巯基化合物的残基，R *是二羧酸的母体。

44. 发明授权

US5777066A Method for the production of poly-o-hydroxyamides 失效
标题翻译：生产聚邻羟基酰胺的方法
公开(公告)号：US5777066A
公开(公告)日：1998-07-07
申请号：US666182
申请日：1996-06-19
申请人： Recai Sezi , Hellmut Ahne , Eva Rissel
发明人： Recai Sezi , Hellmut Ahne , Eva Rissel
IPC分类号： C08G69/44 , C08G69/04 , C08G69/26 , C08G73/22 , C08G73/00 , C08G69/08
CPC分类号： C08G69/26 , C08G69/04 , C08G73/22
摘要： A method for producing poly-o-hydroxy amides by conversion of an activated dicarboxylic acid derivative with a bis-o-aminophenol. A solution of the activated dicarboxylic acid derivative is added to a solution of the bis-o-aminophenol in a lactone, and a tertiary amine is added to the resulting mixture, wherein the lactone has the following structure: ##STR1## where A is--(CR.sup.1 R.sup.2).sub.m --or--(CR.sup.3 R.sup.4).sub.n --NR.sup.5 --, R.sup.1 to R.sup.5 are independent of one another R.sup.1 and R.sup.2 are hydrogen, alkyl with 1 to 7 carbon atoms (linear or branched), --CO(CH.sub.2).sub.p CH.sub.3, or --COO(CH.sub.2).sub.p CH.sub.3, with p=0 or 1, R.sup.3 and R.sup.4 are hydrogen or alkyl with 1 to 3 carbon atoms (linear or branched), R.sup.5 is hydrogen or methyl, m is a whole number from 2 to 11, and n is a whole number from 1 to 3.
摘要翻译：通过活性二羧酸衍生物与双邻氨基苯酚的转化制备聚邻羟基酰胺的方法。将活化的二羧酸衍生物的溶液加入到内酯中的双邻氨基苯酚的溶液中，向所得混合物中加入叔胺，其中内酯具有以下结构：其中 A是 - （CR 1 R 2）m - 或 - （CR 3 R 4）n -NR 5 - ，R 1至R 5彼此独立地R 1，R 2是氢，具有1至7个碳原子的直链或支链烷基， pCH 3或-COO（CH 2）p CH 3，其中p = 0或1，R 3和R 4是氢或具有1至3个碳原子的直链或支链的烷基，R 5是氢或甲基，m是从2到 11，n为1〜3的整数。

45. 发明授权

US5726279A Preparation of poly-o-hydroxyamides and poly o-mercaptoamides 失效
标题翻译：聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的制备
公开(公告)号：US5726279A
公开(公告)日：1998-03-10
申请号：US705576
申请日：1996-08-29
申请人： Recai Sezi , Hellmut Ahne
发明人： Recai Sezi , Hellmut Ahne
IPC分类号： C08G69/26 , C08G69/28 , C08G73/06 , C08G73/18 , C08G73/22 , C08G75/32 , G03F7/023 , G03F7/037 , C08G69/08 , C08G73/10
CPC分类号： G03F7/0233 , C08G73/06 , C08G73/0638 , C08G73/0677 , C08G73/0683 , C08G73/18 , C08G73/22 , C08G75/32
摘要： In a process for the preparation of poly-o-hydroxyamides and poly-o-mercaptoamides, a bis-o-aminophenol or a bis-o-aminothiophenol is reacted with a dicarboxylic acid derivative of the following structure: ##STR1## with D=O, S, or NH and where R* is the parent body of the dicarboxylic acid and the groups R.sup.1 through R.sup.4 are H, F, CH.sub.3, or CF.sub.3 (with a maximum of two CH.sub.3 or CF.sub.3 groups).
摘要翻译：在制备聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的方法中，将双邻氨基苯酚或双邻氨基苯硫酚与下列结构的二羧酸衍生物反应：具有D = O，S或NH，其中R *是二羧酸的母体，并且基团R 1至R 4是H，F，CH 3或CF 3（最多两个CH 3或CF 3基团）。

46. 发明授权

US5703186A Mixed polymers 失效
标题翻译：混合聚合物
公开(公告)号：US5703186A
公开(公告)日：1997-12-30
申请号：US717652
申请日：1996-09-23
申请人： Recai Sezi , Horst Borndoerfer , Hellmut Ahne , Siegfried Birkle , Eberhard Kuehn , Rainer Leuschner , Eva Rissel , Michael Sebald
发明人： Recai Sezi , Horst Borndoerfer , Hellmut Ahne , Siegfried Birkle , Eberhard Kuehn , Rainer Leuschner , Eva Rissel , Michael Sebald
IPC分类号： C08F212/32 , C08F12/00 , C08F220/10 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/26 , H01L21/027 , C08F222/04 , C08F222/08
CPC分类号： G03F7/265 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F7/039
摘要： Premixed polymers which can serve as base polymers for high-resolution resists are structured from 40 to 99 mole % of a tert. butyl ester of an unsaturated carboxylic acid and 1 to 60 mole % of an anhydride of an unsaturated carboxylic acid.
摘要翻译：可用作高分辨抗蚀剂的基础聚合物的预混合聚合物的结构为40-99摩尔％的叔丁基。不饱和羧酸的丁酯和1〜60摩尔％的不饱和羧酸酐。

47. 发明授权

US5616667A Copolymers 失效
标题翻译：共聚物
公开(公告)号：US5616667A
公开(公告)日：1997-04-01
申请号：US434955
申请日：1995-05-04
申请人： Recai Sezi , Horst Borndoerfer , Hellmut Ahne , Siegfried Birkle , Eberhard Kuehn , Rainer Leuschner , Eva Rissel , Michael Sebald
发明人： Recai Sezi , Horst Borndoerfer , Hellmut Ahne , Siegfried Birkle , Eberhard Kuehn , Rainer Leuschner , Eva Rissel , Michael Sebald
IPC分类号： C08F212/32 , C08F12/00 , C08F220/10 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/265 , C08F220/18 , C08F222/06 , G03F7/039
摘要： New mixed polymers which can serve as base polymers for high-resolution resists are structured from 40 to 99 mole % of a tert. butyl ester of an unsaturated carboxylic acid and 1 to 60 mole % of an anhydride of an unsaturated carboxylic acid.
摘要翻译：可用作高分辨抗蚀剂的基础聚合物的新型混合聚合物的结构为40-99摩尔％的叔丁基。不饱和羧酸的丁酯和1〜60摩尔％的不饱和羧酸酐。

48. 发明授权

US5262283A Method for producing a resist structure 失效
标题翻译：抗蚀剂结构体的制造方法
公开(公告)号：US5262283A
公开(公告)日：1993-11-16
申请号：US692364
申请日：1991-04-26
申请人： Recai Sezi , Horst Borndorfer , Eva Rissel , Rainer Leuschner , Michael Sebald , Hellmut Ahne , Siegfried Birkle
发明人： Recai Sezi , Horst Borndorfer , Eva Rissel , Rainer Leuschner , Michael Sebald , Hellmut Ahne , Siegfried Birkle
IPC分类号： G03F7/029 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/32 , G03F7/36 , G03F7/38 , H01L21/027 , H01L21/302 , H01L21/3065 , H01L21/312 , G03C5/56
CPC分类号： G03F7/265 , G03F7/039
摘要： High resolution resist structures with steep edges are obtained using standard equipment, with high sensitivity, particularly in the deep UV range. A photoresist layer consisting of a polymer having anhydride groups and blocked imide- or phenolic hydroxyl groups and of a photoactive component which forms a strong acid during irradiation is first deposited on a substrate, followed by irradiation with a patterned image. The irradiated photoresist layer is then treated with a water-based or a water-alcohol-based solution of a polyfunctional amino- or hydroxy-siloxane, and is etched in an oxygen-containing plasma.
摘要翻译：使用标准设备获得具有陡峭边缘的高分辨率抗蚀剂结构，具有高灵敏度，特别是在深紫外范围内。由具有酸酐基和封闭的酰亚胺基或酚羟基的聚合物和在照射期间形成强酸的光活性组分组成的光致抗蚀剂层首先沉积在基底上，随后用图案化图像照射。然后用多官能氨基或羟基 - 硅氧烷的水基或水 - 醇类溶液处理照射的光致抗蚀剂层，并在含氧等离子体中进行蚀刻。

49. 发明授权

US5171656A Photosensitive composition 失效
标题翻译：光敏组合物
公开(公告)号：US5171656A
公开(公告)日：1992-12-15
申请号：US556014
申请日：1990-07-20
申请人： Michael Sebald , Juergen Beck , Rainer Leuschner , Recai Sezi , Hans J. Bestmann
发明人： Michael Sebald , Juergen Beck , Rainer Leuschner , Recai Sezi , Hans J. Bestmann
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , G03F7/075 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0163
摘要： Photosensitive compositions comprising a polymer and a photoactive constituent, which are able to be developed with aqueous, alkaline agents exhibit good bleaching properties in the DUV range, whereby the photoactive constituent has good solubility-inhibiting properties and does not evaporate during the drying process, when the photoactive constituent comprises diazo tetronic acid or a diazo tetronic acid derivative of the following structure: ##STR1## where the residues R are the same or different and signify H, alkyl, cycloalkyl, aryl or a silicon-containing residue.
摘要翻译：包含能够用水性碱性试剂显影的聚合物和光活性成分的光敏性组合物在DUV范围内表现出良好的漂白性能，由此光活性成分具有良好的溶解性抑制性能，并且在干燥过程中不会蒸发，光活性组分包括重氮四氢酸或具有以下结构的重氮四氢酸衍生物：其中残基R相同或不同并且表示H，烷基，环烷基，芳基或含硅残基。

50. 发明授权

US4812200A Method for generating resist structures 失效
标题翻译：生成抗蚀剂结构的方法
公开(公告)号：US4812200A
公开(公告)日：1989-03-14
申请号：US166436
申请日：1988-03-10
申请人： Siegfried Birkle , Recai Sezi , Hans-Dieter Feucht , Rainer Leuschner
发明人： Siegfried Birkle , Recai Sezi , Hans-Dieter Feucht , Rainer Leuschner
IPC分类号： G03C1/72 , G03F7/022 , G03F7/039 , G03F7/075 , H01L21/312 , B44C1/22 , B29C37/00 , C03C15/00 , C03C25/06
CPC分类号： G03F7/0758
摘要： In generating resist structures according to bilayer technology a series of requirements is made of silicon-containing positive resists. The new method is intended to ensure, inter alia, the profile retention respectively the ability of the resist structures to maintain precise dimensions. According to the invention vinyl phenol-vinyl silane copolymers are used as resist materials.
摘要翻译：在根据双层技术生成抗蚀剂结构的过程中，对含硅正性抗蚀剂有一系列要求。新方法旨在确保分别保留抗蚀剂结构保持精确尺寸的能力。根据本发明，使用乙烯基苯酚 - 乙烯基硅烷共聚物作为抗蚀材料。

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