会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 12. 发明申请
    • Chemical-mechanical planarization controller
    • 化学机械平面化控制器
    • US20050143852A1
    • 2005-06-30
    • US10751228
    • 2003-12-30
    • Dirk RooverAbbas Emami-NaeiniJon Ebert
    • Dirk RooverAbbas Emami-NaeiniJon Ebert
    • G05B17/02G06F19/00
    • G05B17/02G05B2219/32342G05B2219/45232Y02P90/26
    • The invention provides a model-based control approach to chemical-mechanical planarization (CMP) control. The preferred embodiment comprises mathematical models of the CMP process. These models play a critical role in obtaining superior control performance. Model-based Control Design involves the construction of a dynamic mathematical model of the system to be controlled, e.g. a removal rate model of a CMP system. The model can then be evaluated via computer simulations, and validated using data from the system. The invention provides a method and apparatus that processes in-situ data from a suite of real-time sensors and produces real-time commands to multiple actuators, such as applied pressures, slurry-flow rate, and wafer/pad velocity. A key aspect of the invention is an integrated model-based pressure-temperature-velocity-slurry flow control system that includes many innovations in real-time mode identification, real-time gain estimation, and real-time control.
    • 本发明提供了一种基于模型的化学机械平面化(CMP)控制方法。 优选实施例包括CMP工艺的数学模型。 这些型号在获得卓越的控制性能方面发挥了关键作用。 基于模型的控制设计涉及构建要控制的系统的动态数学模型,例如, CMP系统的去除率模型。 然后可以通过计算机模拟来评估该模型,并使用系统中的数据进行验证。 本发明提供了一种方法和装置,其处理来自一组实时传感器的原位数据,并向多个致动器(例如施加的压力,浆液流速和晶片/垫速度)产生实时命令。 本发明的一个关键方面是基于模型的压力 - 温度 - 速度 - 浆料流量控制系统,其包括实时模式识别,实时增益估计和实时控制的许多创新。