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1. 发明专利

TWI699813B 訊號帶電粒子偏斜裝置、訊號帶電粒子偵測系統、帶電粒子束裝置以及偵測訊號帶電粒子束的方法有权
简体标题：信号带电粒子偏斜设备、信号带电粒子侦测系统、带电粒子束设备以及侦测信号带电粒子束的方法
公开(公告)号：TWI699813B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW105104785
申请日：2016-02-18
申请人：德商ICT積體電路測試股份有限公司
发明人：費恩克斯馬蒂亞斯 , FIRNKES, MATTHIAS , 拉尼歐史帝芬 , LANIO, STEFAN
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/26 , H01J37/244 , H01J37/153

2. 发明专利

TW202026751A 製造及維護光罩的方法审中-公开
简体标题：制造及维护光罩的方法
公开(公告)号：TW202026751A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108135317
申请日：2019-09-27
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：楊淳復 , YANG, CHUN FU , 許倍誠 , HSU, PEI CHENG , 連大成 , LIEN, TA CHENG , 李信昌 , LEE, HSIN CHANG
IPC分类号： G03F1/22 , G03F1/24 , G03F1/82 , G03F1/84 , G03F1/86 , G03F7/20 , H01J37/26 , H01L21/3105
摘要：一種方法包括將表面上具有污染的光罩放置在電漿處理腔室中。污染的光罩在電漿處理腔室中經由電漿處理，以從表面移除污染。電漿包括氧電漿或氫電漿。
简体摘要：一种方法包括将表面上具有污染的光罩放置在等离子处理腔室中。污染的光罩在等离子处理腔室中经由等离子处理，以从表面移除污染。等离子包括氧等离子或氢等离子。

3. 发明专利

TW202026631A 對顯微鏡影像之智慧型計量审中-公开
简体标题：对显微镜影像之智能型计量
公开(公告)号：TW202026631A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108137011
申请日：2019-10-15
申请人：美商FEI公司 , FEI COMPANY
发明人：雅迪嘉烏梅西 , ADIGA, UMESH
IPC分类号： G01N23/203 , H01J37/26 , G01T1/24 , G06T7/11 , G01Q30/04
摘要：本文揭示之智慧型計量方法及設備處理影像以用於所需特徵之自動計量。一實例方法至少包含：自一影像中提取一感興趣區域，該區域包含不同區段之間的一或多個邊界；基於一或多個濾波器至少增強所提取之感興趣區域；基於增強之感興趣區域產生該感興趣區域之一多尺度資料集；初始化該感興趣區域之一模型；基於該感興趣區域之該模型且進一步基於該多尺度資料集最佳化該增強之感興趣區域內之複數個主動輪廓，最佳化之複數個主動輪廓識別該感興趣區域內之該一或多個邊界；及基於該等所識別之邊界對該感興趣區域執行計量。
简体摘要：本文揭示之智能型计量方法及设备处理影像以用于所需特征之自动计量。一实例方法至少包含：自一影像中提取一感兴趣区域，该区域包含不同区段之间的一或多个边界；基于一或多个滤波器至少增强所提取之感兴趣区域；基于增强之感兴趣区域产生该感兴趣区域之一多尺度数据集；初始化该感兴趣区域之一模型；基于该感兴趣区域之该模型且进一步基于该多尺度数据集最优化该增强之感兴趣区域内之复数个主动轮廓，最优化之复数个主动轮廓识别该感兴趣区域内之该一或多个边界；及基于该等所识别之边界对该感兴趣区域运行计量。

4. 发明专利

TW202015089A 帶電粒子束裝置、用於帶電粒子束裝置的多束消隱器以及用於操作帶電粒子束裝置的方法审中-公开
简体标题：带电粒子束设备、用于带电粒子束设备的多束消隐器以及用于操作带电粒子束设备的方法
公开(公告)号：TW202015089A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108125014
申请日：2019-07-16
申请人：德商ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：庫克班傑明約翰 , COOK, BENJAMIN JOHN , 溫克勒迪特 , WINKLER, DIETER
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/26
摘要：描述了一種用於帶電粒子束裝置的帶電粒子束轉儲器。該束轉儲器包括：環形主體，該環形主體具有內周壁，該內周壁限定用於使該初級帶電粒子子束通過的開口環帶，該環形主體進一步具有外周壁和底壁；環形電極，該環形電極部分地在該環形主體上方，該環形電極具有內周側和外周側，其中該內周側在該環形主體的該內周壁的半徑外。
简体摘要：描述了一种用于带电粒子束设备的带电粒子束转储器。该束转储器包括：环形主体，该环形主体具有内周壁，该内周壁限定用于使该初级带电粒子子束通过的开口环带，该环形主体进一步具有外周壁和底壁；环形电极，该环形电极部分地在该环形主体上方，该环形电极具有内周侧和外周侧，其中该内周侧在该环形主体的该内周壁的半径外。

5. 发明专利

TW201919088A 圖案量測裝置及量測方法审中-公开
简体标题：图案量测设备及量测方法
公开(公告)号：TW201919088A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW107136145
申请日：2018-10-15
申请人：日商日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：孫偉 , SUN, WEI , 早田康成 , SOHDA, YASUNARI , 二宮拓 , NINOMIYA, TAKU , 後藤泰範 , GOTO, YASUNORI
IPC分类号： H01J37/26
摘要：本發明之目的在於提供一種無論深槽或深孔之形成精度如何，均能夠高精度地量測深度及量測立體形狀之圖案量測裝置。為此，本發明之量測裝置係檢測由上述照射產生之來自圖案之反射電子，將來自上述圖案之上表面、底面及側壁之反射電子信號強度進行比較，基於上述上表面及上述下表面之高度之差，算出上述側壁之立體形狀(或高度資訊)。將上述算出之上述側壁之立體形狀與基於一次電子束之強度分佈(孔徑角)推定出之側壁之立體形狀進行比較，基於上述比較之差，修正推定出之側壁之立體形狀，進行上述修正直至比較之差成為容許值為止。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种无论深槽或深孔之形成精度如何，均能够高精度地量测深度及量测三維形状之图案量测设备。为此，本发明之量测设备系检测由上述照射产生之来自图案之反射电子，将来自上述图案之上表面、底面及侧壁之反射电子信号强度进行比较，基于上述上表面及上述下表面之高度之差，算出上述侧壁之三維形状(或高度信息)。将上述算出之上述侧壁之三維形状与基于一次电子束之强度分布(孔径角)推定出之侧壁之三維形状进行比较，基于上述比较之差，修正推定出之侧壁之三維形状，进行上述修正直至比较之差成为容许值为止。

6. 发明专利

TWI642079B 帶電粒子束裝置及試料觀察方法有权
简体标题：带电粒子束设备及试料观察方法
公开(公告)号：TWI642079B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW104102101
申请日：2015-01-22
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人： MAN, XIN
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/26 , H01J37/305

7. 发明专利

TW201841191A 量測方法及系統审中-公开
简体标题：量测方法及系统
公开(公告)号：TW201841191A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107106522
申请日：2018-02-27
申请人：以色列商諾發測量儀器股份有限公司 , NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD.
发明人：瑪莎瓦里阿尼夫拉地米爾 , MACHAVARIANI, VLADIMIR , 希夫林麥可 , SHIFRIN, MICHAEL , 坎德爾丹尼爾 , KANDEL, DANIEL , 庫切羅夫維克特 , KUCHEROV, VICTOR , 吉賽爾門伊格 , ZISELMAN, IGOR , 優雷恩斯基羅內恩 , URENSKI, RONEN , 森德爾巴克馬修 , SENDELBACH, MATTHEW
IPC分类号： H01J37/26 , G01B15/02 , G01N23/225 , H01L21/66
摘要：提出一種控制系統，其用於量測三維圖案化結構的一或多個參數。該控制系統被建構成包含一資料處理器的一電腦系統，該資料處理器被建構成接收並處理原始量測TEM影像資料TEMmeas，且產生表示一圖案化結構之一或多個參數的輸出資料。該資料處理器包含一最佳化模組，其被建構並可操作以利用表示TEM量測模式之一或多個參數的資料，並且根據該圖案化結構之幾何特徵部的一參數化三維模型，在該原始量測TEM影像資料TEMmeas與一預定模擬TEM影像資料TEMsimul之間執行一擬合程序，並產生對應於一最佳擬合條件的模擬影像資料，進而從中決定該結構的該一或多個參數。
简体摘要：提出一种控制系统，其用于量测三维图案化结构的一或多个参数。该控制系统被建构成包含一数据处理器的一电脑系统，该数据处理器被建构成接收并处理原始量测TEM影像数据TEMmeas，且产生表示一图案化结构之一或多个参数的输出数据。该数据处理器包含一最优化模块，其被建构并可操作以利用表示TEM量测模式之一或多个参数的数据，并且根据该图案化结构之几何特征部的一参数化三维模型，在该原始量测TEM影像数据TEMmeas与一预定仿真TEM影像数据TEMsimul之间运行一拟合进程，并产生对应于一最佳拟合条件的仿真影像数据，进而从中决定该结构的该一或多个参数。

8. 发明专利

TW201841182A 用以在真空腔室中控制基板上之電荷的電荷控制設備、帶電粒子束裝置及控制基板上之電荷的方法审中-公开
简体标题：用以在真空腔室中控制基板上之电荷的电荷控制设备、带电粒子束设备及控制基板上之电荷的方法
公开(公告)号：TW201841182A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107104594
申请日：2018-02-09
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：喬斯喬治 , JOST, GEORG , 雷德路維格 , LEDL, LUDWIG , 穆勒博海德 , MUELLER, BERNHARD G. , 曾喬治 , TZENG, GEORGE
IPC分类号： H01J37/02 , H01J37/18 , H01J37/26
摘要：提供一種電荷控制設備，用於控制真空腔室中之一基板上的電荷。設備包括一光源、一鏡及一鏡支撐件。光源發射一輻射束，輻射束具有發散度。鏡係配置以反射輻射束，其中鏡之一鏡表面的曲率係配置以減小輻射束的發散度。鏡支撐件係配置以可旋轉地支撐彎曲的鏡，其中鏡的旋轉改變輻射束的方向。
简体摘要：提供一种电荷控制设备，用于控制真空腔室中之一基板上的电荷。设备包括一光源、一镜及一镜支撑件。光源发射一辐射束，辐射束具有发散度。镜系配置以反射辐射束，其中镜之一镜表面的曲率系配置以减小辐射束的发散度。镜支撑件系配置以可旋转地支撑弯曲的镜，其中镜的旋转改变辐射束的方向。

9. 发明专利

TW201837965A 描繪資料作成方法审中-公开
简体标题：描绘数据作成方法
公开(公告)号：TW201837965A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107104955
申请日：2018-02-12
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：原重博 , HARA, SHIGEHIRO , 安井健一 , YASUI, KENICHI , 加藤靖雄 , KATO, YASUO
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/252 , G03F1/20 , G06F17/50 , H01J37/26 , H01J37/317
摘要：本實施形態的描繪資料作成方法，具備：將設計資料中包含的多角形圖形分割成各至少1組的對邊沿著第1方向平行，並將與該第1方向平行的邊作為共通邊而沿著與該第1方向垂直的第2方向排列連結的複數梯形的工程；當第1梯形、第2梯形、及第3梯形沿著前述第2方向連結時，將該第2梯形與該第3梯形的共通的頂點的位置，以從該第1梯形與該第2梯形的共通的頂點的位置起算的前述第1方向及前述第2方向的變位來表現，而作成前述描繪資料的工程。在前述複數梯形之中至少1個梯形中，在前述第1方向定義不同的劑量。
简体摘要：本实施形态的描绘数据作成方法，具备：将设计数据中包含的多角形图形分割成各至少1组的对边沿着第1方向平行，并将与该第1方向平行的边作为共通边而沿着与该第1方向垂直的第2方向排列链接的复数梯形的工程；当第1梯形、第2梯形、及第3梯形沿着前述第2方向链接时，将该第2梯形与该第3梯形的共通的顶点的位置，以从该第1梯形与该第2梯形的共通的顶点的位置起算的前述第1方向及前述第2方向的变位来表现，而作成前述描绘数据的工程。在前述复数梯形之中至少1个梯形中，在前述第1方向定义不同的剂量。

10. 发明专利

TW201727690A 帶電粒子束透鏡裝置、帶電粒子束柱體、及帶電粒子束曝光裝置审中-公开
简体标题：带电粒子束透镜设备、带电粒子束柱体、及带电粒子束曝光设备
公开(公告)号：TW201727690A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105134224
申请日：2016-10-24
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：阿部智彥 , ABE, TOMOHIKO , 小島真一 , KOJIMA, SHINICHI
IPC分类号： H01J37/26 , H01L21/027 , H01J37/141 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/14 , H01J37/141 , H01J37/3174 , H01J2237/002 , H01J2237/20285 , H01J2237/31774
摘要：本發明所要解決的問題在於提供一種小型且解析度高的帶電粒子束透鏡裝置、以及帶電粒子束柱體和帶電粒子束曝光裝置。為了解決此問題，本發明提供一種帶電粒子束透鏡裝置，具備：透鏡部，其被形成在使帶電粒子束通過的貫通孔的周圍，且使帶電粒子束收斂或擴散；及，支持部，其圍繞透鏡部的外周；其中，在透鏡部中的與支持部連接的外周部分及在支持部中的與透鏡部連接的內周部分的至少一方具有溝部，該溝部用以使冷卻用液體沿著透鏡部的外周流動。藉此，可以提供一種小型且解析度高的帶電粒子束透鏡裝置。
简体摘要：本发明所要解决的问题在于提供一种小型且分辨率高的带电粒子束透镜设备、以及带电粒子束柱体和带电粒子束曝光设备。为了解决此问题，本发明提供一种带电粒子束透镜设备，具备：透镜部，其被形成在使带电粒子束通过的贯通孔的周围，且使带电粒子束收敛或扩散；及，支持部，其围绕透镜部的外周；其中，在透镜部中的与支持部连接的外周部分及在支持部中的与透镜部连接的内周部分的至少一方具有沟部，该沟部用以使冷却用液体沿着透镜部的外周流动。借此，可以提供一种小型且分辨率高的带电粒子束透镜设备。

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