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    • 5. 发明专利
    • 電漿處理裝置
    • 等离子处理设备
    • TW201826313A
    • 2018-07-16
    • TW106140656
    • 2017-11-23
    • 日商東京威力科創股份有限公司TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 金子和史KANEKO, KAZUSHI長谷川貴志HASEGAWA, TAKASHI小山紘司KOYAMA, KOJI松本直樹MATSUMOTO, NAOKI
    • H01J37/02H01J37/244H01J37/304H01J37/32
    • 本發明之課題係不對電漿賦予擾動而運算出吸收頻率。 本發明之電漿處理裝置具備:微波輸出部,其使具有與設定功率相應的功率之微波於設定頻率範圍內一邊調頻一邊輸出;波導管,其將由微波輸出部輸出之微波導向腔室本體之天線;調諧器,其設置於波導管,以將微波輸出部側之阻抗與天線側之阻抗匹配之方式調整可動板之位置;解調部,其設置於波導管,且對於每一頻率獲取於波導管內行進之行波之功率即行波功率、及來自天線側之反射波之功率即反射波功率;及運算部,其運算基於行波功率及反射波功率運算出之每一頻率之反射係數成為極小點之頻率作為吸收頻率。
    • 本发明之课题系不对等离子赋予扰动而运算出吸收频率。 本发明之等离子处理设备具备:微波输出部,其使具有与设置功率相应的功率之微波于设置频率范围内一边调频一边输出;波导管,其将由微波输出部输出之微波导向腔室本体之天线;调谐器,其设置于波导管,以将微波输出部侧之阻抗与天线侧之阻抗匹配之方式调整可动板之位置;解调部,其设置于波导管,且对于每一频率获取于波导管内行进之行波之功率即行波功率、及来自天线侧之反射波之功率即反射波功率;及运算部,其运算基于行波功率及反射波功率运算出之每一频率之反射系数成为极小点之频率作为吸收频率。