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1. 发明专利

TW201606334A 光學元件、光學操縱器、投射鏡頭與投射曝光裝置审中-公开
简体标题：光学组件、光学操纵器、投射镜头与投射曝光设备
公开(公告)号：TW201606334A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104121080
申请日：2015-06-30
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：伊凡艾瑞克 , EVA, ERIC
IPC分类号： G02B1/00 , G02B26/06 , G02B5/04 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , C03C3/06 , C03C4/0085 , G03F7/70266
摘要：本發明關於由熔融矽石所製成的一光學元件(OE)，其具有在一厚度方向(z)為連續的一內部區域(FP)，該內部區域由在厚度方向(z)為連續的一環形邊緣區域(BA)所環繞，其中在環形邊緣區域(BA)中的一氫含量([H2])小於在內部區域(FP)中的一氫含量([H2])。本發明也關於具有此一光學元件(OE)的一光學操縱器、具有至少一個這類光學操縱器的一投射鏡頭、以及具有此一投射鏡頭的一投射曝光裝置。
简体摘要：本发明关于由熔融硅石所制成的一光学组件(OE)，其具有在一厚度方向(z)为连续的一内部区域(FP)，该内部区域由在厚度方向(z)为连续的一环形边缘区域(BA)所环绕，其中在环形边缘区域(BA)中的一氢含量([H2])小于在内部区域(FP)中的一氢含量([H2])。本发明也关于具有此一光学组件(OE)的一光学操纵器、具有至少一个这类光学操纵器的一投射镜头、以及具有此一投射镜头的一投射曝光设备。

2. 发明专利

TW201602635A 光學操縱器、投影透鏡及投影曝光裝置审中-公开
简体标题：光学操纵器、投影透镜及投影曝光设备
公开(公告)号：TW201602635A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104121075
申请日：2015-06-30
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：伊凡艾瑞克 , EVA, ERIC
IPC分类号： G02B26/06 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B3/12 , G02B7/028 , G02B13/16 , G02B27/0031 , G02B27/0068 , G03F7/70266 , G03F7/70308 , G03F7/70958
摘要：本發明係關於一種光學操縱器(MAN)，包含：一光學元件(OE)，特別是由熔合矽石所組成；以及一致動裝置(DR)，用於可逆地改變該光學元件(OE)之表面形態(SF)，其中該致動裝置(DR)具有用於在複數接觸面積(K)的該光學元件(OE)上機械地作用的複數致動器(AK)。於至少在該等致動器(AK)之該等接觸面積之區域中的作用區域處，將該光學元件(OE)預加應力至大於1MPa之壓縮應力(S)，較佳為大於100MPa，特別較佳為大於500MPa。本發明亦關於一種包含至少一個此種光學操縱器(MAN)的投影透鏡、一種包含此種投影透鏡的投影曝光裝置、以及一種用於製造此種光學操縱器(MAN)的方法。
简体摘要：本发明系关于一种光学操纵器(MAN)，包含：一光学组件(OE)，特别是由熔合硅石所组成；以及一致动设备(DR)，用于可逆地改变该光学组件(OE)之表面形态(SF)，其中该致动设备(DR)具有用于在复数接触面积(K)的该光学组件(OE)上机械地作用的复数致动器(AK)。于至少在该等致动器(AK)之该等接触面积之区域中的作用区域处，将该光学组件(OE)预加应力至大于1MPa之压缩应力(S)，较佳为大于100MPa，特别较佳为大于500MPa。本发明亦关于一种包含至少一个此种光学操纵器(MAN)的投影透镜、一种包含此种投影透镜的投影曝光设备、以及一种用于制造此种光学操纵器(MAN)的方法。

3. 发明专利

TWI497110B 類比干涉調變器有权
简体标题：模拟干涉调制器
公开(公告)号：TWI497110B
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW099119566
申请日：2010-06-15
申请人：高通微機電系統科技公司 , QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：李忠U , LEE, CHONG U. , 洪約翰H , HONG, JOHN H. , 米格納德馬克M , MIGNARD, MARC M. , 葛微爾阿洛克 , GOVIL, ALOK
IPC分类号： G02B26/06 , G02B26/02
CPC分类号： G02B26/001 , G09G3/3466 , G09G2320/0693

4. 发明专利

TWI698660B 光學相位差構件、具備光學相位差構件之複合光學構件、及光學相位差構件之製造方法有权
简体标题：光学相位差构件、具备光学相位差构件之复合光学构件、及光学相位差构件之制造方法
公开(公告)号：TWI698660B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW106107786
申请日：2017-03-09
申请人：日商捷客斯能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：後藤正直 , GOTO, MASANAO , 須崎吾郎 , SUZAKI, GOROU , 田中大直 , TANAKA, HIRONAO
IPC分类号： G02B26/06 , G02B5/30 , G02B1/02

5. 发明专利

TW201947276A 超穎鏡單元、半導體故障解析裝置及半導體故障解析方法审中-公开
简体标题：超颖镜单元、半导体故障解析设备及半导体故障解析方法
公开(公告)号：TW201947276A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108115717
申请日：2019-05-07
申请人：日商濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：上野山聡 , UENOYAMA, SOH , 瀧口優 , TAKIGUCHI, YUU , 寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI
IPC分类号： G02B21/00 , G02B26/06 , G02B7/02 , G01N21/956
摘要：本揭示係關於一種包含具備可用以實現薄型化之構造之超穎鏡的超穎鏡單元等。該超穎鏡單元具備超穎鏡及超穎鏡用保持部。超穎鏡具備基部及第1天線部分。第1天線部分由具有第1折射率之複數條第1天線、及具有第2折射率且位於複數條第1天線之間之第1中間部構成。第1天線部分構成為：由複數個第1天線端面中之若干端面構成之一維排列，包含端面之大小、端面之形狀、及排列間距之至少任一者沿基準線變化之圖案。
简体摘要：本揭示系关于一种包含具备可用以实现薄型化之构造之超颖镜的超颖镜单元等。该超颖镜单元具备超颖镜及超颖镜用保持部。超颖镜具备基部及第1天线部分。第1天线部分由具有第1折射率之复数条第1天线、及具有第2折射率且位于复数条第1天线之间之第1中间部构成。第1天线部分构成为：由复数个第1天线端面中之若干端面构成之一维排列，包含端面之大小、端面之形状、及排列间距之至少任一者沿基准线变化之图案。

6. 发明专利

TWI595329B 具有波前光學操縱器的投影透鏡、投影曝光方法、與投影曝光裝置有权
简体标题：具有波前光学操纵器的投影透镜、投影曝光方法、与投影曝光设备
公开(公告)号：TWI595329B
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：TW105114853
申请日：2016-05-13
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：畢特納鮑瑞斯 , BITTNER, BORIS , 瓦伯拉諾伯特 , WABRA, NORBERT , 舒納德桑賈 , SCHNEIDER, SONJA , 舒納德瑞卡達 , SCHNEIDER, RICARDA
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/14 , G02B26/06
CPC分类号： G03F7/70266 , G02B13/143 , G02B27/0068 , G03F7/70258 , G03F7/70308

7. 发明专利

TW201516461A ＥＵＶ反射鏡、包含ＥＵＶ反射鏡之光學系統以及操作包含ＥＵＶ反射鏡之光學系統的方法审中-公开
简体标题：ＥＵＶ反射镜、包含ＥＵＶ反射镜之光学系统以及操作包含ＥＵＶ反射镜之光学系统的方法
公开(公告)号：TW201516461A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW104101922
申请日：2012-03-22
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：丁傑烏杜 , DINGER, UDO , 畢可克佛德列克 , BIJKERK, FREDERIK , 貝拉塔慕哈雷 , BAYRAKTAR, MUHARREM , 迪爾奧立弗 , DIER, OLIVER
IPC分类号： G02B26/06 , G02B5/08 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70075 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G21K2201/067
摘要：本發明揭示一種EUV反射鏡配置(100)，其具有彼此並排配置及共同形成反射鏡配置之鏡面的多個反射鏡元件(110、111、112)。每個反射鏡元件具有一基板(120)及塗覆在該基板上且對極紫外線範圍(EUV)之輻射具有反射效應的一多層配置(130)，該多層配置包含多個層對(135)，該等層對具有由一高折射率層材料及一低折射率層材料構成的交替層。該多層配置具有一活性層(140)，其配置在輻射進入表面及基板之間且由一壓電活性層材料組成，可利用電場的作用更改該活性層的層厚度(z)。對於每個活性層，供應一電極配置以產生對該活性層起作用的電場。
简体摘要：本发明揭示一种EUV反射镜配置(100)，其具有彼此并排配置及共同形成反射镜配置之镜面的多个反射镜组件(110、111、112)。每个反射镜组件具有一基板(120)及涂覆在该基板上且对极紫外线范围(EUV)之辐射具有反射效应的一多层配置(130)，该多层配置包含多个层对(135)，该等层对具有由一高折射率层材料及一低折射率层材料构成的交替层。该多层配置具有一活性层(140)，其配置在辐射进入表面及基板之间且由一压电活性层材料组成，可利用电场的作用更改该活性层的层厚度(z)。对于每个活性层，供应一电极配置以产生对该活性层起作用的电场。

8. 发明专利

TW201305601A ＥＵＶ反射鏡配置、包含ＥＵＶ反射鏡配置之光學系統以及操作包含ＥＵＶ反射鏡配置之光學系統的方法审中-公开
简体标题：ＥＵＶ反射镜配置、包含ＥＵＶ反射镜配置之光学系统以及操作包含ＥＵＶ反射镜配置之光学系统的方法
公开(公告)号：TW201305601A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101109813
申请日：2012-03-22
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：丁傑烏杜 , DINGER, UDO , 畢可克佛德列克 , BIJKERK, FREDERIK , 貝拉塔慕哈雷 , BAYRAKTAR, MUHARREM , 迪爾奧立弗 , DIER, OLIVER
IPC分类号： G02B26/06 , G02B5/08 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G21K1/062 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G03F7/70075 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G21K2201/067
摘要：本發明揭示一種EUV反射鏡配置(100)，其具有彼此並排配置及共同形成反射鏡配置之鏡面的多個反射鏡元件(110、111、112)。每個反射鏡元件具有一基板(120)及塗覆在該基板上且對極紫外線範圍(EUV)之輻射具有反射效應的一多層配置(130)，該多層配置包含多個層對(135)，該等層對具有由一高折射率層材料及一低折射率層材料構成的交替層。該多層配置具有一活性層(140)，其配置在輻射進入表面及基板之間且由一壓電活性層材料組成，可利用電場的作用更改該活性層的層厚度(z)。對於每個活性層，供應一電極配置以產生對該活性層起作用的電場。
简体摘要：本发明揭示一种EUV反射镜配置(100)，其具有彼此并排配置及共同形成反射镜配置之镜面的多个反射镜组件(110、111、112)。每个反射镜组件具有一基板(120)及涂覆在该基板上且对极紫外线范围(EUV)之辐射具有反射效应的一多层配置(130)，该多层配置包含多个层对(135)，该等层对具有由一高折射率层材料及一低折射率层材料构成的交替层。该多层配置具有一活性层(140)，其配置在辐射进入表面及基板之间且由一压电活性层材料组成，可利用电场的作用更改该活性层的层厚度(z)。对于每个活性层，供应一电极配置以产生对该活性层起作用的电场。

9. 发明专利

TWI680307B 白光光源系統有权
简体标题：白光光源系统
公开(公告)号：TWI680307B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW108106315
申请日：2019-02-25
申请人：台灣彩光科技股份有限公司 , TAIWAN COLOR OPTICS, INC.
发明人：王志峰 , WANG, CHIH FENG , 張永朋 , CHANG, YUNG PENG , 陳信安 , CHEN, HSIN AN , 張世欣 , CHANG, SHIH HSIN
IPC分类号： G02B26/06 , G03B21/14

10. 发明专利

TW201736902A 光學相位差構件、具備光學相位差構件之複合光學構件、及光學相位差構件之製造方法审中-公开
简体标题：光学相位差构件、具备光学相位差构件之复合光学构件、及光学相位差构件之制造方法
公开(公告)号：TW201736902A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW106107786
申请日：2017-03-09
申请人：捷客斯能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：後藤正直 , GOTO, MASANAO , 須崎吾郎 , SUZAKI, GOROU , 田中大直 , TANAKA, HIRONAO
IPC分类号： G02B26/06 , G02B5/30 , G02B1/02
CPC分类号： C23C14/02 , C23C16/02 , G02B5/30 , G11B7/1367
摘要：光學相位差構件100具備：透明基體40，其具有凹凸圖案80；被覆層30，其被覆上述凹凸圖案80之凹部70及凸部60；間隙部90，其被隔於由上述被覆層30被覆之上述凹凸圖案80之上述凸部60之間；及密閉層20，其以連結上述凹凸圖案80之上述凸部60之頂部60t且密閉上述間隙部90之方式，設置於上述凹凸圖案80之上部；且於波長550nm，上述凸部60之折射率n1及上述被覆層30之折射率n2滿足n2-n1≦0.8。光學相位差構件100具有逆頻散之相位差特性，並且視野角寬廣。
简体摘要：光学相位差构件100具备：透明基体40，其具有凹凸图案80；被覆层30，其被复上述凹凸图案80之凹部70及凸部60；间隙部90，其被隔于由上述被覆层30被覆之上述凹凸图案80之上述凸部60之间；及密闭层20，其以链接上述凹凸图案80之上述凸部60之顶部60t且密闭上述间隙部90之方式，设置于上述凹凸图案80之上部；且于波长550nm，上述凸部60之折射率n1及上述被覆层30之折射率n2满足n2-n1≦0.8。光学相位差构件100具有逆频散之相位差特性，并且视野角宽广。

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