专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW202030483A 探測頭保護裝置以及包含其之探測裝置审中-公开
简体标题：探测头保护设备以及包含其之探测设备
公开(公告)号：TW202030483A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108103980
申请日：2019-02-01
申请人：佳世達科技股份有限公司 , QISDA CORPORATION
发明人：王俊傑 , WANG, CHUN CHIEH , 翁虹妗 , WENG, HUNG CHIN , 宋沛倫 , SONG, PEI LUN
IPC分类号： G01R1/04 , G01R1/06
摘要：本發明提出一種探測頭保護裝置以及包含其之探測裝置。探測頭保護裝置與具有探測面之探測頭配合使用，且探測裝置包含探測頭保護裝置及探測頭。其中，探測頭保護裝置包含：設置至少部分圍繞探測頭之保護套；以及連接於探測頭上之基座。基座與保護套可滑動地套合，且保護套相對基座可滑動於第一位置及第二位置之間。當保護套位於第一位置時，探測面在保護套外部並抵接待探測之測量面；且當保護套位於第二位置時，探測面縮入保護套內。
简体摘要：本发明提出一种探测头保护设备以及包含其之探测设备。探测头保护设备与具有探测面之探测头配合使用，且探测设备包含探测头保护设备及探测头。其中，探测头保护设备包含：设置至少部分围绕探测头之保护套；以及连接于探测头上之基座。基座与保护套可滑动地套合，且保护套相对基座可滑动于第一位置及第二位置之间。当保护套位于第一位置时，探测面在保护套外部并抵接待探测之测量面；且当保护套位于第二位置时，探测面缩入保护套内。

2. 发明专利

TW202022384A 檢查裝置及檢查方法审中-公开
简体标题：检查设备及检查方法
公开(公告)号：TW202022384A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108126707
申请日：2019-07-29
申请人：日商日本麥克隆尼股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA NIHON MICRONICS
发明人：深見美行 , FUKAMI, YOSHIYUKI
IPC分类号： G01R1/06 , G01R31/02 , G01R31/28
摘要：本發明的課題，係考慮探針的接觸目標即電極端子的尺寸資訊，使可動軸驅動部的動作速度可變，以縮短檢查時間。　　本發明的解決手段是一種檢查裝置，係具有複數可動探針，使各可動探針分別接觸被檢查基板上的複數檢查對象物，以測定複數檢查對象物之間的電氣特性的檢查裝置，具備：支持各可動探針，使各可動探針往複數軸方向移動，將各可動探針定位於檢查對象物的位置，使各可動探針接觸檢查對象物的複數可動部、驅動使各可動探針移動的各可動部的驅動部、及因應作為各可動探針的下個接觸目標之檢查對象物的尺寸資訊，控制使各可動探針移動之各可動部的動作速度的驅動控制部。
简体摘要：本发明的课题，系考虑探针的接触目标即电极端子的尺寸信息，使可动轴驱动部的动作速度可变，以缩短检查时间。　　本发明的解决手段是一种检查设备，系具有复数可动探针，使各可动探针分别接触被检查基板上的复数检查对象物，以测定复数检查对象物之间的电气特性的检查设备，具备：支持各可动探针，使各可动探针往复数轴方向移动，将各可动探针定位于检查对象物的位置，使各可动探针接触检查对象物的复数可动部、驱动使各可动探针移动的各可动部的驱动部、及因应作为各可动探针的下个接触目标之检查对象物的尺寸信息，控制使各可动探针移动之各可动部的动作速度的驱动控制部。

3. 发明专利

TWI688133B 微陣列及其形成方法有权
简体标题：微数组及其形成方法
公开(公告)号：TWI688133B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW107142207
申请日：2018-11-27
申请人：台灣生捷科技股份有限公司 , CENTRILLION TECHNOLOGIES TAIWAN CO. LTD.
发明人：顧子琨 , KU, TZU-KUN , 鍾曜光 , CHUNG, YAO-KUANG , 張鈞豪 , CHANG, CHUN-HAO
IPC分类号： H01L49/00 , G01R1/06 , G01N33/48

4. 发明专利

TW202007972A 水平式雙面探針設備审中-公开
简体标题：水平式双面探针设备
公开(公告)号：TW202007972A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW107124894
申请日：2018-07-19
申请人：佳思科技有限公司
发明人：邱邦誠 , 黃榮書 , 郭俊廷
IPC分类号： G01R1/06 , G01R31/26
摘要：本創作係一種水平式雙面探針設備，其包含一機台、至少一下測單元及至少一上測單元，機台包含一基座、二下滑軌及二上滑軌，下滑軌及上滑軌皆位於基座的頂面，每一下測單元包含一下座軌及至少一下探針件，下座軌可滑動地位於下滑軌，下探針件可滑動地設於下座軌，每一上測單元包含一上座軌及至少一上探針件，上座軌可滑動地位於上滑軌，上探針件可滑動地設於上座軌，本創作水平式雙面探針設備藉由下測單元及上測單元同時檢測載板的頂面及底面，並藉由高頻信號校正手法以及水平式頂面與底面直通校正器進行信號校正，減少誤差提高檢測精準度。
简体摘要：本创作系一种水平式双面探针设备，其包含一机台、至少一下测单元及至少一上测单元，机台包含一基座、二下滑轨及二上滑轨，下滑轨及上滑轨皆位于基座的顶面，每一下测单元包含一下座轨及至少一下探针件，下座轨可滑动地位于下滑轨，下探针件可滑动地设于下座轨，每一上测单元包含一上座轨及至少一上探针件，上座轨可滑动地位于上滑轨，上探针件可滑动地设于上座轨，本创作水平式双面探针设备借由下测单元及上测单元同时检测载板的顶面及底面，并借由高频信号校正手法以及水平式顶面与底面直通校正器进行信号校正，减少误差提高检测精准度。

5. 发明专利

TWI682181B 控制基板溫度裝置及對應製造方法有权
简体标题：控制基板温度设备及对应制造方法
公开(公告)号：TWI682181B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW107101461
申请日：2018-01-15
申请人：德商ERS電力公司 , ERS ELECTRONIC GMBH
发明人：雷廷格克萊門斯 , REITINGER, KLEMENS
IPC分类号： G01R1/42 , G01R1/10 , G01R1/06

6. 发明专利

TWI682179B 電連接組件有权
简体标题：电连接组件
公开(公告)号：TWI682179B
公开(公告)日：2020-01-11
申请号：TW108119126
申请日：2019-06-03
申请人：中國探針股份有限公司 , C.C.P.CONTACT PROBES CO,.LTD
发明人：吳樹林 , WU, SHU-LIN , 林彥維 , LIN, YEN-WEI , 陳威助 , CHEN, WEI-CHU , 蔡伯晨 , TSAI, BOR-CHEN
IPC分类号： G01R1/06 , G01R1/14

7. 发明专利

TWI670501B 探針卡更換後機構位置之補正方法及其量測裝置有权
简体标题：探针卡更换后机构位置之补正方法及其量测设备
公开(公告)号：TWI670501B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW107124723
申请日：2018-07-18
申请人：均豪精密工業股份有限公司 , GALLANT PRECISION MACHINING CO., LTD.
发明人：李茂衫 , LEE, MAO-SHAN , 吳松霖 , WU, SUNG-LIN , 吳振文 , WU, CHENG-WEN
IPC分类号： G01R1/06 , G01R1/067

8. 发明专利

TWI665448B 高頻探針卡裝置及其信號傳輸模組有权
简体标题：高频探针卡设备及其信号传输模块
公开(公告)号：TWI665448B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW107124280
申请日：2018-07-13
申请人：中華精測科技股份有限公司 , CHUNGHWA PRECISION TEST TECH. CO., LTD.
发明人：李文聰 , LEE, WEN TSUNG , 謝開傑 , HSIEH, KAI CHIEH
IPC分类号： G01R1/06 , G01R31/28

9. 发明专利

TW201918709A 檢查用基板及附導電保護部檢查用基板之製造方法审中-公开
简体标题：检查用基板及附导电保护部检查用基板之制造方法
公开(公告)号：TW201918709A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW107126523
申请日：2018-07-31
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：柴田周作 , SHIBATA, SHUSAKU , 高倉隼人 , TAKAKURA, HAYATO , 髙野誉大 , TAKANO, TAKAHIRO , 若木秀一 , WAKAKI, SHUICHI
IPC分类号： G01R1/06 , G01R1/073 , H01R11/01 , H05K1/02
CPC分类号： G01R1/06 , G01R1/073 , H01R11/01 , H05K1/02
摘要：本發明之檢查用基板係用以使分別配置於厚度方向一側及另一側之檢查裝置及被檢查裝置於厚度方向上導通者。檢查用基板包含：絕緣層；及複數個導通部，其等貫通絕緣層之厚度方向，且在相對於厚度方向之正交方向上相互隔開間隔配置。絕緣層被覆複數個導通部之各者之周緣部之厚度方向一面。絕緣層包含：對向部，其相對於周緣部配置於厚度方向一側，且與周緣部對向；及連結部，其係配置於相鄰之對向部之間，且將相鄰之對向部於正交方向上連結。對向部之厚度方向一面與連結部之厚度方向一面於厚度方向上之位階差D為5 μm以下。
简体摘要：本发明之检查用基板系用以使分别配置于厚度方向一侧及另一侧之检查设备及被检查设备于厚度方向上导通者。检查用基板包含：绝缘层；及复数个导通部，其等贯通绝缘层之厚度方向，且在相对于厚度方向之正交方向上相互隔开间隔配置。绝缘层被覆复数个导通部之各者之周缘部之厚度方向一面。绝缘层包含：对向部，其相对于周缘部配置于厚度方向一侧，且与周缘部对向；及链接部，其系配置于相邻之对向部之间，且将相邻之对向部于正交方向上链接。对向部之厚度方向一面与链接部之厚度方向一面于厚度方向上之位阶差D为5 μm以下。

10. 发明专利

TWI640781B 檢測用接觸件及具有該接觸件的檢測夾具與檢測用接觸件的製造方法有权
简体标题：检测用接触件及具有该接触件的检测夹具与检测用接触件的制造方法
公开(公告)号：TWI640781B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW104103813
申请日：2015-02-05
申请人：日商日本電產理德股份有限公司 , NIDEC-READ CORPORATION
发明人：藤野真 , FUJINO, MAKOTO , 宮武忠數 , MIYATAKE, TADAKAZU
IPC分类号： G01R1/06

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式