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1. 发明专利

TWI571623B 流體中之微粒子檢測裝置及檢測方法有权
简体标题：流体中之微粒子检测设备及检测方法
公开(公告)号：TWI571623B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW100125844
申请日：2011-07-21
申请人：奧璐佳瑙股份有限公司 , ORGANO CORPORATION
发明人：市原史貴 , ICHIHARA, FUMITAKA , 菅原廣 , SUGAWARA, HIROSHI , 小野義宣 , ONO, YOSHINORI
IPC分类号： G01N15/06 , G01N15/02
CPC分类号： G01N15/0205 , G01N2015/0693

2. 发明专利

TWI417532B 用於多階衝擊器之多微孔噴嘴板之製造方法有权
简体标题：用于多阶冲击器之多微孔喷嘴板之制造方法
公开(公告)号：TWI417532B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW099105869
申请日：2010-03-01
申请人：國立交通大學 , NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY
发明人：蔡春進 , TSAI, CHUEN JINN , 陳聖傑 , CHEN, SHENG CHIEH , 陳宏達 , CHEN, HONG DAR
IPC分类号： G01N15/02 , G01N1/22
CPC分类号： B44C1/227 , G01N1/2208 , G01N15/0255 , G01N2015/0261

3. 发明专利

TWI403714B 金屬材料中微粒子之粒度分布測定方法有权
简体标题：金属材料中微粒子之粒度分布测定方法
公开(公告)号：TWI403714B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW098113642
申请日：2009-04-24
申请人：新日鐵住金股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION
发明人：水上和實 , MIZUKAMI, KAZUMI , 村上健一 , MURAKAMI, KENICHI , 新井聰 , ARAI, SATOSHI , 森重宣鄉 , MORISHIGE, NOBUSATO , 久保祐治 , KUBO, YUJI , 本間穗高 , HONMA, HOTAKA , 難波英一 , NANBA, EIICHI
IPC分类号： G01N15/02 , G01N21/17 , G01N21/47
CPC分类号： G01N15/0205 , G01N30/0005 , G01N33/20 , G01N2021/4704

4. 发明专利

TWI390197B 多維氣溶膠特性之量測系統失效
简体标题：多维气溶胶特性之量测系统
公开(公告)号：TWI390197B
公开(公告)日：2013-03-21
申请号：TW098103905
申请日：2009-02-06
申请人：巴地斯顏料化工廠 , BASF SE , 美國明尼蘇達大學評議委員會 , REGENTS OF THE UNIVERSITY OF MINNESOTA
发明人：馬特勒邁可 , MERTLER, MICHAEL , 沙奇維奔德 , SACHWEH, BERND , 林森布勒瑪克斯 , LINSENBUEHLER, MARKUS , 夏菲爾邁可 , SCHAEFER, MICHAEL , 布大衛Y H , PUI, DAVID Y. H. , 菲珊翰茵斯 , FISSAN, HEINZ , 王瑾 , WANG, JING , 辛元奎 , SHIN, WEON GYU
IPC分类号： G01N15/02
CPC分类号： G01N15/0266 , G01N2001/2223 , G01N2015/0092

5. 发明专利

TWI686596B 氣體監測裝置有权
简体标题：气体监测设备
公开(公告)号：TWI686596B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107133530
申请日：2018-09-21
申请人：研能科技股份有限公司 , MICROJET TECHNOLOGY CO., LTD
发明人：莫皓然 , MOU, HAO-JAN , 黃啟峰 , HUANG, CHI-FENG , 韓永隆 , HAN, YUNG-LUNG , 蔡長諺 , TSAI, CHANG-YEN
IPC分类号： G01N15/06 , G01N15/02

6. 发明专利

TW202004159A 氣體偵測裝置审中-公开
简体标题：气体侦测设备
公开(公告)号：TW202004159A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW107117102
申请日：2018-05-18
申请人：研能科技股份有限公司 , MICROJET TECHNOLOGY CO., LTD
发明人：莫皓然 , MOU, HAO-JAN , 陳世昌 , CHEN, SHIH-CHANG , 黃啟峰 , HUANG, CHI-FENG , 韓永隆 , HAN, YUNG-LUNG , 陳宣愷 , CHEN, HSUAN-KAI
IPC分类号： G01N21/17 , G01N15/02
摘要：一種氣體偵測裝置，包含：本體，內部並具有一腔室，且設有第一進氣口、一第二進氣口及一出氣口與該腔室連通；一氣體檢測模組，包含一隔腔本體、一載板、一傳感器及一第一致動器；一微粒監測模組，設置於該腔室內，並包含有一通氣入口、一通氣出口、一微粒監測基座、一雷射發射器、一第二致動器及一微粒傳感器，氣體由該通氣入口進入該微粒監測基座內部，受該雷射發射器所發射雷射光束投射所形成光點至該微粒傳感器表面檢測出該氣體中所含懸浮微粒的粒徑及濃度，並由該通氣出口排出；以及一控制模組，控制該氣體檢測模組及該微粒監測模組之監測啟動運作，並將該氣體檢測模組及該微粒監測模組之監測資料予以進行轉換成一監測數據儲存，並能傳送至一外部裝置儲存。
简体摘要：一种气体侦测设备，包含：本体，内部并具有一腔室，且设有第一进气口、一第二进气口及一出气口与该腔室连通；一气体检测模块，包含一隔腔本体、一载板、一传感器及一第一致动器；一微粒监测模块，设置于该腔室内，并包含有一通气入口、一通气出口、一微粒监测基座、一激光发射器、一第二致动器及一微粒传感器，气体由该通气入口进入该微粒监测基座内部，受该激光发射器所发射激光光束投射所形成光点至该微粒传感器表面检测出该气体中所含悬浮微粒的粒径及浓度，并由该通气出口排出；以及一控制模块，控制该气体检测模块及该微粒监测模块之监测启动运作，并将该气体检测模块及该微粒监测模块之监测数据予以进行转换成一监测数据存储，并能发送至一外部设备存储。

7. 发明专利

TW201805612A 膠體粒子尺寸質量分佈測量技術审中-公开
简体标题：胶体粒子尺寸质量分布测量技术
公开(公告)号：TW201805612A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：TW106121806
申请日：2017-06-29
申请人：加野麥克斯FMT股份有限公司 , KANOMAX FMT, INC.
发明人：歐伯萊特德瑞克 , OBERREIT, DEREK
IPC分类号： G01N15/02
摘要：本案揭示一種用於測量隨粒子直徑變化的粒子質量分佈之系統及方法。該系統包括霧化器、粒子尺寸類析器及粒子偵測器。該系統可包括稀釋模組。該系統可亦包括粒子質量類析器。該系統及方法適用於區分具有相似尺寸及不同密度的粒子種群；以及藉由變化的材料比率判定(黏合於)混合膠體系統中之材料之間的相互作用。該系統及方法亦適用於判定同質膠體及異質膠體中之粒子密度。
简体摘要：本案揭示一种用于测量随粒子直径变化的粒子质量分布之系统及方法。该系统包括雾化器、粒子尺寸类析器及粒子侦测器。该系统可包括稀释模块。该系统可亦包括粒子质量类析器。该系统及方法适用于区分具有相似尺寸及不同密度的粒子种群；以及借由变化的材料比率判定(黏合于)混合胶体系统中之材料之间的相互作用。该系统及方法亦适用于判定同质胶体及异质胶体中之粒子密度。

8. 发明专利

TWI614489B 粒子感測裝置以及具有粒子感測裝置的電子設備有权
简体标题：粒子传感设备以及具有粒子传感设备的电子设备
公开(公告)号：TWI614489B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW105111724
申请日：2016-04-15
申请人：華邦電子股份有限公司 , WINBOND ELECTRONICS CORP.
发明人：何羽軒 , HO, YU-HSUAN , 吳怡德 , WU, YI-DER
IPC分类号： G01N15/02

9. 发明专利

TWI580800B 銅粉有权
简体标题：铜粉
公开(公告)号：TWI580800B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW104104354
申请日：2015-02-10
申请人：三井金屬鑛業股份有限公司 , MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：織田晃祐 , OTA, KOYU , 障子口 , SYOUJIGUCHI, TAKASHI
IPC分类号： C22C9/00 , B22F1/00 , H01B1/02 , G01N15/02 , G01N23/207
CPC分类号： H01B1/026 , B22F1/0014 , B22F1/0074 , B22F9/12 , B22F2999/00 , B22F2202/13

10. 发明专利

TW201538757A 銅粉审中-公开
简体标题：铜粉
公开(公告)号：TW201538757A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104104354
申请日：2015-02-10
申请人：三井金屬鑛業股份有限公司 , MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD.
发明人：織田晃祐 , OTA, KOYU , 障子口 , SYOUJIGUCHI, TAKASHI
IPC分类号： C22C9/00 , B22F1/00 , H01B1/02 , G01N15/02 , G01N23/207
CPC分类号： H01B1/026 , B22F1/0014 , B22F1/0074 , B22F9/12 , B22F2999/00 , B22F2202/13
摘要：本發明係提供一種即便是微粒銅粉，亦能夠確保壓粉電阻低且具有優異的導電性之新穎銅粉。本發明之銅粉，其特徵在於：藉由雷射繞射散射式粒度分布測定裝置所測定之體積累積粒徑D50為0.20μm至0.70μm，且，微晶直徑對該D50之比例(微晶直徑/D50)為0.15至0.60(μm/μm)。
简体摘要：本发明系提供一种即便是微粒铜粉，亦能够确保压粉电阻低且具有优异的导电性之新颖铜粉。本发明之铜粉，其特征在于：借由激光绕射散射式粒度分布测定设备所测定之体积累积粒径D50为0.20μm至0.70μm，且，微晶直径对该D50之比例(微晶直径/D50)为0.15至0.60(μm/μm)。

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