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    • 1. 发明专利
    • 順丁烯二醯亞胺樹脂組成物、預浸體、其硬化物及半導體裝置
    • 顺丁烯二酰亚胺树脂组成物、预浸体、其硬化物及半导体设备
    • TW201815946A
    • 2018-05-01
    • TW106126439
    • 2017-08-04
    • 日商日本化藥股份有限公司NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA
    • 松浦一貴MATSUURA, KAZUKI中西政隆NAKANISHI, MASATAKA窪木健一KUBOKI, KENICHI
    • C08L35/00C08K5/41C08J5/24H05K1/03H01L23/29H01L23/31
    • 提供一種可利用與環氧樹脂同等之硬化製程進行硬化,可達成200℃以下時之成型性(硬化性)、250℃以上時之耐熱性、於250℃之高熱穩定性及高彈性模數之維持,又,可達成低介電、低介電損耗正切之順丁烯二醯亞胺樹脂組成物。一種順丁烯二醯亞胺樹脂組成物,其含有順丁烯二醯亞胺化合物(A)、及於分子中含有下述式(1)表示之結構之磺醯基化合物(B), (式中,複數個R分別獨立地表示烯基、烯基醚基、氫原子、鹵素原子、碳原子數1~10之烷基、碳原子數1~4之氟烷基、羥基、烯丙氧基、胺基、氰基、硝基、醯基、醯氧基、羧基、具有三級碳結構之基、環狀烷基、環氧丙基,R之至少1個為烯基或烯基醚基。a表示1~4之整數。)
    • 提供一种可利用与环氧树脂同等之硬化制程进行硬化,可达成200℃以下时之成型性(硬化性)、250℃以上时之耐热性、于250℃之高热稳定性及高弹性模数之维持,又,可达成低介电、低介电损耗正切之顺丁烯二酰亚胺树脂组成物。一种顺丁烯二酰亚胺树脂组成物,其含有顺丁烯二酰亚胺化合物(A)、及于分子中含有下述式(1)表示之结构之磺酰基化合物(B), (式中,复数个R分别独立地表示烯基、烯基醚基、氢原子、卤素原子、碳原子数1~10之烷基、碳原子数1~4之氟烷基、羟基、烯丙氧基、胺基、氰基、硝基、酰基、酰氧基、羧基、具有三级碳结构之基、环状烷基、环氧丙基,R之至少1个为烯基或烯基醚基。a表示1~4之整数。)
    • 6. 发明专利
    • 硬化性樹脂組成物
    • 硬化性树脂组成物
    • TW201510028A
    • 2015-03-16
    • TW103126651
    • 2014-08-04
    • 東亞合成股份有限公司TOAGOSEI CO., LTD.
    • 石謙一ISHIZAKI, KENICHI安藤裕史ANDO, YUSHI
    • C08L101/10C08K5/41C08K5/42C08K5/435C08K3/38C08K3/32C08K5/17C08K5/372C08K5/49
    • C08G77/38C08K5/19C08K5/3432C08K5/3445C08K5/372C08K5/42C08K5/43C08L101/10
    • 提供呈現優越的硬化性、同時也有良好的貯存穩定性的硬化性樹脂組成物。 包含:(a)具有可水解甲矽烷基的聚合物、和(b)酸催化劑、和(c)下列化學式(1)所表示之鎓鹽,以此為特徵之硬化性樹脂組成物。C+A-…………(1)《化學式中,C+係鎓鹽陽離子(onium cation);A-係硫酸氫陰離子(hydrogen sulfate anion)、亞硫酸氫陰離子(hydrogensulfite anion)、以R1SO3-表示之磺酸(sulfonate)陰離子〔R1係烷基(alkyl)、全氟烷基(perfluoroalkyl)、環烷基(cycloalkyl)、乙烯基(vinyl)、芳基(aryl)、全氟芳基(perfluoroaryl)、芳烷基(aralkyl)、或者鹵素(halogen)原子〕、以(R2SO2)2N-表示之雙(取代磺醯基)醯亞胺(bis(substituent sulfonyl)imide)陰離子〔R2係烷基、全氟烷基、或者芳基〕、四氟硼(tetrafluoroboron)陰離子、或六氟磷酸(hexafluorophosphate)陰離子》
    • 提供呈现优越的硬化性、同时也有良好的贮存稳定性的硬化性树脂组成物。 包含:(a)具有可水解甲硅烷基的聚合物、和(b)酸催化剂、和(c)下列化学式(1)所表示之鎓盐,以此为特征之硬化性树脂组成物。C+A-…………(1)《化学式中,C+系鎓盐阳离子(onium cation);A-系硫酸氢阴离子(hydrogen sulfate anion)、亚硫酸氢阴离子(hydrogensulfite anion)、以R1SO3-表示之磺酸(sulfonate)阴离子〔R1系烷基(alkyl)、全氟烷基(perfluoroalkyl)、环烷基(cycloalkyl)、乙烯基(vinyl)、芳基(aryl)、全氟芳基(perfluoroaryl)、芳烷基(aralkyl)、或者卤素(halogen)原子〕、以(R2SO2)2N-表示之双(取代磺酰基)酰亚胺(bis(substituent sulfonyl)imide)阴离子〔R2系烷基、全氟烷基、或者芳基〕、四氟硼(tetrafluoroboron)阴离子、或六氟磷酸(hexafluorophosphate)阴离子》