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    • 9. 发明专利
    • 光硬化性組成物以及半導體裝置之製造方法
    • 光硬化性组成物以及半导体设备之制造方法
    • TW201821465A
    • 2018-06-16
    • TW106126533
    • 2017-08-07
    • 日商日產化學工業股份有限公司NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 徳永光TOKUNAGA, HIKARU遠藤貴文ENDO, TAKAFUMI橋本圭祐HASHIMOTO, KEISUKE坂本力丸SAKAMOTO, RIKIMARU
    • C08G59/14C08G59/68G03F7/11G03F7/40H01L21/027
    • 本發明提供一種光硬化性組成物,其對於圖型之填充性高,且用以於基板上形成可形成不發生熱收縮的塗膜之具有平坦性之被膜。   上述光硬化性組成物含有包含至少一個光分解性含氮結構及/或光分解性含硫結構與烴結構之化合物及溶劑。於分子內具有一個以上之光分解性含氮結構及/或光分解性含硫結構之化合物。於同一分子內存在光分解性含氮結構及/或光分解性含硫結構與烴結構之化合物,或於不同分子間分別存在該結構之化合物之組合。烴結構係碳原子數1~40之飽和或不飽和,且係直鏈、分支或環狀之烴基。光分解性含氮結構含有藉由紫外線照射而產生之反應性含氮官能基或反應性含碳官能基,光分解性含硫結構係含有藉由紫外線照射而產生之有機硫自由基或碳自由基之結構。
    • 本发明提供一种光硬化性组成物,其对于图型之填充性高,且用以于基板上形成可形成不发生热收缩的涂膜之具有平坦性之被膜。   上述光硬化性组成物含有包含至少一个光分解性含氮结构及/或光分解性含硫结构与烃结构之化合物及溶剂。于分子内具有一个以上之光分解性含氮结构及/或光分解性含硫结构之化合物。于同一分子内存在光分解性含氮结构及/或光分解性含硫结构与烃结构之化合物,或于不同分子间分别存在该结构之化合物之组合。烃结构系碳原子数1~40之饱和或不饱和,且系直链、分支或环状之烃基。光分解性含氮结构含有借由紫外线照射而产生之反应性含氮官能基或反应性含碳官能基,光分解性含硫结构系含有借由紫外线照射而产生之有机硫自由基或碳自由基之结构。
    • 10. 发明专利
    • 感光性接著劑組成物
    • 感光性接着剂组成物
    • TW201816055A
    • 2018-05-01
    • TW106129435
    • 2017-08-30
    • 日商日產化學工業股份有限公司NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 大橋拓矢OHASHI, TAKUYA榎本智之ENOMOTO, TOMOYUKI岸岡高広KISHIOKA, TAKAHIRO
    • C09J163/00C09J163/10C08G59/26C08G59/42C08G59/14C09J11/06C09J5/00H01L23/29H01L23/31H01L33/56
    • 本發明之課題為提供新穎之感光性接著劑組成物。   解決方法為,含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分及(D)成分,又就質量比,比較前述(A)成分含有更多前述(B)成分的感光性接著劑組成物。   (A)成分:具有下述式(1)所表示之結構單位,末端具有下述式(2)所表示之結構的聚合物,(B)成分:具有前述式(1)所表示之結構單位,末端具有前述羧基或羥基的聚合物,(C)成分:自由基型光聚合引發劑,及(D)成分:溶劑(該等式中,X表示碳原子數1至6之烷基、乙烷基、烯丙基及縮水甘油基,m及n表示各自獨立之0或1,Q表示碳原子數1至16之二價羥基,Z表示碳原子數1至4之二價連結基,該二價連結基係與前述式(1)之-O-基鍵結,R1表示氫原子或甲基)。
    • 本发明之课题为提供新颖之感光性接着剂组成物。   解决方法为,含有下述(A)成分、(B)成分、(C)成分及(D)成分,又就质量比,比较前述(A)成分含有更多前述(B)成分的感光性接着剂组成物。   (A)成分:具有下述式(1)所表示之结构单位,末端具有下述式(2)所表示之结构的聚合物,(B)成分:具有前述式(1)所表示之结构单位,末端具有前述羧基或羟基的聚合物,(C)成分:自由基型光聚合引发剂,及(D)成分:溶剂(该等式中,X表示碳原子数1至6之烷基、乙烷基、烯丙基及缩水甘油基,m及n表示各自独立之0或1,Q表示碳原子数1至16之二价羟基,Z表示碳原子数1至4之二价链接基,该二价链接基系与前述式(1)之-O-基键结,R1表示氢原子或甲基)。