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1. 发明专利

TWI640438B 錠劑印刷裝置及錠劑印刷方法有权
简体标题：锭剂印刷设备及锭剂印刷方法
公开(公告)号：TWI640438B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW106104487
申请日：2017-02-10
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：平野梓 , HIRANO, AZUSA , 鶴岡保次 , TSURUOKA, YASUTSUGU
IPC分类号： B41M1/40 , B41M1/26 , B41J3/407 , B41J29/20

2. 发明专利

TW201742757A 固體製劑印刷方法及固體製劑印刷機审中-公开
简体标题：固体制剂印刷方法及固体制剂印刷机
公开(公告)号：TW201742757A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106116330
申请日：2017-05-17
申请人：服洛因得產業股份有限公司 , FREUND CORPORATION
发明人：今井聖 , IMAI, KIYOSHI , 安達岳郎 , ADACHI, TAKEROU , 星野嵩宜 , HOSHINO, TAKAYOSHI , 蜂谷栄一 , HACHIYA, EIICHI
IPC分类号： B41J3/407 , B41J3/00 , B41M1/40
CPC分类号： A61J3/06 , B41J2/01
摘要：本發明之目的在於提供一種防止印刷裝置的噴嘴堵塞且不會降低工作效率的固體製劑印刷方法。本發明之固體製劑印刷方法，對依次供應的自由旋轉固體製劑，基於印刷數據從印刷裝置的噴嘴噴出油墨進行印刷，其特徵在於，所述印刷數據藉由基準印刷數據和使所述基準印刷數據旋轉任意的旋轉角所得之旋轉印刷數據構成，除進行基於所述基準印刷數據的印刷外，還進行基於所述旋轉印刷數據的印刷。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种防止印刷设备的喷嘴堵塞且不会降低工作效率的固体制剂印刷方法。本发明之固体制剂印刷方法，对依次供应的自由旋转固体制剂，基于印刷数据从印刷设备的喷嘴喷出油墨进行印刷，其特征在于，所述印刷数据借由基准印刷数据和使所述基准印刷数据旋转任意的旋转角所得之旋转印刷数据构成，除进行基于所述基准印刷数据的印刷外，还进行基于所述旋转印刷数据的印刷。

3. 发明专利

TW201738099A 錠劑、錠劑印刷裝置及錠劑印刷方法审中-公开
简体标题：锭剂、锭剂印刷设备及锭剂印刷方法
公开(公告)号：TW201738099A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW106106851
申请日：2017-03-02
申请人：服洛因得產業股份有限公司 , FREUND CORPORATION
发明人：今井聖 , IMAI, KIYOSHI , 蜂谷栄一 , HACHIYA, EIICHI , 毛利晃 , MOURI, AKIRA
IPC分类号： B41M1/18 , B41M1/40 , A61J3/06
CPC分类号： A61J3/06 , B41J2/01
摘要：錠劑(3)係且有利用可見墨水進行印刷處理而成的第1標示層(51)、以及利用不可見墨水進行印刷處理而成的第2標示層(52)。第1標示層(51)，是利用可見墨水印刷文字、商標等，管理承辦人員、錠劑利用者可利用目視進行確認。第2標示層(52)，是利用不可見墨水印刷條碼等，管理承辦人員、錠劑利用者並無法目視標示。第2標示層(52)是藉由黑光等予以顯現而成為可讀取。錠劑(3)是藉由錠劑印刷裝置(1)進行印刷處理，錠劑印刷裝置(1)係具備一邊將側面(7)進行吸附支承一邊搬送錠劑(3)之搬送盤(A~C)，藉由噴墨頭(4)印刷第1標示層(51)，藉由噴墨頭(5)印刷第2標示層(52)。
简体摘要：锭剂(3)系且有利用可见墨水进行印刷处理而成的第1标示层(51)、以及利用不可见墨水进行印刷处理而成的第2标示层(52)。第1标示层(51)，是利用可见墨水印刷文本、商标等，管理承办人员、锭剂利用者可利用目视进行确认。第2标示层(52)，是利用不可见墨水印刷条码等，管理承办人员、锭剂利用者并无法目视标示。第2标示层(52)是借由黑光等予以显现而成为可读取。锭剂(3)是借由锭剂印刷设备(1)进行印刷处理，锭剂印刷设备(1)系具备一边将侧面(7)进行吸附支承一边搬送锭剂(3)之搬送盘(A~C)，借由喷墨头(4)印刷第1标示层(51)，借由喷墨头(5)印刷第2标示层(52)。

4. 发明专利

TW201615445A 除去方法、除去裝置及印刷系統审中-公开
简体标题：除去方法、除去设备及印刷系统
公开(公告)号：TW201615445A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW104126141
申请日：2015-08-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：上野博之 , UENO, HIROYUKI , 南茂樹 , MINAMI, SHIGEKI , 上代和男 , JODAI, KAZUO , 富藤幸雄 , TOMIFUJI, YUKIO , 川越理史 , KAWAGOE, MASAFUMI
IPC分类号： B41M1/40 , B41M3/12 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種良好地除去附著於印刷布或基板等板狀體之附著物之除去技術、以及使用該除去技術之印刷系統。該除去方法係除去附著於板狀體之一主面之附著物者，且包括：轉印步驟，其係使轉印體密接於板狀體之一主面而將附著物轉印至轉印體；及剝離步驟，其係將密接於板狀體之一主面之轉印體自板狀體剝離而自板狀體之一主面除去附著物。
简体摘要：本发明提供一种良好地除去附着于印刷布或基板等板状体之附着物之除去技术、以及使用该除去技术之印刷系统。该除去方法系除去附着于板状体之一主面之附着物者，且包括：转印步骤，其系使转印体密接于板状体之一主面而将附着物转印至转印体；及剥离步骤，其系将密接于板状体之一主面之转印体自板状体剥离而自板状体之一主面除去附着物。

5. 发明专利

TW201503999A 藍寶石碟片拋光墊修整器之製造方法审中-公开
简体标题：蓝宝石盘片抛光垫修整器之制造方法
公开(公告)号：TW201503999A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW102127168
申请日：2013-07-29
申请人：鑫晶鑽科技股份有限公司
发明人：戴君涵 , 戴子軒 , 魏匡靈
IPC分类号： B24B53/06 , B41M1/40
CPC分类号： B24B53/017
摘要：一種藍寶石碟片拋光墊修整器之製造方法，其步驟包含：提供一具有特定軸向的藍寶石晶圓，該特定軸向為a軸向、c軸、r軸、m軸、n軸以及v軸的其中之一；以網版印刷之方式，使用一網版將一轉印圖案轉印至該藍寶石晶圓之至少一面，並藉由一固化手段固化該轉印圖案；以及進行一蝕刻法以在該藍寶石晶圓表面形成複數個具有特定形狀之微結構，此微結構即為拋光墊修整器之修整粒。
简体摘要：一种蓝宝石盘片抛光垫修整器之制造方法，其步骤包含：提供一具有特定轴向的蓝宝石晶圆，该特定轴向为a轴向、c轴、r轴、m轴、n轴以及v轴的其中之一；以网版印刷之方式，使用一网版将一转印图案转印至该蓝宝石晶圆之至少一面，并借由一固化手段固化该转印图案；以及进行一蚀刻法以在该蓝宝石晶圆表面形成复数个具有特定形状之微结构，此微结构即为抛光垫修整器之修整粒。

6. 发明专利

TW201431710A 工具及其製作方法审中-公开
简体标题：工具及其制作方法
公开(公告)号：TW201431710A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW102104052
申请日：2013-02-01
申请人：景祥凱工業股份有限公司
发明人：林大森
IPC分类号： B41M1/40 , C25D5/26
CPC分类号： B41M5/0082 , B41M1/40 , B41M7/0036
摘要：一種工具製作方法，以擁有工具輪廓的胚體為基礎，使電鍍層包覆在胚體外面，將所需的印刷層附著在電鍍層上面。在印刷層外面形成透明的保護層，完成具備識別效果的工具，以簡單的製作流程來降低生產成本，保護工具免於外力的損害，長期保有清晰地識別性。
简体摘要：一种工具制作方法，以拥有工具轮廓的胚体为基础，使电镀层包覆在胚体外面，将所需的印刷层附着在电镀层上面。在印刷层外面形成透明的保护层，完成具备识别效果的工具，以简单的制作流程来降低生产成本，保护工具免于外力的损害，长期保有清晰地识别性。

7. 发明专利

TW201350356A 液壓轉印用基底薄膜审中-公开
简体标题：液压转印用基底薄膜
公开(公告)号：TW201350356A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102110909
申请日：2013-03-27
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：高藤勝啓 , TAKAFUJI, MASAHIRO , 磯崎孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 練苧喬士 , NERIO, TAKASHI , 秦秀行 , HADA, HIDEYUKI , 笹井弘治 , SASAI, KOUJI
IPC分类号： B41M1/40 , B41M3/12 , B44C1/175
CPC分类号： B26D1/245 , B26D1/02 , B26D2001/0053 , B44C1/1733
摘要：提供一種自輥送出時不容易發生破損斷裂之液壓轉印用基底薄膜及其製造方法。一種液壓轉印用基底薄膜1，其為，於厚度方向對切口截面3之表面粗度進行測量時，於最大峰高度(Rp)為5μm以上之情況下，提供該最大峰高度(Rp)之位置5係於厚度方向上位於自一側算起的20~80%之位置，於最大峰高度(Rp)未滿5μm之情況下，算術平均高度(Ra)為2μm以下；一種液壓轉印用基底薄膜之製造方法，該製造方法包含使用剪切刀對薄膜進行切割之製程，並且上刃之刃角為30~90°，上刃與下刃之重疊量為0.1~0.8mm，夾角為2~100°，且不驅動上刃；及一種液壓轉印用基底薄膜之製造方法，該製造方法包含使用雷射刀對薄膜進行切割之製程，且雷射刀之刃口的最大高度(Rz)未滿1μm。
简体摘要：提供一种自辊送出时不容易发生破损断裂之液压转印用基底薄膜及其制造方法。一种液压转印用基底薄膜1，其为，于厚度方向对切口截面3之表面粗度进行测量时，于最大峰高度(Rp)为5μm以上之情况下，提供该最大峰高度(Rp)之位置5系于厚度方向上位于自一侧算起的20~80%之位置，于最大峰高度(Rp)未满5μm之情况下，算术平均高度(Ra)为2μm以下；一种液压转印用基底薄膜之制造方法，该制造方法包含使用剪切刀对薄膜进行切割之制程，并且上刃之刃角为30~90°，上刃与下刃之重叠量为0.1~0.8mm，夹角为2~100°，且不驱动上刃；及一种液压转印用基底薄膜之制造方法，该制造方法包含使用激光刀对薄膜进行切割之制程，且激光刀之刃口的最大高度(Rz)未满1μm。

8. 发明专利

TWI391261B 彩色塗層及採用其之電子產品失效
简体标题：彩色涂层及采用其之电子产品
公开(公告)号：TWI391261B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW097147321
申请日：2008-12-05
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：陳杰良 , CHEN, GA-LANE , 魏朝滄 , WEI, CHAO TSANG
IPC分类号： B44C3/02 , B41M1/40 , H05K5/04

9. 发明专利

TWI382934B 水壓轉印方法、水壓轉印用薄片及水壓轉印用基底薄膜有权
简体标题：水压转印方法、水压转印用薄片及水压转印用基底薄膜
公开(公告)号：TWI382934B
公开(公告)日：2013-01-21
申请号：TW093131979
申请日：2004-10-21
申请人：可樂麗股份有限公司 , KURARAY CO., LTD.
发明人：日笠慎太郎 , HIKASA, SHINTARO , 磯孝德 , ISOZAKI, TAKANORI , 實藤徹 , SANEFUJI, TORU , 田中信雄 , TANAKA, NOBUO
IPC分类号： B41M3/12 , B41M1/40
CPC分类号： B44C1/1758 , Y10T428/24802

10. 发明专利

TWI680066B 印刷物、及使用該印刷物而成之容器有权
简体标题：印刷物、及使用该印刷物而成之容器
公开(公告)号：TWI680066B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW104106238
申请日：2015-02-26
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：星野翔太 , HOSHINO, SHOTA
IPC分类号： B44F9/10 , B41M1/40

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