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1. 发明专利

TW202007473A 輪座审中-公开
简体标题：轮座
公开(公告)号：TW202007473A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW108127137
申请日：2019-07-31
申请人：日商迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人：阿部裕樹 , ABE, HIROKI
IPC分类号： B24B7/04 , B24B55/02 , H01L21/304
摘要： [課題]即使磨削水受到離心力的影響，仍然將磨削水供給到被磨削面與磨削磨石的磨削面，並減少磨削磨石的消耗。 [解決手段]在輪座中，藉由切換所設置之填塞而改變射出之磨削水的能量及落下位置。從而，藉由因應於輪座的旋轉速度來改變射出部位，而變得可使磨削水的能量及落下位置接近適當範圍。藉此，由於可以將大量的磨削水供給至被磨削面與磨削磨石之間，因此變得可良好地實施磨削磨石的冷卻及磨削屑的去除。其結果，可以降低磨削磨石的消耗。
简体摘要： [课题]即使磨削水受到离心力的影响，仍然将磨削水供给到被磨削面与磨削磨石的磨削面，并减少磨削磨石的消耗。 [解决手段]在轮座中，借由切换所设置之填塞而改变射出之磨削水的能量及落下位置。从而，借由因应于轮座的旋转速度来改变射出部位，而变得可使磨削水的能量及落下位置接近适当范围。借此，由于可以将大量的磨削水供给至被磨削面与磨削磨石之间，因此变得可良好地实施磨削磨石的冷却及磨削屑的去除。其结果，可以降低磨削磨石的消耗。

2. 发明专利

TW201918327A 用於與驅動件隔熱之拋光頭件审中-公开
简体标题：用于与驱动件隔热之抛光头件
公开(公告)号：TW201918327A
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：TW106138777
申请日：2017-11-09
申请人：倪志雄
发明人：倪志雄
IPC分类号： B24B55/02 , B24B41/047
摘要：本發明係關於一種用於與驅動件隔熱之拋光頭件，包括一架構盤，該架構盤之前側面與一軟質拋光層藉由一第一結合組件結合，且設有一第二結合組件，藉以供該架構盤與一驅動件結合，且該架構盤之背側設有一隔熱盤，用以阻隔該驅動件與該架構盤間之熱傳遞。由於該軟質拋光層(泡棉)通常不具耐高溫性，因此藉由該隔熱盤對於該輸出軸與該架構盤之熱阻隔，可以避免該軟質拋光層(泡棉)受熱產生變型或損耗，利於拋光作業之遂行，以及提升物件之使用壽命，且由於該隔熱盤之厚度，可以補強該架構盤之疊層厚度，而增加該架構盤對於工件(如車輛板金)曲度變化時，抵抗之強度。
简体摘要：本发明系关于一种用于与驱动件隔热之抛光头件，包括一架构盘，该架构盘之前侧面与一软质抛光层借由一第一结合组件结合，且设有一第二结合组件，借以供该架构盘与一驱动件结合，且该架构盘之背侧设有一隔热盘，用以阻隔该驱动件与该架构盘间之热传递。由于该软质抛光层(泡棉)通常不具耐高温性，因此借由该隔热盘对于该输出轴与该架构盘之热阻隔，可以避免该软质抛光层(泡棉)受热产生变型或损耗，利于抛光作业之遂行，以及提升对象之使用寿命，且由于该隔热盘之厚度，可以补强该架构盘之叠层厚度，而增加该架构盘对于工件(如车辆板金)曲度变化时，抵抗之强度。

3. 发明专利

TW201834791A 用於磨床的冷卻液導流座审中-公开
简体标题：用于磨床的冷却液导流座
公开(公告)号：TW201834791A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106109764
申请日：2017-03-23
申请人：鉅陞精機股份有限公司
发明人：張榮峰 , 張榮陞
IPC分类号： B24B55/02 , B23Q11/12
摘要：一種用於磨床的冷卻液導流座，包含一座體，座體具有一傾斜底壁、一側壁以及一分隔壁，傾斜底壁具有一預定傾斜角，側壁設置於傾斜底壁之周緣，並且與傾斜底壁定義形成一具有上開口之導流槽，側壁穿設一導流口，分隔壁設置於傾斜底壁並將導流槽分隔為二導流道，二導流道係向下傾斜延伸至導流口；其中，冷卻液導流座更包含一用以定位工件之工件定位單元，工件定位單元可設置於座體並位於各導流道上方；藉此，當磨床對工件進行研磨加工時，用以冷卻工件的冷卻液以及加工所產生的碎屑可向下流至各導流道，並藉由導流口排至座體外部。
简体摘要：一种用于磨床的冷却液导流座，包含一座体，座体具有一倾斜底壁、一侧壁以及一分隔壁，倾斜底壁具有一预定倾斜角，侧壁设置于倾斜底壁之周缘，并且与倾斜底壁定义形成一具有上开口之导流槽，侧壁穿设一导流口，分隔壁设置于倾斜底壁并将导流槽分隔为二导流道，二导流道系向下倾斜延伸至导流口；其中，冷却液导流座更包含一用以定位工件之工件定位单元，工件定位单元可设置于座体并位于各导流道上方；借此，当磨床对工件进行研磨加工时，用以冷却工件的冷却液以及加工所产生的碎屑可向下流至各导流道，并借由导流口排至座体外部。

4. 发明专利

TW201731631A 用於拋光或磨蝕物品之裝置、其使用方法及具有該裝置之拋光設備审中-公开
简体标题：用于抛光或磨蚀物品之设备、其使用方法及具有该设备之抛光设备
公开(公告)号：TW201731631A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105108972
申请日：2016-03-23
申请人：歐陸賽達米立歐塔維歐有限責任公司 , EUROSIDER S. A. S. DI MILLI OTTAVIO & C.
发明人：米立歐塔維歐 , MILLI, OTTAVIO
IPC分类号： B24B23/02 , B24B23/04 , B24B55/02
摘要：一種用於拋光或磨蝕物品(M)之裝置，包含：一拋光元件(1)，設置有一操作表面(4)，該操作表面(4)被設計成執行一拋光或砂磨移動、較佳係為一圓形或軌道移動；以及馬達構件(13)，可操作地連接至該元件(1)以用於在該操作表面(4)上傳遞該拋光移動，該裝置包含：一或多個空氣管道(3)，自一入口開口(5)延伸至一經處理空氣流之一或多個出口(6)，該入口開口(5)係與該經處理空氣流之一來源(7)連通，該經處理空氣流例如係為經乾燥空氣、氣態氮氣、或富含氮氣之改質空氣，該一或多個出口(6)分佈於與該操作表面(4)對應之一區域中；以及構件(8)，用於將該經處理空氣流之溫度調節至介於-5℃與+20℃間之一值。
简体摘要：一种用于抛光或磨蚀物品(M)之设备，包含：一抛光组件(1)，设置有一操作表面(4)，该操作表面(4)被设计成运行一抛光或砂磨移动、较佳系为一圆形或轨道移动；以及马达构件(13)，可操作地连接至该组件(1)以用于在该操作表面(4)上载递该抛光移动，该设备包含：一或多个空气管道(3)，自一入口开口(5)延伸至一经处理空气流之一或多个出口(6)，该入口开口(5)系与该经处理空气流之一来源(7)连通，该经处理空气流例如系为经干燥空气、气态氮气、或富含氮气之改质空气，该一或多个出口(6)分布于与该操作表面(4)对应之一区域中；以及构件(8)，用于将该经处理空气流之温度调节至介于-5℃与+20℃间之一值。

5. 发明专利

TWI590911B 工件之兩面硏磨裝置及兩面硏磨方法有权
简体标题：工件之两面研磨设备及两面研磨方法
公开(公告)号：TWI590911B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW103132931
申请日：2014-09-24
申请人： SUMCO股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：御厨俊介 , MIKURIYA, SHUNSUKE , 三浦友紀 , MIURA, TOMONORI
IPC分类号： B24B37/28 , B24B55/02
CPC分类号： B24B37/28

6. 发明专利

TW201718180A 加工裝置审中-公开
简体标题：加工设备
公开(公告)号：TW201718180A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105132907
申请日：2016-10-12
申请人：迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人：諏訪野純 , SUWANO, JUN , 杉山聡 , SUGIYAMA, SATOSHI
IPC分类号： B24B55/03 , B24B55/02
摘要：提供可以由較低的成本確認由小的流量被供給液體的加工裝置。加工裝置(2)，具備：朝被加工物(11)供給液體(31)的供給噴嘴(40a、42a、46a、48a)；及包含第1流路(50a)及第2流路(50b)的供給流路(50)；及調整被供給的液體的流量的流量調整閥(54)；及被設在第1流路及第2流路之間，檢出液體的流動的檢出手段(52)；及依據檢出手段的檢出結果，判別規定的流量的液體是否朝供給流路流動的判別手段(58)；檢出手段，具有：第1流路的下游端與上部連接，並且第2流路的上游端與下部連接，內徑比第1流路的下游端及第2流路的上游端更大的檢出管部(72)；及由發光部(74a)及受光部(74b)所構成，檢出在檢出管部內落下的液體的檢出部(74)。
简体摘要：提供可以由较低的成本确认由小的流量被供给液体的加工设备。加工设备(2)，具备：朝被加工物(11)供给液体(31)的供给喷嘴(40a、42a、46a、48a)；及包含第1流路(50a)及第2流路(50b)的供给流路(50)；及调整被供给的液体的流量的流量调整阀(54)；及被设在第1流路及第2流路之间，检出液体的流动的检出手段(52)；及依据检出手段的检出结果，判别规定的流量的液体是否朝供给流路流动的判别手段(58)；检出手段，具有：第1流路的下游端与上部连接，并且第2流路的上游端与下部连接，内径比第1流路的下游端及第2流路的上游端更大的检出管部(72)；及由发光部(74a)及受光部(74b)所构成，检出在检出管部内落下的液体的检出部(74)。

7. 发明专利

TWI583499B 具內部供給流體結構之磨盤有权
简体标题：具内部供给流体结构之磨盘
公开(公告)号：TWI583499B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW104134636
申请日：2015-10-22
申请人：中國砂輪企業股份有限公司
发明人：謝榮哲 , 陳泰甲 , 胡紹中 , 鄧建中
IPC分类号： B24D7/10 , B24B55/02

8. 发明专利

TWI531445B 硏磨液濃度維持系統有权
简体标题：研磨液浓度维持系统
公开(公告)号：TWI531445B
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW102126815
申请日：2013-07-26
申请人：兆遠科技股份有限公司 , CRYSTALWISE TECHNOLOGY
发明人：薛慶堂 , HSUEH, CHING TANG
IPC分类号： B24B55/02 , B24B57/02

9. 发明专利

TWI499480B 晶錠切削冷卻裝置及其冷卻方法有权
简体标题：晶锭切削冷却设备及其冷却方法
公开(公告)号：TWI499480B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW101133018
申请日：2012-09-10
申请人：友達晶材股份有限公司 , AUO CRYSTAL CORPORATION
发明人：詹志鴻 , CHAN, CHIH HUNG
IPC分类号： B24B55/02 , B24B27/06 , B28D5/04 , H01L21/304

10. 发明专利

TW201529227A 工件之兩面硏磨裝置及兩面硏磨方法审中-公开
简体标题：工件之两面研磨设备及两面研磨方法
公开(公告)号：TW201529227A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103132931
申请日：2014-09-24
申请人： SUMCO股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：御厨俊介 , MIKURIYA, SHUNSUKE , 三浦友紀 , MIURA, TOMONORI
IPC分类号： B24B37/28 , B24B55/02
CPC分类号： B24B37/28
摘要：本發明的目的是提供一種工件的兩面研磨裝置及研磨方法，能夠維持高研磨速率並且也能夠獲得希望的工件形狀。本發明的工件之兩面研磨裝置包括：旋轉定盤，具有上定盤及下定盤；中心齒輪，設置於該旋轉定盤的中心部；內齒輪，設置於該旋轉定盤的外周部；承載板，設至於該上定盤及該下定盤之間，並具有保持工件的1個以上的保持孔；滴下供給部，藉由自然滴下將研磨劑供給置該上下定盤間；以及推送供給部，藉由推送將研磨劑供給置該上下定盤間，其中研磨劑可從該滴下供給部及該推送供給部同時供給至該上下定盤之間。本發明的工件之兩面研磨方法包括：將工件保持在承載板上，該承載板設置有保持工件用的1個以上的保持孔；利用由上定盤及下定盤組成的旋轉定盤夾住該工件；藉由設置於該旋轉定盤的中心部的中心齒輪的旋轉以及設置於該旋轉定盤的外周部的內齒輪的旋轉，使該旋轉定盤與該承載板相對旋轉來同時研磨該工件的兩面，其中以自然滴下將研磨劑供給至該上下定盤之間的同時，以推送的方式將研磨劑供給至該上下定盤之間。
简体摘要：本发明的目的是提供一种工件的两面研磨设备及研磨方法，能够维持高研磨速率并且也能够获得希望的工件形状。本发明的工件之两面研磨设备包括：旋转定盘，具有上定盘及下定盘；中心齿轮，设置于该旋转定盘的中心部；内齿轮，设置于该旋转定盘的外周部；承载板，设至于该上定盘及该下定盘之间，并具有保持工件的1个以上的保持孔；滴下供给部，借由自然滴下将研磨剂供给置该上下定盘间；以及推送供给部，借由推送将研磨剂供给置该上下定盘间，其中研磨剂可从该滴下供给部及该推送供给部同时供给至该上下定盘之间。本发明的工件之两面研磨方法包括：将工件保持在承载板上，该承载板设置有保持工件用的1个以上的保持孔；利用由上定盘及下定盘组成的旋转定盘夹住该工件；借由设置于该旋转定盘的中心部的中心齿轮的旋转以及设置于该旋转定盘的外周部的内齿轮的旋转，使该旋转定盘与该承载板相对旋转来同时研磨该工件的两面，其中以自然滴下将研磨剂供给至该上下定盘之间的同时，以推送的方式将研磨剂供给至该上下定盘之间。

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