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    • 6. 发明专利
    • 原料氣體供給裝置、成膜裝置、流量之測定方法及非暫時性記憶媒體
    • 原料气体供给设备、成膜设备、流量之测定方法及非暂时性记忆媒体
    • TW201437418A
    • 2014-10-01
    • TW103102983
    • 2014-01-27
    • 東京威力科創股份有限公司TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 井上三也INOUE, MITSUYA高堂真TAKADO, MAKOTO安藤厚司ANDO, ATSUSHI
    • C23C16/455B01J7/00B01J4/02H01L21/31
    • C23C16/4481C23C16/45561G01F1/68Y10T137/0368Y10T137/7759
    • 本發明旨在提供一種原料氣體供給裝置、成膜裝置、流量之測定方法及非暫時性記憶媒體,其中原料氣體供給裝置包含:原料容器,使用於對基板進行成膜之成膜裝置,收納液體或固體之原料;載體氣體供給部,用來經由載體氣體流路對收納該原料容器內之原料的空間供給載體氣體;第1流量測定部,將對應於流過該載體氣體流路之載體氣體的流量之第1流量測定值加以輸出;原料氣體供給通路,用來自該原料容器對該成膜裝置供給含有氣化之原料的原料氣體;第2流量測定部,將流過該原料氣體供給通路之原料氣體之第2流量測定值加以輸出;及流量運算部,將於該第1流量測定部獲得之該第1流量測定值,與於該第2流量測定部獲得之該第2流量測定值之差異值加以計算,將該差異值換算為該原料之氣化流量。
    • 本发明旨在提供一种原料气体供给设备、成膜设备、流量之测定方法及非暂时性记忆媒体,其中原料气体供给设备包含:原料容器,使用于对基板进行成膜之成膜设备,收纳液体或固体之原料;载体气体供给部,用来经由载体气体流路对收纳该原料容器内之原料的空间供给载体气体;第1流量测定部,将对应于流过该载体气体流路之载体气体的流量之第1流量测定值加以输出;原料气体供给通路,用来自该原料容器对该成膜设备供给含有气化之原料的原料气体;第2流量测定部,将流过该原料气体供给通路之原料气体之第2流量测定值加以输出;及流量运算部,将于该第1流量测定部获得之该第1流量测定值,与于该第2流量测定部获得之该第2流量测定值之差异值加以计算,将该差异值换算为该原料之气化流量。
    • 9. 发明专利
    • 氣液分離裝置
    • 气液分离设备
    • TW201808453A
    • 2018-03-16
    • TW106126397
    • 2017-08-04
    • 日商大陽日酸股份有限公司TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION
    • 福田健治FUKUDA, KENJI
    • B01L5/02B01J7/00
    • B01D19/00C01B6/10
    • 本發明之目的在於提供一種從以氣液之共存狀態至少含有氣體與液體之混合物,可以高效率回收目的氣體的氣液分離裝置(1);該氣液分離裝置(1)係具備:氣密空間(2),係供給以氣液之共存狀態含有前述氣體與前述液體之混合物,並將該混合物作為分離成氣體與前述液體之混合物而貯存;供給路徑(L1),係以氣液之共存狀態含有氣體與液體之混合物供給至前述氣密空間(2);氣體回收路徑(L2),係將前述氣密空間(2)內之氣體排出至該氣密空間(2)之外側;第1減壓裝置(3),係設於前述氣體回收路徑(L2),並從前述氣密空間(2)回收前述氣體;液體回收路徑(L3),係將前述氣密空間(2)內之液體排出至該氣密空間(2)之外側;第2減壓裝置(4),係設於前述液體回收路徑(L3),並從前述氣密空間(2)回收前述液體。
    • 本发明之目的在于提供一种从以气液之共存状态至少含有气体与液体之混合物,可以高效率回收目的气体的气液分离设备(1);该气液分离设备(1)系具备:气密空间(2),系供给以气液之共存状态含有前述气体与前述液体之混合物,并将该混合物作为分离成气体与前述液体之混合物而贮存;供给路径(L1),系以气液之共存状态含有气体与液体之混合物供给至前述气密空间(2);气体回收路径(L2),系将前述气密空间(2)内之气体排出至该气密空间(2)之外侧;第1减压设备(3),系设于前述气体回收路径(L2),并从前述气密空间(2)回收前述气体;液体回收路径(L3),系将前述气密空间(2)内之液体排出至该气密空间(2)之外侧;第2减压设备(4),系设于前述液体回收路径(L3),并从前述气密空间(2)回收前述液体。