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    • 2. 发明专利
    • 防水透氣結構及防水透氣構件
    • 防水透气结构及防水透气构件
    • TW201534131A
    • 2015-09-01
    • TW103137109
    • 2014-10-28
    • 日東電工股份有限公司NITTO DENKO CORPORATION
    • 古內浩二FURUUCHI, KOUJI
    • H04R1/00H05K5/02
    • B01D71/32B01D53/268H04M1/18H04R1/023H04R1/086H04R2499/11H05K5/0213H05K5/06
    • 本發明係一種防水透氣結構,其具備:殼體(20):具備內部空間(22)及開口部(21);防水透氣膜(11):配置成堵住開口部(21);電氣聲響轉換零件(40):配置於內部空間(22);第1雙面黏著帶(31):將殼體(20)之內面與防水透氣膜(11)之表面的周緣部直接接合;及第2雙面黏著帶(32):將防水透氣膜(11)之相反側之表面的周緣部與零件(40)直接接合,且防水透氣膜(11)之耐水壓為50kPa以上,第1雙面黏著帶(31)之基材為發泡體。較佳為使於非壓縮狀態下測得之防水透氣膜(11)、第1及第2雙面黏著帶(31)、(32)之厚度的合計大於殼體(20)內面與零件(40)之間的距離L,且於發泡體於厚度方向被壓縮之狀態下進行配置。
    • 本发明系一种防水透气结构,其具备:壳体(20):具备内部空间(22)及开口部(21);防水透气膜(11):配置成堵住开口部(21);电气声响转换零件(40):配置于内部空间(22);第1双面黏着带(31):将壳体(20)之内面与防水透气膜(11)之表面的周缘部直接接合;及第2双面黏着带(32):将防水透气膜(11)之相反侧之表面的周缘部与零件(40)直接接合,且防水透气膜(11)之耐水压为50kPa以上,第1双面黏着带(31)之基材为发泡体。较佳为使于非压缩状态下测得之防水透气膜(11)、第1及第2双面黏着带(31)、(32)之厚度的合计大于壳体(20)内面与零件(40)之间的距离L,且于发泡体于厚度方向被压缩之状态下进行配置。
    • 8. 发明专利
    • 氣體阻隔層積體、其製造方法、電子裝置用構件以及電子裝置
    • 气体阻隔层积体、其制造方法、电子设备用构件以及电子设备
    • TW201247923A
    • 2012-12-01
    • TW101105036
    • 2012-02-16
    • 琳得科股份有限公司
    • 永繩智史
    • C23C
    • H05K5/0213C23C14/48C23C16/30C23C16/56H01J37/32412H05K13/00Y10T428/265
    • 〔課題〕本發明提供可較先前的無機膜成膜廉價地製造,且無需繁雜的製造步驟,容易地具有優良的氣體組隔性與可饒性之氣體阻隔層積體、其製造方法、以該氣體阻隔層體所構成的電子裝置用構件、以及包括該電子裝置用構件的電子裝置。〔解決手段〕本發明係於基材上,具有氣體阻隔層之氣體阻隔層積體,上述氣體阻隔層,係對使用有機矽化合物作為原料之CVD法所形成之有機矽化合物薄膜,離子植入而得為特徵之氣體阻隔層積體、該氣體阻隔層積體之製造方法、由上述氣體阻隔層體所構成的電子裝置用構件、以及包括上述電子裝置用構件的電子裝置。
    • 〔课题〕本发明提供可较先前的无机膜成膜廉价地制造,且无需繁杂的制造步骤,容易地具有优良的气体组隔性与可饶性之气体阻隔层积体、其制造方法、以该气体阻隔层体所构成的电子设备用构件、以及包括该电子设备用构件的电子设备。〔解决手段〕本发明系于基材上,具有气体阻隔层之气体阻隔层积体,上述气体阻隔层,系对使用有机硅化合物作为原料之CVD法所形成之有机硅化合物薄膜,离子植入而得为特征之气体阻隔层积体、该气体阻隔层积体之制造方法、由上述气体阻隔层体所构成的电子设备用构件、以及包括上述电子设备用构件的电子设备。