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1. 发明专利

TWI440064B 具備反射電子檢測功能的掃描電子顯微鏡失效
简体标题：具备反射电子检测功能的扫描电子显微镜
公开(公告)号：TWI440064B
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW100135375
申请日：2011-09-29
申请人： SNU精密股份有限公司 , SNU PRECISION CO., LTD.
发明人：金錫 , KIM, SOUK , 安宰亨 , AHN, JAE HYUNG , 金宰湖 , KIM, JAE HO
IPC分类号： H01J37/26
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/05 , H01J37/28 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/24485 , H01J2237/24495

2. 发明专利

TW201314733A 具備反射電子檢測功能的掃描電子顯微鏡失效
简体标题：具备反射电子检测功能的扫描电子显微镜
公开(公告)号：TW201314733A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW100135375
申请日：2011-09-29
申请人： SNU精密股份有限公司 , SNU PRECISION CO., LTD.
发明人：金錫 , KIM, SOUK , 安宰亨 , AHN, JAE HYUNG , 金宰湖 , KIM, JAE HO
IPC分类号： H01J37/26
CPC分类号： H01J37/244 , H01J37/05 , H01J37/28 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/24485 , H01J2237/24495
摘要：本發明涉及一種具備反射電子檢測功能的掃描電子顯微鏡，本發明具備反射電子檢測功能的掃描電子顯微鏡將從光源生成的原電子(Primary Electron)射入樣品，並檢測所述原電子入射後從樣品放射出的放射電子，其特徵在於包括：維恩過濾器部，配置在所述光源和樣品之間，產生磁場和電場，以將所述放射電子分離成二次電子(Secondary Electron)和反射電子(Back Scattered Electron)；及檢測部，用於檢測從所述維恩過濾器分離的二次電子和反射電子。由此，本發明提供一種利用維恩過濾器分離二次電子和反射電子並加以檢測的具備反射電子檢測功能的掃描電子顯微鏡。
简体摘要：本发明涉及一种具备反射电子检测功能的扫描电子显微镜，本发明具备反射电子检测功能的扫描电子显微镜将从光源生成的原电子(Primary Electron)射入样品，并检测所述原电子入射后从样品放射出的放射电子，其特征在于包括：维恩过滤器部，配置在所述光源和样品之间，产生磁场和电场，以将所述放射电子分离成二次电子(Secondary Electron)和反射电子(Back Scattered Electron)；及检测部，用于检测从所述维恩过滤器分离的二次电子和反射电子。由此，本发明提供一种利用维恩过滤器分离二次电子和反射电子并加以检测的具备反射电子检测功能的扫描电子显微镜。

3. 发明专利

TWI620225B 粒子束系統及物件之粒子光學檢查的方法有权
简体标题：粒子束系统及对象之粒子光学检查的方法
公开(公告)号：TWI620225B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW105102647
申请日：2016-01-28
申请人：卡爾蔡司顯微鏡有限責任公司 , CARL ZEISS MICROSCOPY GMBH
发明人：列德雷迪瑞克 , ZEIDLER, DIRK , 舒伯特斯特凡 , SCHUBERT, STEFAN
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/21
CPC分类号： H01J37/10 , H01J37/05 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/292 , H01J2237/0453 , H01J2237/24465 , H01J2237/24485 , H01J2237/24507 , H01J2237/24564 , H01J2237/24585 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817 , H01J2237/2857

4. 发明专利

TW201301333A 包括百葉窗之背景減少系統审中-公开
简体标题：包括百叶窗之背景减少系统
公开(公告)号：TW201301333A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101120789
申请日：2012-06-08
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：奈瑟葛德西梅瑞 , NASSER-GHODSI, MEHRAN , 希爾斯克里斯多福 , SEARS, CHRISTOPHER , 海尼斯羅伯特 , HAYNES, ROBERT
IPC分类号： H01J37/252 , H01J37/09
CPC分类号： H01J37/244 , H01J2237/045 , H01J2237/24485 , H01J2237/2449 , H01J2237/2511 , H01J2237/2516
摘要：一種背景減少系統可包括但不限於：一帶電粒子源，其經組態以產生一帶電粒子束；一百葉窗結構，其包括一或多個孔隙，該一或多個孔隙經組態以根據帶電粒子之入射角而選擇性地透射該等帶電粒子；及一帶電粒子偵測器，其經組態以接收由該百葉窗結構選擇性地透射之帶電粒子。
简体摘要：一种背景减少系统可包括但不限于：一带电粒子源，其经组态以产生一带电粒子束；一百叶窗结构，其包括一或多个孔隙，该一或多个孔隙经组态以根据带电粒子之入射角而选择性地透射该等带电粒子；及一带电粒子侦测器，其经组态以接收由该百叶窗结构选择性地透射之带电粒子。

5. 发明专利

TW201704753A 用於具有改良之影像光束穩定性及詢問之帶電粒子顯微鏡之方法及系統审中-公开
简体标题：用于具有改良之影像光束稳定性及询问之带电粒子显微镜之方法及系统
公开(公告)号：TW201704753A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105109322
申请日：2016-03-24
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：馬薩納海提道格拉斯K , MASNAGHETTI, DOUGLAS K. , 托斯蓋伯 , TOTH, GABOR , 泰瑞斯大衛 , TREASE, DAVID , 布思拉羅希 , BOTHRA, ROHIT , 陳葛瑞斯淑玲 , CHEN, GRACE HSIU-LING , 克尼普梅耶瑞尼爾 , KNIPPELMEYER, RAINER
IPC分类号： G01Q30/02 , G01N23/203 , G01Q30/04
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/203 , G01N2223/6116 , H01J37/10 , H01J37/244 , H01J2237/0044 , H01J2237/0048 , H01J2237/057 , H01J2237/24465 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/24485 , H01J2237/2449 , H01J2237/2804 , H01J2237/2806
摘要：本發明揭示一種具有改良之影像束穩定性之掃描電子顯微鏡系統。該系統包含經組態以產生一電子束之一電子束源，及將該電子束之至少一部分引導至樣本之一部分上的一組電光元件。該系統包含一射度分析器總成。該系統包含經組態以將由樣本之一表面發射之至少一部分次級電子及/或反向散射電子引導至該射度分析器總成之一分光器元件。該射度分析器總成經組態以成像次級電子及/或反向散射電子之至少一者。
简体摘要：本发明揭示一种具有改良之影像束稳定性之扫描电子显微镜系统。该系统包含经组态以产生一电子束之一电子束源，及将该电子束之至少一部分引导至样本之一部分上的一组电光组件。该系统包含一射度分析器总成。该系统包含经组态以将由样本之一表面发射之至少一部分次级电子及/或反向散射电子引导至该射度分析器总成之一分光器组件。该射度分析器总成经组态以成像次级电子及/或反向散射电子之至少一者。

6. 发明专利

TWI301992B 高電流密度粒子束系統 HIGH CURRENT DENSITY PARTICLE BEAM SYSTEM 有权
简体标题：高电流密度粒子束系统 HIGH CURRENT DENSITY PARTICLE BEAM SYSTEM
公开(公告)号：TWI301992B
公开(公告)日：2008-10-11
申请号：TW094138957
申请日：2005-11-07
申请人： ICT積體電路測試暨半導體測試技術股份有限公司 ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUER HALBLEITERPRUEFTECHNIK MBH
发明人：爵根弗洛辛 FROSIEN, JUERGEN , 史蒂芬蘭尼歐 LANIO, STEFAN , 格拉德尚內克 SCHOENECKER, GERALD , 艾倫D. 布洛迪 BRODIE, ALAN D. , 大衛A. 柯魯 CREWE, DAVID A.
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/05 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/24485
摘要：本案係關於一種帶電粒子單元,用以偏向及能量選擇一
帶電粒子束335的帶電粒子。藉以提供一雙會聚象限儀單元
用以偏向及會聚該帶電粒子束,與形成一電位之一能量濾波
器460係用以其中該帶電粒子束的帶電粒子可視帶電粒子的
能量而定,在該電位基座上改變方向。
简体摘要：本案系关于一种带电粒子单元,用以偏向及能量选择一带电粒子束335的带电粒子。借以提供一双会聚象限仪单元用以偏向及会聚该带电粒子束,与形成一电位之一能量滤波器460系用以其中该带电粒子束的带电粒子可视带电粒子的能量而定,在该电位基座上改变方向。

7. 发明专利

TWI297167B 檢查裝置,以及檢查方法 INSPECTION APPARATUS AND INSPECTION METHOD 有权
简体标题：检查设备,以及检查方法 INSPECTION APPARATUS AND INSPECTION METHOD
公开(公告)号：TWI297167B
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：TW094128163
申请日：2001-06-27
申请人：荏原製作所股份有限公司 EBARA CORPORATION
发明人：中筋護 NAKASUJI, MAMORU , 野路伸治 NOJI, NOBUHARU , 佐竹徹 SATAKE, TOHRU , 曾布川拓司 SOBUKAWA, HIROSI , 吉川省二 YOSHIKAWA, SHOJI , 金馬利文 KIMBA, TOSHIFUMI , 狩努 KARIMATA, TSUTOMU , 大和田伸 OOWADA, SHIN , 西藤睦 SAITO, MUTSUMI , 濱島宗樹 HAMASHIMA, MUNEKI , 高木徹 TAKAGI, TORU
IPC分类号： H01J
CPC分类号： G03F7/70616 , G01N23/225 , H01J37/05 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/075 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/226 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/0435 , H01J2237/057 , H01J2237/06316 , H01J2237/082 , H01J2237/202 , H01J2237/20228 , H01J2237/204 , H01J2237/22 , H01J2237/2446 , H01J2237/24485 , H01J2237/24564 , H01J2237/248 , H01J2237/2482 , H01J2237/2806 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817
摘要：本發明關於檢查裝置及使用該裝置之半導體裝置的製造方法。本檢查裝置使用於對晶圓等之試件實行缺陷檢查、線幅測定、表面電位測定等。本檢查裝置由一次光學系對試件射入複數之帶電粒子，將試件放出之二次帶電粒子由一次光學系分離，並經由二次光學系導入檢測器。帶電粒子之照射為於移動試件中實行。帶電粒子照射點為依試件移動方向的N行及與其成直角方向之M列配置。帶電粒子照射點之各行為對試件移動方向之直角方向順次以預定量偏移。[本文中之行為/row，列為column]
简体摘要：本发明关于检查设备及使用该设备之半导体设备的制造方法。本检查设备使用于对晶圆等之试件实行缺陷检查、线幅测定、表面电位测定等。本检查设备由一次光学系对试件射入复数之带电粒子，将试件放出之二次带电粒子由一次光学系分离，并经由二次光学系导入检测器。带电粒子之照射为于移动试件中实行。带电粒子照射点为依试件移动方向的N行及与其成直角方向之M列配置。带电粒子照射点之各行为对试件移动方向之直角方向顺次以预定量偏移。[本文中之行为/row，列为column]

8. 发明专利

TW200632977A 高電流密度粒子束系統 HIGH CURRENT DENSITY PARTICLE BEAM SYSTEM 审中-公开
简体标题：高电流密度粒子束系统 HIGH CURRENT DENSITY PARTICLE BEAM SYSTEM
公开(公告)号：TW200632977A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW094138957
申请日：2005-11-07
申请人： ICT積體電路測試暨半導體測試技術股份有限公司 ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUER HALBLEITERPRUEFTECHNIK MBH
发明人：爵根弗洛辛 FROSIEN, JUERGEN , 史蒂芬蘭尼歐 LANIO, STEFAN , 格拉德尚內克 SCHOENECKER, GERALD , 艾倫D. 布洛迪 BRODIE, ALAN D. , 大衛A. 柯魯 CREWE, DAVID A.
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J37/05 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/24485
摘要：本案係關於一種帶電粒子單元，用以偏向及能量選擇一帶電粒子束335的帶電粒子。藉以提供一雙會聚象限儀單元用以偏向及會聚該帶電粒子束，與形成一電位之一能量濾波器460係用以其中該帶電粒子束的帶電粒子可視帶電粒子的能量而定，在該電位基座上改變方向。
简体摘要：本案系关于一种带电粒子单元，用以偏向及能量选择一带电粒子束335的带电粒子。借以提供一双会聚象限仪单元用以偏向及会聚该带电粒子束，与形成一电位之一能量滤波器460系用以其中该带电粒子束的带电粒子可视带电粒子的能量而定，在该电位基座上改变方向。

9. 发明专利

TW201714198A 用於檢查樣品及/或成像樣品的帶電粒子束裝置及方法审中-公开
简体标题：用于检查样品及/或成像样品的带电粒子束设备及方法
公开(公告)号：TW201714198A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105122152
申请日：2016-07-14
申请人： ICT積體電路測試股份有限公司 , ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FUR HALBLEITERPRUFTECHNIK MBH
发明人：佛意森傑根 , FROSIEN, JURGEN
IPC分类号： H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/145 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/24475 , H01J2237/24485 , H01J2237/2449 , H01J2237/2817
摘要：描述用於成像及/或檢查樣品的帶電粒子束裝置。帶電粒子束裝置包括光束發射器，用於發射初級帶電粒子束；以及減速場裝置，用於在撞擊樣品之前減速初級光束，減速場裝置包括磁靜電物鏡與代理電極。帶電粒子束裝置適於沿著光軸將初級光束導引到樣品，以用於產生從樣品釋放的次級粒子與背散射粒子。代理電極包括第一開口與至少一個第二開口，第一開口允許初級光束的透過，而至少一個第二開口用於允許偏軸背散射粒子的透過。此外，描述用於藉由帶電粒子束成像及/或檢查樣品的代理電極與方法。
简体摘要：描述用于成像及/或检查样品的带电粒子束设备。带电粒子束设备包括光束发射器，用于发射初级带电粒子束；以及减速场设备，用于在撞击样品之前减速初级光束，减速场设备包括磁静电物镜与代理电极。带电粒子束设备适于沿着光轴将初级光束导引到样品，以用于产生从样品释放的次级粒子与背散射粒子。代理电极包括第一开口与至少一个第二开口，第一开口允许初级光束的透过，而至少一个第二开口用于允许偏轴背散射粒子的透过。此外，描述用于借由带电粒子束成像及/或检查样品的代理电极与方法。

10. 发明专利

TW201339605A 缺陷檢查裝置及缺陷檢查方法审中-公开
简体标题：缺陷检查设备及缺陷检查方法
公开(公告)号：TW201339605A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101130715
申请日：2012-08-23
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：林宏幸 , HAYASHI, HIROYUKI
IPC分类号： G01R31/305 , G01R31/307
CPC分类号： H01J37/02 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/2446 , H01J2237/24485 , H01J2237/24564
摘要：本發明之缺陷檢查裝置包含：荷電束照射單元，其係產生荷電束而照射至形成有作為檢查對象之圖案之試料；檢測單元，其係檢測藉由上述荷電束之照射而自上述試料產生之二次荷電粒子或反射荷電粒子並輸出信號；能量濾波器，其係配設於上述檢測單元與上述試料之間，且使因應所施加之直流電壓之能量之上述二次荷電粒子或反射荷電粒子選擇性地通過；及檢查單元，其係對上述能量濾波器施加相互不同條件之電壓，且根據在相互不同之施加電壓條件下獲得之信號間之強度差，而輸出關於上述圖案之缺陷之資訊。
简体摘要：本发明之缺陷检查设备包含：荷电束照射单元，其系产生荷电束而照射至形成有作为检查对象之图案之试料；检测单元，其系检测借由上述荷电束之照射而自上述试料产生之二次荷电粒子或反射荷电粒子并输出信号；能量滤波器，其系配设于上述检测单元与上述试料之间，且使因应所施加之直流电压之能量之上述二次荷电粒子或反射荷电粒子选择性地通过；及检查单元，其系对上述能量滤波器施加相互不同条件之电压，且根据在相互不同之施加电压条件下获得之信号间之强度差，而输出关于上述图案之缺陷之信息。

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