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    • 3. 发明专利
    • 製造一圓形光學儲存碟片之方法及圓形光學儲存碟片
    • 制造一圆形光学存储盘片之方法及圆形光学存储盘片
    • TW522051B
    • 2003-03-01
    • TW090102436
    • 2001-02-06
    • 皇家飛利浦電子股份有限公司
    • 米契爾 瑪賽 荷西 利克利
    • B05D
    • B05C11/08G11B7/253G11B7/2542G11B7/266
    • 一種製造一圓形光學儲存碟片(10)之方法,其中一延伸體(21)在蓋件或間隔層(15)的旋轉塗覆過程中,設於光學碟片(10)的基片(11)的四周。該延伸體(21)可由一件或數件部件構成。外周邊(23)為圓形或多邊形。延伸體的內周邊係與該光學碟片基底(11)的外周邊(13)成密切圓周接觸。該延伸體的表面(22)係大致與該基片(11)的表面齊平,以不妨礙旋敷液在自旋塗敷過程中的流動。昇起邊緣(16),通常形成在基片(11)的周邊(13),現在被轉移到該延伸體(21)的外緣。在塗敷作業之後,該延伸體(21)被除去。藉由選定一塗層(15)附著性差之表面(22),可利於再次使用該延伸體(21)。所製出的光學儲存碟片(10)沒有、或僅有些微昇起邊緣(16),而該方法並未引起過度的雙折射。
    • 一种制造一圆形光学存储盘片(10)之方法,其中一延伸体(21)在盖件或间隔层(15)的旋转涂覆过程中,设于光学盘片(10)的基片(11)的四周。该延伸体(21)可由一件或数件部件构成。外周边(23)为圆形或多边形。延伸体的内周边系与该光学盘片基底(11)的外周边(13)成密切圆周接触。该延伸体的表面(22)系大致与该基片(11)的表面齐平,以不妨碍旋敷液在自旋涂敷过程中的流动。升起边缘(16),通常形成在基片(11)的周边(13),现在被转移到该延伸体(21)的外缘。在涂敷作业之后,该延伸体(21)被除去。借由选定一涂层(15)附着性差之表面(22),可利于再次使用该延伸体(21)。所制出的光学存储盘片(10)没有、或仅有些微升起边缘(16),而该方法并未引起过度的双折射。
    • 4. 发明专利
    • 光記錄媒體用保護膜及光記錄媒體
    • 光记录媒体用保护膜及光记录媒体
    • TW518589B
    • 2003-01-21
    • TW090107542
    • 2001-03-29
    • 帝人股份有限公司
    • 內山昭彥串田尚倉正一
    • G11B
    • G11B7/24056G11B7/244G11B7/253G11B7/254G11B7/2542
    • 提供由熱塑性樹脂而成的一片透明薄膜而成之保護膜,波長550nm之位相差在15nm以下及於550 nm之K值為40nm以下,玻璃轉移溫度在120℃以上,吸水率在1重量%以下的光記錄媒體用保護膜。
      (在此,K值係K=〔nz-(nx+ny)/2〕× d(式內,nx、ny、nz係透明薄膜之三維折射係數,各在x軸、y軸、z軸方向之折射係數,d係透明薄膜之厚度)計算的值)。
      又於基材上具有資訊記錄層及上述保護膜,由該保護膜側經予入射光的記錄媒體。
    • 提供由热塑性树脂而成的一片透明薄膜而成之保护膜,波长550nm之位相差在15nm以下及于550 nm之K值为40nm以下,玻璃转移温度在120℃以上,吸水率在1重量%以下的光记录媒体用保护膜。 (在此,K值系K=〔nz-(nx+ny)/2〕× d(式内,nx、ny、nz系透明薄膜之三维折射系数,各在x轴、y轴、z轴方向之折射系数,d系透明薄膜之厚度)计算的值)。 又于基材上具有信息记录层及上述保护膜,由该保护膜侧经予入射光的记录媒体。