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1. 发明专利

TWI526333B 使光可硬化印刷胚板熱顯影之方法有权
简体标题：使光可硬化印刷胚板热显影之方法
公开(公告)号：TWI526333B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW101101180
申请日：2012-01-12
申请人：麥克達米德印刷解法公司 , MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC
发明人：瑞屈亞大衛A , RECCHIA, DAVID A. , 布萊爾約瑟H , BLAIR, JOSEPH H. , 維斯特里安W , VEST, RYAN W.
IPC分类号： B41M5/44 , B41M5/26
CPC分类号： G03F7/34 , G03F7/092 , G03F7/202 , G03F7/36

2. 发明专利

TW201546538A 空白遮罩、相位移轉遮罩之製造方法、相位移轉遮罩、以及半導體元件之製造方法（一）审中-公开
简体标题：空白遮罩、相位移转遮罩之制造方法、相位移转遮罩、以及半导体组件之制造方法（一）
公开(公告)号：TW201546538A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104106159
申请日：2015-02-26
申请人： HOYA股份有限公司 , HOYA CORPORATION
发明人：宍戶博明 , SHISHIDO, HIROAKI , 野澤順 , NOZAWA, OSAMU , 打田崇 , UCHIDA, TAKASHI
IPC分类号： G03F1/54 , G03F1/26
CPC分类号： G03F1/32 , G03F1/58 , G03F1/80 , G03F7/20 , G03F7/34 , H01L21/3081 , H01L21/3086
摘要：一種空白遮罩，具有於透光性基板上從該透光性基板側起依序積層有相位移轉膜、遮光膜以及硬遮罩膜之構造；該相位移轉膜係以含有矽之材料所形成，該硬遮罩膜係以含有選自矽以及鉭中至少1以上元素的材料所形成，該遮光膜係以含有鉻之材料所形成，具有積層下層、中間層以及上層之3層的構造，該上層之鉻含有量在該遮光膜之中最多，該中間層之鉻含有量在該遮光膜之中最少，且含有選自銦、錫以及鉬中至少1以上之金屬元素。
简体摘要：一种空白遮罩，具有于透光性基板上从该透光性基板侧起依序积层有相位移转膜、遮光膜以及硬遮罩膜之构造；该相位移转膜系以含有硅之材料所形成，该硬遮罩膜系以含有选自硅以及钽中至少1以上元素的材料所形成，该遮光膜系以含有铬之材料所形成，具有积层下层、中间层以及上层之3层的构造，该上层之铬含有量在该遮光膜之中最多，该中间层之铬含有量在该遮光膜之中最少，且含有选自铟、锡以及钼中至少1以上之金属元素。

3. 发明专利

TW201433586A 硬遮罩組成物用單體、包含該單體之硬遮罩組成物及使用該硬遮罩組成物形成圖案之方法审中-公开
简体标题：硬遮罩组成物用单体、包含该单体之硬遮罩组成物及使用该硬遮罩组成物形成图案之方法
公开(公告)号：TW201433586A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW102125735
申请日：2013-07-18
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：尹龍雲 , YOON, YONG WOON , 李聖宰 , LEE, SUNG JAE , 文俊怜 , MOON, JOON YOUNG , 朴惟廷 , PARK, YOU JUNG , 李哲虎 , LEE, CHUL HO , 趙娟振 , CHO, YOUN JIN
IPC分类号： C08G59/24 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C07D303/14 , C07D303/32 , C09D5/00 , C09D7/63 , C09D163/00 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/34
摘要：揭露一種以下列化學式1表示的用於硬質遮罩組成物的單體，一包含該單體的硬質遮罩組成物，及使用該硬質遮罩組成物形成圖案的方法。在上面的化學式1中，A、A’、X、Y、I、m及n是如詳細說明中所述。
简体摘要：揭露一种以下列化学式1表示的用于硬质遮罩组成物的单体，一包含该单体的硬质遮罩组成物，及使用该硬质遮罩组成物形成图案的方法。在上面的化学式1中，A、A’、X、Y、I、m及n是如详细说明中所述。

4. 发明专利

TWI310487B 用於將表面處理組成物在熱顯影期間施加至光敏印刷元件之方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR APPLYING SURFACE TREATMENTS TO PHOTOSENSITIVE PRINTING ELEMENTS DURING THERMAL DEVELOPMENT 有权
简体标题：用于将表面处理组成物在热显影期间施加至光敏印刷组件之方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR APPLYING SURFACE TREATMENTS TO PHOTOSENSITIVE PRINTING ELEMENTS DURING THERMAL DEVELOPMENT
公开(公告)号：TWI310487B
公开(公告)日：2009-06-01
申请号：TW094131624
申请日：2005-09-14
申请人：麥克達米德印刷解法公司 MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC
发明人：提摩西葛席克 GOTSICK, TIMOTHY , 賴安維斯特 VEST, RYAN
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/34 , B41C1/00 , G03F7/40
摘要：本發明係關於用以將表面處理組成物在熱處理期間施加至光敏印刷元件之方法與裝置。一光敏印刷元件接觸於能夠吸收自一光敏印刷元件之成像化及曝光的表面融化或軟化的材料之一吸收材料的薄片。該吸收材料之薄片係塗佈一表面處理組成物以由該吸收材料之薄片轉移該表面處理組成物到該光敏印刷元件之成像化及曝光的表面上。於熱處理期間施加該表面處理組成物可提供更為完整及更為均勻的表面處理組成物之覆蓋在該光敏印刷元件上。
简体摘要：本发明系关于用以将表面处理组成物在热处理期间施加至光敏印刷组件之方法与设备。一光敏印刷组件接触于能够吸收自一光敏印刷组件之成像化及曝光的表面融化或软化的材料之一吸收材料的薄片。该吸收材料之薄片系涂布一表面处理组成物以由该吸收材料之薄片转移该表面处理组成物到该光敏印刷组件之成像化及曝光的表面上。于热处理期间施加该表面处理组成物可提供更为完整及更为均匀的表面处理组成物之覆盖在该光敏印刷组件上。

5. 发明专利

TW557411B 噴砂用感光組合物及包含該組合物之感光膜有权
简体标题：喷砂用感光组合物及包含该组合物之感光膜
公开(公告)号：TW557411B
公开(公告)日：2003-10-11
申请号：TW087117060
申请日：1998-10-14
申请人：東京應化工業股份有限公司
发明人：水澤龍馬 , 中里俊二 , 帶谷洋之
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0325 , B24C1/04 , G03F7/34 , H05K3/0076 , H05K3/04 , Y10S430/112
摘要：本發明發表一種噴砂用感光組合物及具有包含感光組合物之感光層之感光膜，此感光組合物包括具有至少兩丙烯醯基及／或甲基丙烯醯基之可光聚合(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物，光聚合引發劑，及至少一種選自由羥丙基纖維素酯、乙基羥乙基纖維素、酸羥丙基甲基纖維素、及醋酸酸羥丙基甲基纖維素酯所組成之群之纖維素衍生物。此組合物展現對基材的優異黏合力、高敏感性、及高耐噴砂性。
简体摘要：本发明发表一种喷砂用感光组合物及具有包含感光组合物之感光层之感光膜，此感光组合物包括具有至少两丙烯酰基及／或甲基丙烯酰基之可光聚合(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯寡聚物，光聚合引发剂，及至少一种选自由羟丙基纤维素酯、乙基羟乙基纤维素、酸羟丙基甲基纤维素、及醋酸酸羟丙基甲基纤维素酯所组成之群之纤维素衍生物。此组合物展现对基材的优异黏合力、高敏感性、及高耐喷砂性。

6. 发明专利

TW201443175A 微影用光阻保護膜組成物、及使用該組成物形成半導體元件之圖案的方法审中-公开
简体标题：微影用光阻保护膜组成物、及使用该组成物形成半导体组件之图案的方法
公开(公告)号：TW201443175A
公开(公告)日：2014-11-16
申请号：TW103108369
申请日：2014-03-11
申请人：東進世美肯股份有限公司 , DONGJIN SEMICHEM CO., LTD.
发明人：韓萬浩 , HAN, MAN HO , 朴鍾慶 , PARK, JONG KYOUNG , 金炫辰 , KIM, HYUN JIN , 金宰賢 , KIM, JAE HYUN
IPC分类号： C09D201/04 , B05D3/02 , G03F7/40 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C08L2203/16 , C09D4/06 , C09D133/16 , G03F7/0045 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/34 , G03F7/38
摘要：本發明係提供一用於微影法之光阻保護膜組成物，其包括一具有2,000至100,000之重量平均分子量之聚合物，其包括一位於該聚合物之一側鏈上之具有一含氟官能基的重複單元；及一溶劑，其中該溶劑包括一具有12.5至22.0之海度班(Hildebrand)溶度參數的材料，且以該溶劑之總重量的100重量份數計，該具有12.5至22.0之海度班溶度參數之材料的一數量為為10至90重量份；及一使用該組成物形成一半導體元件之圖案的方法。
简体摘要：本发明系提供一用于微影法之光阻保护膜组成物，其包括一具有2,000至100,000之重量平均分子量之聚合物，其包括一位于该聚合物之一侧链上之具有一含氟官能基的重复单元；及一溶剂，其中该溶剂包括一具有12.5至22.0之海度班(Hildebrand)溶度参数的材料，且以该溶剂之总重量的100重量份数计，该具有12.5至22.0之海度班溶度参数之材料的一数量为为10至90重量份；及一使用该组成物形成一半导体组件之图案的方法。

7. 发明专利

TW201236886A 感光性樹脂積層體及其熱處理方法 PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE AND THERMAL PROCESSING OF THE SAME 审中-公开
简体标题：感光性树脂积层体及其热处理方法 PHOTOSENSITIVE RESIN LAMINATE AND THERMAL PROCESSING OF THE SAME
公开(公告)号：TW201236886A
公开(公告)日：2012-09-16
申请号：TW101101180
申请日：2012-01-12
申请人：麥克達米德印刷解法公司
发明人：瑞屈亞大衛A , 布萊爾約瑟H , 維斯特里安W
IPC分类号： B41M
CPC分类号： G03F7/34 , G03F7/092 , G03F7/202 , G03F7/36
摘要：本發明係關於一種使光可硬化印刷胚板熱顯影之方法，以產生包含複數個凸紋圓點之立體圖案。光可硬化印刷胚板包括一個背襯層，其具有至少一層置放於其上的光可硬化層以及置放於該至少一層光可硬化層頂端之雷射可剝蝕光罩層。此方法包括步驟為：(1)藉由剝蝕該雷射可剝蝕光罩層在該至少一層光可硬化層的表面上產生立體圖案的方式，以使得該至少一個光可硬化層成像；(2)將一層氧氣阻隔膜積層於雷射剝蝕光罩層的頂端；(3)透過該氧氣阻隔膜及光罩層將該印刷胚板曝露於一或多種光化輻射源的光化輻射之下，以選擇性交聯和硬化部分的該至少一層光可硬化層，其中該至少一層光可硬化層被交聯和硬化的部分為未被光罩層覆蓋的部分，因而產生立體圖案；(4)由雷射剝蝕光罩層的頂端去除氧氣阻隔膜；以及(5)將印刷胚板予以熱顯影以去除雷射剝蝕光罩層及光可硬化層未硬化的部分，並且露出立體圖案。氧氣阻隔膜的存在產生了具有所需特徵之印刷圓點。此方法也可用於使用負片來取代可剝蝕光層之類比式製版方法，或者是，負片本身可用來作為氧氣阻隔層。
简体摘要：本发明系关于一种使光可硬化印刷胚板热显影之方法，以产生包含复数个凸纹圆点之三維图案。光可硬化印刷胚板包括一个背衬层，其具有至少一层置放于其上的光可硬化层以及置放于该至少一层光可硬化层顶端之激光可剥蚀光罩层。此方法包括步骤为：(1)借由剥蚀该激光可剥蚀光罩层在该至少一层光可硬化层的表面上产生三維图案的方式，以使得该至少一个光可硬化层成像；(2)将一层氧气阻隔膜积层于激光剥蚀光罩层的顶端；(3)透过该氧气阻隔膜及光罩层将该印刷胚板曝露于一或多种光化辐射源的光化辐射之下，以选择性交联和硬化部分的该至少一层光可硬化层，其中该至少一层光可硬化层被交联和硬化的部分为未被光罩层覆盖的部分，因而产生三維图案；(4)由激光剥蚀光罩层的顶端去除氧气阻隔膜；以及(5)将印刷胚板予以热显影以去除激光剥蚀光罩层及光可硬化层未硬化的部分，并且露出三維图案。氧气阻隔膜的存在产生了具有所需特征之印刷圆点。此方法也可用于使用负片来取代可剥蚀光层之模拟式制版方法，或者是，负片本身可用来作为氧气阻隔层。

8. 发明专利

TW201212749A 圖案化可撓式基板的方法 METHOD FOR PATTERNING A FLEXIBLE SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：图案化可挠式基板的方法 METHOD FOR PATTERNING A FLEXIBLE SUBSTRATE
公开(公告)号：TW201212749A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100113653
申请日：2011-04-20
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：蔡寶鳴 , 張悠揚 , 江良祐 , 陳昱任
IPC分类号： H05K , B32B
CPC分类号： G03F7/343 , G02F1/00 , G02F1/133305 , G03F7/2016 , G03F7/34
摘要：本揭露提供一種圖案化可撓式基板的方法。上述圖案化可撓式基板的方法包括提供一承載基板。於上述承載基板上形成一離型層。於上述離型層上形成一可撓式基板薄膜;形成複數個阻擋紫外光光罩圖案,覆蓋上述可撓式基板薄膜和上述離型層的不同部分。進行一照紫外光步驟,將未被上述些阻擋紫外光光罩圖案覆蓋的上述可撓式基板薄膜和上述離型層暴露在一紫外光下。進行一取下步驟,使位於未暴露在上述紫外光下的上述離型層的上述些不同部分正上方的上述可撓式基板薄膜的上述些不同部分自上述承載基板脫離。
简体摘要：本揭露提供一种图案化可挠式基板的方法。上述图案化可挠式基板的方法包括提供一承载基板。于上述承载基板上形成一离型层。于上述离型层上形成一可挠式基板薄膜;形成复数个阻挡紫外光光罩图案,覆盖上述可挠式基板薄膜和上述离型层的不同部分。进行一照紫外光步骤,将未被上述些阻挡紫外光光罩图案覆盖的上述可挠式基板薄膜和上述离型层暴露在一紫外光下。进行一取下步骤,使位于未暴露在上述紫外光下的上述离型层的上述些不同部分正上方的上述可挠式基板薄膜的上述些不同部分自上述承载基板脱离。

9. 发明专利

TW201108451A 用於厚膜電路圖案化之方法 PROCESS FOR THICK FILM CIRCUIT PATTERNING 审中-公开
简体标题：用于厚膜电路图案化之方法 PROCESS FOR THICK FILM CIRCUIT PATTERNING
公开(公告)号：TW201108451A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099117637
申请日：2010-06-01
申请人：杜邦股份有限公司
发明人：佐藤敦彦 , 林勳 , 村上守
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H05K3/046 , G03F7/34 , H05K3/102 , H05K3/1283 , H05K2203/0525 , H05K2203/1131
摘要：本發明是關於在一基板上形成一電功能圖案,並關於一使用光敏元件結合一具有施加在支架上之厚膜組成物之薄板的方法。用於在一基板上形成一具有電功能性質之圖案的方法包含以下步驟:(a)提供一光敏層,其具有一配置在一基板上的膠黏表面;(b)成像式地暴露該光敏層,以形成一具有膠黏和非膠黏區域的成像層;(c)施加一配置在一支架上之包括至少一層厚膜組成物的薄板至該成像層,其中該成像層與該薄板的該厚膜組成物接觸;(d)加熱該轉移薄板和該光可硬化層,以增加該厚膜組成物與該成像層之膠黏區域間的黏著强度;(e)移除該支架,其中該厚膜組成物在該成像層的該非膠黏區域中餘留在該支架上,且該厚膜組成物實質上黏附至該成像層的該膠黏區域,並形成一圖案化物件;以及(f)加熱該圖案化物件的該厚膜組成物。
简体摘要：本发明是关于在一基板上形成一电功能图案,并关于一使用光敏组件结合一具有施加在支架上之厚膜组成物之薄板的方法。用于在一基板上形成一具有电功能性质之图案的方法包含以下步骤:(a)提供一光敏层,其具有一配置在一基板上的胶黏表面;(b)成像式地暴露该光敏层,以形成一具有胶黏和非胶黏区域的成像层;(c)施加一配置在一支架上之包括至少一层厚膜组成物的薄板至该成像层,其中该成像层与该薄板的该厚膜组成物接触;(d)加热该转移薄板和该光可硬化层,以增加该厚膜组成物与该成像层之胶黏区域间的黏着强度;(e)移除该支架,其中该厚膜组成物在该成像层的该非胶黏区域中余留在该支架上,且该厚膜组成物实质上黏附至该成像层的该胶黏区域,并形成一图案化对象;以及(f)加热该图案化对象的该厚膜组成物。

10. 发明专利

TW200613144A 用於熱顯影輪轉印刷元件之設備及方法 APPARATUS AND METHOD FOR THERMALLY DEVELOPING FLEXOGRAPHIC PRINTING ELEMENTS 审中-公开
简体标题：用于热显影轮转印刷组件之设备及方法 APPARATUS AND METHOD FOR THERMALLY DEVELOPING FLEXOGRAPHIC PRINTING ELEMENTS
公开(公告)号：TW200613144A
公开(公告)日：2006-05-01
申请号：TW094123474
申请日：2005-07-12
申请人：麥克達米德印刷解法公司 MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC
发明人：蓋瑞T. 馬克哈特 MARKHART, GARY T.
IPC分类号： B41F , G03C , G03F
CPC分类号： G03F7/36 , B41C1/05 , G03F7/34
摘要：一種用於熱顯影一輪轉印刷元件以在表面上顯露出一浮凸圖像之改良式設備，以及一種使用該設備來曝光及顯影一輪轉印刷元件之方法。該設備典型地包括一裝置，用於軟化或熔化該輪轉印刷元件成像及曝光表面上之非交聯光聚合物；至少一滾筒，可接觸該輪轉印刷元件之成像表面，且能夠在該輪轉印刷元件成像表面之至少一部分上運動，以移除該輪轉印刷元件成像及曝光表面上之已軟化或熔化非交聯光聚合物；及一裝置，用於使該至少一滾筒與該輪轉印刷元件成像及曝光表面保持接觸。該軟化或熔化輪轉印刷元件成像及曝光表面上非交聯光聚合物用裝置包括，定位於鄰近該輪轉印刷元件成像表面處之一加熱器，及／或加熱可與該輪轉印刷元件成像表面相接觸之該至少一滾筒。該設備亦包含有一曝光裝置，用於在熱顯影之前交錯連接及熟化該影輪轉印刷元件之成像表面。
简体摘要：一种用于热显影一轮转印刷组件以在表面上显露出一浮凸图像之改良式设备，以及一种使用该设备来曝光及显影一轮转印刷组件之方法。该设备典型地包括一设备，用于软化或熔化该轮转印刷组件成像及曝光表面上之非交联光聚合物；至少一滚筒，可接触该轮转印刷组件之成像表面，且能够在该轮转印刷组件成像表面之至少一部分上运动，以移除该轮转印刷组件成像及曝光表面上之已软化或熔化非交联光聚合物；及一设备，用于使该至少一滚筒与该轮转印刷组件成像及曝光表面保持接触。该软化或熔化轮转印刷组件成像及曝光表面上非交联光聚合物用设备包括，定位于邻近该轮转印刷组件成像表面处之一加热器，及／或加热可与该轮转印刷组件成像表面相接触之该至少一滚筒。该设备亦包含有一曝光设备，用于在热显影之前交错连接及熟化该影轮转印刷组件之成像表面。

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