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1. 发明专利

TW201708939A 基於金屬奈米粒子之光子燒結的自對準金屬圖案化技術审中-公开
简体标题：基于金属奈米粒子之光子烧结的自对准金属图案化技术
公开(公告)号：TW201708939A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105120938
申请日：2016-07-01
申请人：加拿大國家研究委員會 , NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA
发明人：張志一 , ZHANG, ZHIYI , 陶業 , TAO, YE , 朱達雅 , CHU, TA YA , 蕭高志 , XIAO, GAOZHI
IPC分类号： G03F1/76 , H05K3/46 , H05K3/06 , H05K3/18
CPC分类号： B22F7/04 , B22F3/105 , B22F3/24 , B22F5/00 , B22F2003/247 , B22F2003/248 , B22F2301/052 , B22F2301/10 , B22F2301/255 , B82Y20/00 , G03F7/2016 , G03F7/2022 , G03F7/40 , H01L51/0022 , H01L51/0023 , H01L51/0096 , H01L51/0541 , H01L51/0545 , H01L2251/301 , H05K1/097 , H05K3/06 , H05K3/064 , H05K3/4644 , H05K2201/0145 , H05K2203/013 , H05K2203/0548 , H05K2203/0766 , H05K2203/107 , H05K2203/1131
摘要：揭露一種用於在製造一多層可印刷電子裝置使層對準之方法。此方法需要提供於上沉積一第一金屬層之一透明基材，於第一金屬層上提供一透明功能層，使金屬奈米粒子沉積於功能層上形成一第二金屬層，使金屬奈米粒子曝露於通過基材底面之強烈脈衝光，以使經曝光之粒子與功能層部份燒結，藉此，第一金屬層作為一光遮罩，及使用一溶劑清洗掉未經曝光之粒子以使經部份燒結之金屬奈米粒子留於基材上。
简体摘要：揭露一种用于在制造一多层可印刷电子设备使层对准之方法。此方法需要提供于上沉积一第一金属层之一透明基材，于第一金属层上提供一透明功能层，使金属奈米粒子沉积于功能层上形成一第二金属层，使金属奈米粒子曝露于通过基材底面之强烈脉冲光，以使经曝光之粒子与功能层部份烧结，借此，第一金属层作为一光遮罩，及使用一溶剂清洗掉未经曝光之粒子以使经部份烧结之金属奈米粒子留于基材上。

2. 发明专利

TW201417635A 用於柔版印刷版之背基板及其製造方法审中-公开
简体标题：用于柔版印刷版之背基板及其制造方法
公开(公告)号：TW201417635A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：TW101140113
申请日：2012-10-30
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：留淑娟 , LIU, SHUCHUAN , 張崇凱 , CHANG, CHUNGKAI
IPC分类号： H05K1/03 , H05K3/00
CPC分类号： B41N6/00 , C08K5/0025 , C09J7/385 , C09J2205/102 , C09J2205/31 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/0325 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0757 , G03F7/0955 , G03F7/11 , G03F7/2016 , Y10T428/2809
摘要：提供一種用於柔版印刷版之背基板及其製造方法，其中該製造方法包含下列步驟：提供一可撓性底材並塗佈接著劑於可撓性底材上。其中，接著劑包含樹脂、光起始劑與可光固化化合物，之後進行第一曝光步驟，使接著劑形成接著層，接著層之不飽和基的轉化率介於10至65%。在此亦提供以上述方法製成之背基板。
简体摘要：提供一种用于柔版印刷版之背基板及其制造方法，其中该制造方法包含下列步骤：提供一可挠性底材并涂布接着剂于可挠性底材上。其中，接着剂包含树脂、光起始剂与可光固化化合物，之后进行第一曝光步骤，使接着剂形成接着层，接着层之不饱和基的转化率介于10至65%。在此亦提供以上述方法制成之背基板。

4. 发明专利

TW201140650A 圖案形成方法审中-公开
简体标题：图案形成方法
公开(公告)号：TW201140650A
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：TW100102148
申请日：2011-01-20
申请人：東芝股份有限公司
发明人：河村嘉久
IPC分类号： H01L , B29C
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/2016 , H01L21/0337 , H01L21/76817
摘要：依據本發明之實施形態，提供一種圖案形成方法，其特徵在於，包括：於被加工膜上塗佈壓印材料之步驟；使具有設置有第1凹凸之轉印面之模板之上述轉印面接觸上述壓印材料，而於上述壓印材料上形成反映上述第1凹凸之形狀的第2凹凸之步驟；於使上述模板與上述壓印材料接觸之狀態下使上述壓印材料硬化之步驟；於硬化之上述壓印材料之上述第2凹凸之凹部填充遮罩材之步驟；以上述所填充之遮罩材為遮罩對上述壓印材料進行加工，使上述被加工膜之一部分露出之步驟；以及以上述經加工之上述壓印材料為遮罩對上述被加工膜進行加工之步驟；並且上述第2凹凸之上述凹部之底面與上述被加工膜間之上述壓印材料之厚度為上述第2凹凸之半間距之2.5倍以上。
简体摘要：依据本发明之实施形态，提供一种图案形成方法，其特征在于，包括：于被加工膜上涂布压印材料之步骤；使具有设置有第1凹凸之转印面之模板之上述转印面接触上述压印材料，而于上述压印材料上形成反映上述第1凹凸之形状的第2凹凸之步骤；于使上述模板与上述压印材料接触之状态下使上述压印材料硬化之步骤；于硬化之上述压印材料之上述第2凹凸之凹部填充遮罩材之步骤；以上述所填充之遮罩材为遮罩对上述压印材料进行加工，使上述被加工膜之一部分露出之步骤；以及以上述经加工之上述压印材料为遮罩对上述被加工膜进行加工之步骤；并且上述第2凹凸之上述凹部之底面与上述被加工膜间之上述压印材料之厚度为上述第2凹凸之半间距之2.5倍以上。

5. 发明专利

TW201534490A 圖案形成體审中-公开
简体标题：图案形成体
公开(公告)号：TW201534490A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW103138508
申请日：2014-11-06
申请人：迪睿合股份有限公司 , DEXERIALS CORPORATION
发明人：伊藤牧八 , ITO, MAKIYA , 遠藤亮介 , ENDO, RYOSUKE , 尹炅成 , YUN, KYUNGSUNG , 近藤洋文 , KONDO, HIROFUMI
IPC分类号： B41N1/14 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2016 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/0755 , G03F7/09
摘要：於基材11上具備具有低表面自由能量區域a及高表面自由能量區域b的硬化樹脂層12，且低表面自由能量區域a與高表面自由能量區域b的表面自由能量差係大於6mJ/m2，且低表面自由能量區域a與高表面自由能量區域b係光學性地平滑面。據此，可容易地作印墨之分開塗抹。
简体摘要：于基材11上具备具有低表面自由能量区域a及高表面自由能量区域b的硬化树脂层12，且低表面自由能量区域a与高表面自由能量区域b的表面自由能量差系大于6mJ/m2，且低表面自由能量区域a与高表面自由能量区域b系光学性地平滑面。据此，可容易地作印墨之分开涂抹。

6. 发明专利

TW201503790A 基板之製造方法、基板、及遮罩膜审中-公开
简体标题：基板之制造方法、基板、及遮罩膜
公开(公告)号：TW201503790A
公开(公告)日：2015-01-16
申请号：TW103106767
申请日：2014-02-27
申请人：東海神榮電子工業股份有限公司 , TOKAI SHINEI ELECTRONICS INDUSTRY CO., LTD. , 齋藤忠芳 , SAITO, TADAYOSHI , 大和屋商會股份有限公司 , YAMATOYA & CO., LTD.
发明人：柘植和典 , TSUGE, KAZUNORI , 田中義人 , TANAKA, YOSHIHITO , 秋山浩司 , AKIYAMA, KOJI , 田中清 , TANAKA, KIYOSHI , 西尾和義 , NISHIO, KAZUYOSHI , 加藤雄大 , KATO, TAKEHIRO , 村上勝 , MURAKAMI, MASARU , 齋藤忠芳 , SAITO, TADAYOSHI , 吉村浩年 , YOSHIMURA, HIROTOSHI , 井上智 , INOUE, AKIRA , 沼倉巖 , NUMAKURA, IWAO , 塚田典明 , TSUKADA, NORIAKI
IPC分类号： H05K3/46 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/2002 , G03C1/76 , G03C1/95 , G03F1/50 , G03F7/0012 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/09 , G03F7/11 , G03F7/2016 , G03F7/2022 , G03F7/203 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L23/49894 , H01L2924/0002 , H05K1/0269 , H05K3/287 , H05K3/341 , H05K2201/099 , H05K2201/09936 , H05K2203/056 , H05K2203/0571 , H01L2924/00
摘要：在基板本體(11)的至少一側的面上，塗布包含環氧系樹脂和丙烯酸系樹脂的混合樹脂的阻焊油墨而形成阻焊層(20)，使用紫外線照射該阻焊層(20)，同時經由對照射在阻焊層(20)的規定部分的紫外線的照射量進行調整的方式，使該規定部分成為透明。
简体摘要：在基板本体(11)的至少一侧的面上，涂布包含环氧系树脂和丙烯酸系树脂的混合树脂的阻焊油墨而形成阻焊层(20)，使用紫外线照射该阻焊层(20)，同时经由对照射在阻焊层(20)的规定部分的紫外线的照射量进行调整的方式，使该规定部分成为透明。

7. 发明专利

TW201318976A 氧化鎢膜形成用組成物及使用其之氧化鎢膜之製造法审中-公开
简体标题：氧化钨膜形成用组成物及使用其之氧化钨膜之制造法
公开(公告)号：TW201318976A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101128701
申请日：2012-08-09
申请人： AZ電子材料IP股份有限公司 , AZ ELECTRONIC MATERIALS IP (JAPAN) KK
发明人：能谷剛 , NOYA, GO
IPC分类号： C01G41/02 , C09D7/12 , G03F7/20 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/20 , G03F7/2016 , G03F7/40 , H01L21/02244 , H01L21/308 , H01L21/3081
摘要：本發明之課題，係提供一種用於將氧化鎢膜由水性溶液形成之組成物及使用其之圖案形成方法。本發明之解決手段，係一種氧化鎢膜形成用組成物，其含有水溶性偏鎢酸鹽；選自陰離子性聚合物、非離子性聚合物、陰離子性界面活性劑及含三級胺基之非離子性界面活性劑的至少一種的添加劑；及水而成。在使用影像反轉三層結構、光阻層膜、或光阻上層保護膜的圖案形成方法中，可使用該氧化鎢膜形成用組成物，替代所使用之二氧化矽膜形成用組成物而形成圖案。
简体摘要：本发明之课题，系提供一种用于将氧化钨膜由水性溶液形成之组成物及使用其之图案形成方法。本发明之解决手段，系一种氧化钨膜形成用组成物，其含有水溶性偏钨酸盐；选自阴离子性聚合物、非离子性聚合物、阴离子性界面活性剂及含三级胺基之非离子性界面活性剂的至少一种的添加剂；及水而成。在使用影像反转三层结构、光阻层膜、或光阻上层保护膜的图案形成方法中，可使用该氧化钨膜形成用组成物，替代所使用之二氧化硅膜形成用组成物而形成图案。

8. 发明专利

TW201732877A 形成圖案的方法审中-公开
简体标题：形成图案的方法
公开(公告)号：TW201732877A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105112746
申请日：2016-04-25
申请人：美光科技公司 , MICRON TECHNOLOGY, INC.
发明人：周國耀 , CHOU, KUO-YAO
IPC分类号： H01L21/027 , B82Y40/00
CPC分类号： G03F7/2016 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0002 , G03F7/0035 , H01L21/02118 , H01L21/02318 , H01L21/0273
摘要：本發明披露一種形成圖案的方法。先於基底上形成一目標層；再於目標層上形成複數個第一抗蝕圖案；然後於第一抗蝕圖案上全面沉積一定向自組裝材料層，其中定向自組裝材料層填滿第一抗蝕圖案之間的空隙；之後對定向自組裝材料層進行一自組裝過程，於定向自組裝材料層中形成重複排列的嵌段共聚物圖案；最後從定向自組裝材料層中移除不需要的部分，於目標層上形成第二抗蝕圖案。
简体摘要：本发明披露一种形成图案的方法。先于基底上形成一目标层；再于目标层上形成复数个第一抗蚀图案；然后于第一抗蚀图案上全面沉积一定向自组装材料层，其中定向自组装材料层填满第一抗蚀图案之间的空隙；之后对定向自组装材料层进行一自组装过程，于定向自组装材料层中形成重复排列的嵌段共聚物图案；最后从定向自组装材料层中移除不需要的部分，于目标层上形成第二抗蚀图案。

9. 发明专利

TWI461120B 用於柔版印刷版之背基板及其製造方法有权
简体标题：用于柔版印刷版之背基板及其制造方法
公开(公告)号：TWI461120B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW101140113
申请日：2012-10-30
申请人：遠東新世紀股份有限公司 , FAR EASTERN NEW CENTURY CORPORATION
发明人：留淑娟 , LIU, SHUCHUAN , 張崇凱 , CHANG, CHUNGKAI
IPC分类号： H05K1/03 , H05K3/00
CPC分类号： B41N6/00 , C08K5/0025 , C09J7/385 , C09J2205/102 , C09J2205/31 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/0325 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0757 , G03F7/0955 , G03F7/11 , G03F7/2016 , Y10T428/2809

10. 发明专利

TW201212749A 圖案化可撓式基板的方法 METHOD FOR PATTERNING A FLEXIBLE SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：图案化可挠式基板的方法 METHOD FOR PATTERNING A FLEXIBLE SUBSTRATE
公开(公告)号：TW201212749A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100113653
申请日：2011-04-20
申请人：財團法人工業技術研究院
发明人：蔡寶鳴 , 張悠揚 , 江良祐 , 陳昱任
IPC分类号： H05K , B32B
CPC分类号： G03F7/343 , G02F1/00 , G02F1/133305 , G03F7/2016 , G03F7/34
摘要：本揭露提供一種圖案化可撓式基板的方法。上述圖案化可撓式基板的方法包括提供一承載基板。於上述承載基板上形成一離型層。於上述離型層上形成一可撓式基板薄膜;形成複數個阻擋紫外光光罩圖案,覆蓋上述可撓式基板薄膜和上述離型層的不同部分。進行一照紫外光步驟,將未被上述些阻擋紫外光光罩圖案覆蓋的上述可撓式基板薄膜和上述離型層暴露在一紫外光下。進行一取下步驟,使位於未暴露在上述紫外光下的上述離型層的上述些不同部分正上方的上述可撓式基板薄膜的上述些不同部分自上述承載基板脫離。
简体摘要：本揭露提供一种图案化可挠式基板的方法。上述图案化可挠式基板的方法包括提供一承载基板。于上述承载基板上形成一离型层。于上述离型层上形成一可挠式基板薄膜;形成复数个阻挡紫外光光罩图案,覆盖上述可挠式基板薄膜和上述离型层的不同部分。进行一照紫外光步骤,将未被上述些阻挡紫外光光罩图案覆盖的上述可挠式基板薄膜和上述离型层暴露在一紫外光下。进行一取下步骤,使位于未暴露在上述紫外光下的上述离型层的上述些不同部分正上方的上述可挠式基板薄膜的上述些不同部分自上述承载基板脱离。

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