专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201035640A 光繞射元件及具有該光繞射元件的背光模組及顯示裝置 LIGHT DIFFRACTION MEMBER AND DISPLAY AND BACKLIGHT MODULE HAVING THE SAME 失效
简体标题：光绕射组件及具有该光绕射组件的背光模块及显示设备 LIGHT DIFFRACTION MEMBER AND DISPLAY AND BACKLIGHT MODULE HAVING THE SAME
公开(公告)号：TW201035640A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW098108708
申请日：2009-03-18
申请人：勝華科技股份有限公司
发明人：黃國瑞 , 葉志庭
IPC分类号： G02F , G02B
CPC分类号： G02B27/42 , G02B5/0294 , G02B5/1814 , G02B5/1842 , G02B5/1866 , G02B6/0038 , G02B27/4244 , G02B27/425 , G02B27/4277 , G02F1/133606 , G02F2001/133607
摘要：一種顯示裝置,包含一顯示面板以及鄰近顯示面板的背光模組。背光模組包含用以發出光線的光源以及至少一光繞射元件,其中光繞射元件包含一第一表面、一第二表面、方位角收斂結構以及光繞射結構。第二表面相對於第一表面且此光線自第二表面進入光繞射元件並自第一表面射出。方位角收斂結構設於第二表面,用以收斂入射其上之光線的方位角。光繞射結構設於第一表面,用以使自第一表面射出之光線進行繞射並調整光線的出光角。
简体摘要：一种显示设备,包含一显示皮肤以及邻近显示皮肤的背光模块。背光模块包含用以发出光线的光源以及至少一光绕射组件,其中光绕射组件包含一第一表面、一第二表面、方位角收敛结构以及光绕射结构。第二表面相对于第一表面且此光线自第二表面进入光绕射组件并自第一表面射出。方位角收敛结构设于第二表面,用以收敛入射其上之光线的方位角。光绕射结构设于第一表面,用以使自第一表面射出之光线进行绕射并调整光线的出光角。

2. 发明专利

TW201710652A 多波段光譜分離裝置审中-公开
简体标题：多波段光谱分离设备
公开(公告)号：TW201710652A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW104129405
申请日：2015-09-04
申请人：財團法人國家實驗研究院 , NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES
发明人：施至柔 , SZE, JYH ROU , 陳柏睿 , CHEN, PO JUI , 林群富 , LIN, CHUN FU
IPC分类号： G01J3/18 , G01J3/02
CPC分类号： G02B5/1861 , G01J1/08 , G01J3/0208 , G01J3/021 , G01J3/0291 , G01J3/1804 , G02B17/008 , G02B27/1086 , G02B27/30 , G02B27/4244
摘要：一種多波段光譜分離裝置，包含第一拋物面反射鏡、複數個平面反射鏡、光柵以及第二拋物面反射鏡。第一拋物面反射鏡用以壓縮入射光訊號的發散角為準直光束；複數個平面反射鏡用以分別調整準直光束入射於光柵的入射角；光柵用以將不同波長成份的光學訊號予以分離；第二拋物面反射鏡用以聚焦不同波長成份的光束於焦平面；其中複數個平面反射鏡具有不同的放置位置與角度。
简体摘要：一种多波段光谱分离设备，包含第一抛物面反射镜、复数个平面反射镜、光栅以及第二抛物面反射镜。第一抛物面反射镜用以压缩入射光信号的发散角为准直光束；复数个平面反射镜用以分别调整准直光束入射于光栅的入射角；光栅用以将不同波长成份的光学信号予以分离；第二抛物面反射镜用以聚焦不同波长成份的光束于焦平面；其中复数个平面反射镜具有不同的放置位置与角度。

3. 发明专利

TWI550982B 可見光之即時波長修正系統有权
简体标题：可见光之实时波长修正系统
公开(公告)号：TWI550982B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW104107292
申请日：2015-03-06
申请人：智泰科技股份有限公司 , 3DFAMILY TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：范光照 , FAN, KUANG CHAO , 許智欽 , HSU, CHIH CHIN
IPC分类号： H01S5/068 , H01S5/0687
CPC分类号： H01S3/0014 , G02B27/0056 , G02B27/4244 , H01S5/0687

4. 发明专利

TW201633640A 可見光之即時波長修正系統审中-公开
简体标题：可见光之实时波长修正系统
公开(公告)号：TW201633640A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104107292
申请日：2015-03-06
申请人：智泰科技股份有限公司 , 3DFAMILY TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：范光照 , FAN, KUANG CHAO , 許智欽 , HSU, CHIH CHIN
IPC分类号： H01S5/068 , H01S5/0687
CPC分类号： H01S3/0014 , G02B27/0056 , G02B27/4244 , H01S5/0687
摘要：一種可見光之即時波長修正系統，是利用繞射光柵將分光平行光束繞射產生第零階繞射光束及第一階繞射光束。第零階繞射光束於第一聚焦透鏡之第一後焦平面處聚焦形成第一光點，以藉由第一光點的位移計算出角度偏移量，而第一階繞射光束於第二聚焦透鏡之第二後焦平面處聚焦形成第二光點，以藉由第二光點的位移計算出波長受溫度變化影響而產生的第一階繞射光束角度偏移量，進而依據角度偏移量與第一階繞射光束角度偏移量修正分光平行光束之波長，有效解決光束漂移及環境溫度變化所造成的影響，因此本系統具有結構簡單且成本低廉的優點。
简体摘要：一种可见光之实时波长修正系统，是利用绕射光栅将分光平行光束绕射产生第零阶绕射光束及第一阶绕射光束。第零阶绕射光束于第一聚焦透镜之第一后焦平面处聚焦形成第一光点，以借由第一光点的位移计算出角度偏移量，而第一阶绕射光束于第二聚焦透镜之第二后焦平面处聚焦形成第二光点，以借由第二光点的位移计算出波长受温度变化影响而产生的第一阶绕射光束角度偏移量，进而依据角度偏移量与第一阶绕射光束角度偏移量修正分光平行光束之波长，有效解决光束漂移及环境温度变化所造成的影响，因此本系统具有结构简单且成本低廉的优点。

5. 发明专利

TW200619761A 聚光片及採用該聚光片之背光模組 BACKLIGHT MODULE AND PRISM SHEET 审中-公开
简体标题：聚光片及采用该聚光片之背光模块 BACKLIGHT MODULE AND PRISM SHEET
公开(公告)号：TW200619761A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：TW093137382
申请日：2004-12-03
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：余泰成 YU, TAI-CHERNG
IPC分类号： G02F
CPC分类号： G02B6/0053 , G02B3/0031 , G02B3/0056 , G02B5/045 , G02B5/1819 , G02B27/4244 , G02B27/425
摘要：本發明提供一種背光模組，其包括一光源、一反射片、一導光板、一擴散片及一聚光片，其中，該光源置於導光板一側，該反射片、導光板、擴散片及聚光片依次放置，該聚光片包括一用以接收光線之入光面、一與該入光面相對之出光面，該出光面具有菲涅耳透鏡陣列。
简体摘要：本发明提供一种背光模块，其包括一光源、一反射片、一导光板、一扩散片及一聚光片，其中，该光源置于导光板一侧，该反射片、导光板、扩散片及聚光片依次放置，该聚光片包括一用以接收光线之入光面、一与该入光面相对之出光面，该出光面具有菲涅耳透镜数组。

6. 发明专利

TW201621301A 整合式分析裝置之陣列审中-公开
简体标题：集成式分析设备之数组
公开(公告)号：TW201621301A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104127926
申请日：2015-08-26
申请人：加州太平洋生物科學公司 , PACIFIC BIOSCIENCES OF CALIFORNIA, INC.
发明人：格羅特安妮特 , GROT, ANNETTE , 薩克森納拉維 , SAXENA, RAVI , 朗得奎斯特保羅 , LUNDQUIST, PAUL
IPC分类号： G01N21/78 , G02B27/42 , G02B5/18 , G02B5/20
CPC分类号： G01N21/6454 , G01N21/6428 , G01N21/648 , G01N21/7703 , G01N21/78 , G01N2021/6439 , G01N2021/6478 , G01N2021/7756 , G01N2021/7786 , G01N2201/068 , G01N2201/0873 , G02B5/1895 , G02B5/201 , G02B5/285 , G02B6/132 , G02B6/136 , G02B27/4238 , G02B27/4244 , G02B2006/12102 , G02B2006/12109 , H01L27/14621 , H01L27/14627 , H01L27/14685
摘要：本發明提供整合式分析裝置之陣列及該等陣列之產生方法。該等陣列在以高密度的大量高度多工之光學反應之分析中為有用的，該等高度多工之光學反應包括生化反應，諸如核酸定序反應。該等裝置允許使用諸如頻譜、振幅及時間解析度或上述各者之組合進行的光學信號之高靈敏度鑒別。該等裝置包括整合式繞射波束整形元件，該整合式繞射波束整形元件提供自該等光學反應發射的光之空間分離。
简体摘要：本发明提供集成式分析设备之数组及该等数组之产生方法。该等数组在以高密度的大量高度多任务之光学反应之分析中为有用的，该等高度多任务之光学反应包括生化反应，诸如核酸定序反应。该等设备允许使用诸如频谱、振幅及时间分辨率或上述各者之组合进行的光学信号之高灵敏度鉴别。该等设备包括集成式绕射波束整形组件，该集成式绕射波束整形组件提供自该等光学反应发射的光之空间分离。

7. 发明专利

TW201617158A 雷射振盪機構审中-公开
简体标题：激光振荡机构
公开(公告)号：TW201617158A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104131597
申请日：2015-09-24
申请人：迪思科股份有限公司 , DISCO CORPORATION
发明人：能丸圭司 , NOMARU, KEIJI
IPC分类号： B23K26/067 , B23K26/064
CPC分类号： G02B27/4244 , G02B27/4272 , H01S3/005
摘要：本發明之課題是提供一種雷射振盪機構，其可在不使裝置大型化的情形下使用繞射光學元件(DOE)來將雷射光線振盪器所振盪產生之雷射光線分歧成複數個。解決手段是雷射振盪機構，其具備振盪產生雷射光線之雷射光線振盪器、及將雷射光線振盪器所振盪產生之雷射光線分歧的分歧手段，其中分歧手段是由將該雷射光線振盪器所振盪產生之雷射光線在有效區域分歧成複數個的繞射光學元件(DOE)、及將已藉由繞射光學元件(DOE)而分岐之雷射光線之中欲排除之雷射光線從該有效區域折射而排除的體積布拉格光柵(VBG)所構成。
简体摘要：本发明之课题是提供一种激光振荡机构，其可在不使设备大型化的情形下使用绕射光学组件(DOE)来将激光光线振荡器所振荡产生之激光光线分歧成复数个。解决手段是激光振荡机构，其具备振荡产生激光光线之激光光线振荡器、及将激光光线振荡器所振荡产生之激光光线分歧的分歧手段，其中分歧手段是由将该激光光线振荡器所振荡产生之激光光线在有效区域分歧成复数个的绕射光学组件(DOE)、及将已借由绕射光学组件(DOE)而分岐之激光光线之中欲排除之激光光线从该有效区域折射而排除的体积布拉格光栅(VBG)所构成。

8. 发明专利

TW201415614A 精巧型光學模組及其製造方法审中-公开
简体标题：精巧型光学模块及其制造方法
公开(公告)号：TW201415614A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：TW102123619
申请日：2013-07-02
申请人：海特根微光學公司 , HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD.
发明人：盧德曼哈馬特 , RUDMANN, HARTMUT , 羅西馬克思 , ROSSI, MARKUS
IPC分类号： H01L27/146 , G02B6/12 , G02B5/18
CPC分类号： G02B7/021 , G02B5/10 , G02B7/003 , G02B17/023 , G02B27/4244 , H01L27/14625 , H01L31/02325
摘要：一種光學模組(1)包含：一第一構件(O)，其具有一實質平的第一表面(F1)，其中和該第一表面(F1)正交的方向被稱為垂直方向；一第二構件(P)，其具有一面向該第一表面(F1)的第二表面(F2)，其係實質平的且被實質平行於該第一表面(F1)對準；一第三構件(S)，其被包含在該第一構件(O)中或被包含在該第二構件(P)中或不同於該第一及第二構件且被設置在它們之間，其包含一開口(4)；及一繞射光柵(G)；其中該第一構件(O)包含一或多個光可穿透的透明部分。該繞射光柵(G)可在一個處理中和該第一構件(O)或該第二構件(P)一其被製造。整個模組可在晶圓層級(wafer-level)被製造。
简体摘要：一种光学模块(1)包含：一第一构件(O)，其具有一实质平的第一表面(F1)，其中和该第一表面(F1)正交的方向被称为垂直方向；一第二构件(P)，其具有一面向该第一表面(F1)的第二表面(F2)，其系实质平的且被实质平行于该第一表面(F1)对准；一第三构件(S)，其被包含在该第一构件(O)中或被包含在该第二构件(P)中或不同于该第一及第二构件且被设置在它们之间，其包含一开口(4)；及一绕射光栅(G)；其中该第一构件(O)包含一或多个光可穿透的透明部分。该绕射光栅(G)可在一个处理中和该第一构件(O)或该第二构件(P)一其被制造。整个模块可在晶圆层级(wafer-level)被制造。

9. 发明专利

TWI371664B 用於選擇特定繞射階之光線的裝置 DEVICE FOR THE SELECTION OF LIGHT OF A CERTAIN DIFFRACTION ORDER 失效
简体标题：用于选择特定绕射阶之光线的设备 DEVICE FOR THE SELECTION OF LIGHT OF A CERTAIN DIFFRACTION ORDER
公开(公告)号：TWI371664B
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW096123183
申请日：2007-06-26
申请人：喜瑞爾工業公司
发明人：哈伯勒瑞福
IPC分类号： G03H , G02B
CPC分类号： G03H1/22 , G02B5/1814 , G02B5/32 , G02B27/4244 , G02B27/4255 , G02B27/4261 , G03H1/2205 , G03H1/2249 , G03H1/2294
摘要：本案為一種用於選擇至少一繞射階之光線的裝置，係包含一個具有全像圖的光調變裝置(2)。此一光調變裝置(2)會發射出調變後的光線，而此一光線包含了一道不受此一全像圖所偏折的光束與至少一道繞射的光束。此裝置還包含至少一個可控制之角度選擇光學元件(3)以用來選擇繞射階的光線。
简体摘要：本案为一种用于选择至少一绕射阶之光线的设备，系包含一个具有全像图的光调制设备(2)。此一光调制设备(2)会发射出调制后的光线，而此一光线包含了一道不受此一全像图所偏折的光束与至少一道绕射的光束。此设备还包含至少一个可控制之角度选择光学组件(3)以用来选择绕射阶的光线。

10. 发明专利

TW200821781A 光繞射順序之選擇裝置失效
简体标题：光绕射顺序之选择设备
公开(公告)号：TW200821781A
公开(公告)日：2008-05-16
申请号：TW096123183
申请日：2007-06-26
申请人：喜瑞爾工業公司 SEEREAL TECHNOLOGIES S. A.
发明人：哈伯勒瑞福 HAUBLER, RALF
IPC分类号： G03H , G02B
CPC分类号： G03H1/22 , G02B5/1814 , G02B5/32 , G02B27/4244 , G02B27/4255 , G02B27/4261 , G03H1/2205 , G03H1/2249 , G03H1/2294
摘要：本案為一種光繞射順序之選擇裝置,係包含一個具有全像影像的光調變裝置(2)。此一光調變裝置(2)會發射出調變後的光線,而此一光線包含了一道不受此一全像影像所影響而折射的光束與至少一道繞射過的光束。此裝置還包含至少一個可控制之角度選擇光學元件(3)以用來選擇繞射階的光。
简体摘要：本案为一种光绕射顺序之选择设备,系包含一个具有全像影像的光调制设备(2)。此一光调制设备(2)会发射出调制后的光线,而此一光线包含了一道不受此一全像影像所影响而折射的光束与至少一道绕射过的光束。此设备还包含至少一个可控制之角度选择光学组件(3)以用来选择绕射阶的光。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式