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1. 发明专利

TWI618592B 透鏡及安裝此透鏡的雷射加工裝置有权
简体标题：透镜及安装此透镜的激光加工设备
公开(公告)号：TWI618592B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW101116318
申请日：2012-05-08
申请人： V科技股份有限公司 , V TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：梶山康一 , KAJIYAMA, KOICHI , 畑中誠 , HATANAKA, MAKOTO
IPC分类号： B23K26/073 , G02B3/00
CPC分类号： G02B3/06 , B23K26/0648 , B23K26/0665 , B23K26/0734 , B23K26/388 , B23K26/389 , C03B33/04 , C03B33/093 , G02B27/0927 , G02B27/0966 , G02B2003/0093

2. 发明专利

TW201606416A 投影裝置审中-公开
简体标题：投影设备
公开(公告)号：TW201606416A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW103126795
申请日：2014-08-05
申请人：中強光電股份有限公司 , CORETRONIC CORPORATION
发明人：鍾文杰 , CHUNG, WEN CHIEH , 林孟萱 , LIN, MENG HSUAN
IPC分类号： G03B21/14 , G03B21/00
CPC分类号： G03B21/208 , G02B27/0966 , G02B27/102 , G02B27/149 , G03B21/005 , G03B21/145 , G03B21/2013 , G03B21/2033 , G03B21/2066
摘要：一種投影裝置包含至少一光源、合光組合、光形調整元件、照明組合以及成像組合。光源用以發射至少一光束。合光組合設置於光束的行進路徑上用以將光束轉換成照明光束。光形調整元件設置於合光組合內且位於光束的行進路徑上用以調整光束的光形，其中光束的光形經由光形調整元件調整後呈現橢圓形。照明組合設置於照明光束的行進路徑上用以將照明光束轉換成影像光束。成像組合設置於影像光束的行進路徑上用以投射出影像光束。
简体摘要：一种投影设备包含至少一光源、合光组合、光形调整组件、照明组合以及成像组合。光源用以发射至少一光束。合光组合设置于光束的行进路径上用以将光束转换成照明光束。光形调整组件设置于合光组合内且位于光束的行进路径上用以调整光束的光形，其中光束的光形经由光形调整组件调整后呈现椭圆形。照明组合设置于照明光束的行进路径上用以将照明光束转换成影像光束。成像组合设置于影像光束的行进路径上用以投射出影像光束。

3. 发明专利

TW201602640A 光照射裝置及描繪裝置审中-公开
简体标题：光照射设备及描绘设备
公开(公告)号：TW201602640A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104119740
申请日：2015-06-18
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：古谷祥雄 , FURUYA, YOSHIO , 小久保正彥 , KOKUBO, MASAHIKO
IPC分类号： G02B27/09 , H01L21/268 , B23K26/06
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B19/0052 , G02B27/0905 , G02B27/0911 , G02B27/0927 , G02B27/0966 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70091
摘要：來自光源部4之雷射光係沿著照射光學系統5之光軸J1朝照射面320導引。照射光學系統5之分割透鏡部62，具有將入射之光分割之複數個要素透鏡，光程長度差生成部61具有複數個透光部，該透光部具備互異之光程長度。通過複數個要素透鏡之複數條光束係分別入射於複數個透光部。聚光部63係使複數條光束之照射區域50重疊於照射面上。於沿要素透鏡之排列方向觀察之情況下，複數條光束係作為平行光入射於聚光部。聚光部具備使平行光朝垂直於該排列方向之Y方向發散之發散透鏡631，及使來自發散透鏡之光聚光於照射面上之收束透鏡633。藉此，可容易實現將聚光部於Y方向上之焦點距離縮短之設計，可抑制照射面上之複數條光束之聚光位置之偏移。
简体摘要：来自光源部4之激光光系沿着照射光学系统5之光轴J1朝照射面320导引。照射光学系统5之分割透镜部62，具有将入射之光分割之复数个要素透镜，光程长度差生成部61具有复数个透光部，该透光部具备互异之光程长度。通过复数个要素透镜之复数条光束系分别入射于复数个透光部。聚光部63系使复数条光束之照射区域50重叠于照射面上。于沿要素透镜之排列方向观察之情况下，复数条光束系作为平行光入射于聚光部。聚光部具备使平行光朝垂直于该排列方向之Y方向发散之发散透镜631，及使来自发散透镜之光聚光于照射面上之收束透镜633。借此，可容易实现将聚光部于Y方向上之焦点距离缩短之设计，可抑制照射面上之复数条光束之聚光位置之偏移。

4. 发明专利

TW201350237A 雷射加工裝置及雷射加工方法审中-公开
简体标题：激光加工设备及激光加工方法
公开(公告)号：TW201350237A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102102465
申请日：2013-01-23
申请人：住友重機械工業股份有限公司 , SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：首藤和正 , SHUDO, KAZUMASA
IPC分类号： B23K26/04
CPC分类号： B23K26/0652 , B23K26/0661 , B23K26/073 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , G02B27/0966 , G02B27/0972 , H01L21/268
摘要：〔課題〕提供一種能夠降低工件距離的變動對加工品質帶來之影響之雷射加工裝置。〔解決手段〕從雷射光源射出之雷射光束射入到均一化光學系統。均一化光學系統，係使雷射光束射入到加工對象物上在第1方向上較長之長尺寸的區域。在均一化光學系統與加工對象物之間的雷射光束的路徑上，配置有傾斜光學元件。傾斜光學元件，係形成相對於加工對象物的表面向與第1方向正交之方向傾斜之折射率界面。
简体摘要：〔课题〕提供一种能够降低工件距离的变动对加工品质带来之影响之激光加工设备。〔解决手段〕从激光光源射出之激光光束射入到均一化光学系统。均一化光学系统，系使激光光束射入到加工对象物上在第1方向上较长之长尺寸的区域。在均一化光学系统与加工对象物之间的激光光束的路径上，配置有倾斜光学组件。倾斜光学组件，系形成相对于加工对象物的表面向与第1方向正交之方向倾斜之折射率界面。

5. 发明专利

TWI356206B 光束均勻器，雷射照射裝置及製造半導體裝置之方法 BEAM HOMOGENIZER, LASER IRRADIATION APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE 有权
简体标题：光束均匀器，激光照射设备及制造半导体设备之方法 BEAM HOMOGENIZER, LASER IRRADIATION APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
公开(公告)号：TWI356206B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：TW093110371
申请日：2004-04-14
申请人：半導體能源研究所股份有限公司
发明人：田中幸一郎 , 森若智昭
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B27/0966 , G02B6/4204 , G02B27/0994 , H01S3/005
摘要：本發明提供光束均勻器，可形成在長軸方向有均勻能量分布的矩形光束點，而不用需要以高準確度製造的光學透鏡。此外，本發明提供雷射照射裝置，可照射在長軸方向有均勻能量分布的雷射光束。再者，本發明提供製造半導體裝置的方法，可提高基底表面晶性並以高作業特性製造TFT。
光束均勻器在表面上形成光束點，照入縱橫比為10以上(最好100以上)的矩形點，包括在長軸方向使矩形光束點能量分布均勻的光波導。
简体摘要：本发明提供光束均匀器，可形成在长轴方向有均匀能量分布的矩形光束点，而不用需要以高准确度制造的光学透镜。此外，本发明提供激光照射设备，可照射在长轴方向有均匀能量分布的激光光束。再者，本发明提供制造半导体设备的方法，可提高基底表面晶性并以高作业特性制造TFT。光束均匀器在表面上形成光束点，照入纵横比为10以上(最好100以上)的矩形点，包括在长轴方向使矩形光束点能量分布均匀的光波导。

6. 发明专利

TWI305504B 可調整之雷射光束傳遞系統及其形成方法 AN ADJUSTABLE LASER BEAM DELIVERY SYSTEM AND METHOD FOR FORMING THE SAME 有权
简体标题：可调整之激光光束传递系统及其形成方法 AN ADJUSTABLE LASER BEAM DELIVERY SYSTEM AND METHOD FOR FORMING THE SAME
公开(公告)号：TWI305504B
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：TW095143851
申请日：2006-11-27
申请人： QMC股份有限公司 QMC CO., LTD. , 柳炳韶 BENG SO RYU
发明人：柳炳韶 BENG SO RYU
IPC分类号： B23K
CPC分类号： B23K26/38 , B23K26/073 , G02B27/0911 , G02B27/0966
摘要：本發明係關於一種可調整之光束傳遞系統(beam delivery system, BDS),其雷射處理參數可快速改變而不需要更換光學元件。
本發明提供一種用於雷射切割之可調整光束傳遞系統之形成方法,此方法包括下列步驟:產生原始雷射光束;以球面凹透鏡發散此原始雷射光束;分別由水平方向及垂直方向修正此發散之雷射光束,其中此發散雷射光束之水平方向以一水平歪像凸透鏡修正以及此發散雷射光束之垂直方向以一垂直歪像凸透鏡修正;藉由變化球面凸透鏡及垂直歪像凸透鏡間之距離以改變聚焦透鏡的數値孔徑,並藉由變化球面凸透鏡及水平歪像凸透鏡間之距離以改變一聚焦照射點之長度及寬度;以數値孔徑的變化來調整焦點之寬度以及焦點之解析度,以及變化聚焦照射點的長度及寬度來調整輻射照度同樣地,本發明提供一種用於雷射切割之可調整光束傳遞系統,,此系統包括:一球面凹透鏡,用以發散來自一雷射之一原始雷射光束;一水平歪像凸透鏡,藉由修正雷射光束的水平發散以調整一聚焦照射點的長度及寬度;一垂直歪像凸透鏡,藉由修正雷射光束的垂直發散以調整數値孔徑;及一聚焦透鏡,用以將分別經水平歪像凸透鏡及垂直歪像凸透鏡修正的雷射光束聚焦。
简体摘要：本发明系关于一种可调整之光束传递系统(beam delivery system, BDS),其激光处理参数可快速改变而不需要更换光学组件。本发明提供一种用于激光切割之可调整光束传递系统之形成方法,此方法包括下列步骤:产生原始激光光束;以球面凹透镜发散此原始激光光束;分别由水平方向及垂直方向修正此发散之激光光束,其中此发散激光光束之水平方向以一水平歪像凸透镜修正以及此发散激光光束之垂直方向以一垂直歪像凸透镜修正;借由变化球面凸透镜及垂直歪像凸透镜间之距离以改变聚焦透镜的数値孔径,并借由变化球面凸透镜及水平歪像凸透镜间之距离以改变一聚焦照射点之长度及宽度;以数値孔径的变化来调整焦点之宽度以及焦点之分辨率,以及变化聚焦照射点的长度及宽度来调整辐射照度同样地,本发明提供一种用于激光切割之可调整光束传递系统,,此系统包括:一球面凹透镜,用以发散来自一激光之一原始激光光束;一水平歪像凸透镜,借由修正激光光束的水平发散以调整一聚焦照射点的长度及宽度;一垂直歪像凸透镜,借由修正激光光束的垂直发散以调整数値孔径;及一聚焦透镜,用以将分别经水平歪像凸透镜及垂直歪像凸透镜修正的激光光束聚焦。

7. 发明专利

TW200903031A 可變散光擴束器 VARIO-ASTIGMATIC BEAM EXPANDER 审中-公开
简体标题：可变散光扩束器 VARIO-ASTIGMATIC BEAM EXPANDER
公开(公告)号：TW200903031A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097120182
申请日：2008-05-30
申请人：伊雷克托科學工業股份有限公司 ELECTRO SCIENTIFIC INDUSTRIES, INC.
发明人：里歐鮑德溫 BALDWIN, LEO
IPC分类号： G02B , H01S
CPC分类号： G02B27/0068 , G02B27/0911 , G02B27/0966 , H01S3/005
摘要：本發明提供一種可變散光擴束器(200),其能夠藉由讓該光束通過球形透鏡(202)與圓柱形透鏡(206、208)之組合來準直一散光光束,或是在一妥適準直的射束中誘發散光,藉以可連續性地調整散光的程度及該散光軸兩者。該擴束器可應用在工業雷射處理系統之中。
简体摘要：本发明提供一种可变散光扩束器(200),其能够借由让该光束通过球形透镜(202)与圆柱形透镜(206、208)之组合来准直一散光光束,或是在一妥适准直的射束中诱发散光,借以可连续性地调整散光的程度及该散光轴两者。该扩束器可应用在工业激光处理系统之中。

8. 发明专利

TWI260701B 雷射退火方法及雷射退火裝置 LASER ANNEALING APPARATUS AND ANNEALING METHOD OF SEMICONDUCTOR THIN FILM USING THE SAME 有权
简体标题：激光退火方法及激光退火设备 LASER ANNEALING APPARATUS AND ANNEALING METHOD OF SEMICONDUCTOR THIN FILM USING THE SAME
公开(公告)号：TWI260701B
公开(公告)日：2006-08-21
申请号：TW093132028
申请日：2004-10-21
申请人：日立顯示器股份有限公司 HITACHI DISPLAYS, LTD.
发明人：本鄉幹雄 HONGO, MIKIO , 矢崎秋夫 YAZAKI, AKIO , 波多野睦子
IPC分类号： H01L , H01S , G02F
CPC分类号： B23K26/0738 , B23K26/0853 , G02B27/0927 , G02B27/0966 , H01L21/02678 , H01L21/02683 , H01L21/02691 , H01L21/2026 , H01L27/1285 , H01L27/1296
摘要：本發明係使藉由調變器進行時間調變，並藉由光束整形器整形為細長形狀之雷射光，於插入至光束整形器與基板間之影像旋轉器之光軸中心旋轉，藉此於基板上使細長形狀之雷射光長邊方向於光軸附近旋轉，而於基板上之多個方向退火時，使整形為細長形狀之雷射光於基板上旋轉，載置基板之載置台僅於XY兩方向移動。藉此，可使被時間調變且整形為細長形狀之連續振盪雷射光，不需旋轉基板而可高速掃描並進行半導體膜之退火。
简体摘要：本发明系使借由调制器进行时间调制，并借由光束整形器整形为细长形状之激光光，于插入至光束整形器与基板间之影像旋转器之光轴中心旋转，借此于基板上使细长形状之激光光长边方向于光轴附近旋转，而于基板上之多个方向退火时，使整形为细长形状之激光光于基板上旋转，载置基板之载置台仅于XY两方向移动。借此，可使被时间调制且整形为细长形状之连续振荡激光光，不需旋转基板而可高速扫描并进行半导体膜之退火。

9. 发明专利

TWI465775B 照明系統有权
简体标题：照明系统
公开(公告)号：TWI465775B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW097117481
申请日：2008-05-12
申请人：卡爾塞斯雷射光學有限公司 , CARL ZEISS LASER OPTICS GMBH
发明人：拉斐爾埃格爾 , RAFAEL EGGER
IPC分类号： G02B27/48
CPC分类号： B23K26/0738 , G02B13/08 , G02B27/0966

10. 发明专利

TWI404683B 非平坦材料之劃線有权
简体标题：非平坦材料之划线
公开(公告)号：TWI404683B
公开(公告)日：2013-08-11
申请号：TW098117569
申请日：2009-05-26
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：亞巴莫夫安那托里唯克 , ABRAMOV, ANATOLI ANATOLYEVICH , 歐忍史克萊皆卡 , UKRAINCZYK, LIJERKA , 吳凱 , WU, QI , 周乃育 , ZHOU, NAIYUE
IPC分类号： C03B33/02 , B23K26/06
CPC分类号： B23K26/0736 , C03B33/0215 , C03B33/0222 , C03B33/023 , C03B33/093 , G02B27/0966 , Y10T225/12 , Y10T225/321

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