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1. 发明专利

TW328109B 氣流爐失效
简体标题：气流炉
公开(公告)号：TW328109B
公开(公告)日：1998-03-11
申请号：TW085116320
申请日：1996-12-31
申请人：日本燃燒爐工業股份有限公司
发明人：松尾護
IPC分类号： F27D
CPC分类号： F27B9/10 , C21D1/767 , F27B9/3011 , F27B9/3044 , F27B9/36 , F27D17/004 , F27D2003/124 , F27D2017/007
摘要：本發明係有關於使用低動力以產生高溫的強循環流之氣流爐，該氣流爐備有用來加熱爐外的循環氣體之熱源3A、3B、及用來將爐內18之燃燒氣體取出至爐外並再度由別的地方回流回爐內18之爐外循環通路4。且，該爐外循環通路4係具有：分別位於加熱室2的循環氣流出入口9A、9B處之蓄熱體5A、5B，循環風扇6，令循環風扇6的吸入口側及吐出口側選擇性交替地連通於蓄熱體5A、5B中之一之流路切換裝置7，及藉由進行除熱或稀釋以改變兩蓄熱體5A、5B間的區間之氣流的氣體性狀之除熱裝置8；藉由流路切換裝置7以在內爐內18形成氣流的流動方向為周期性地反轉之高溫強循環流10。
简体摘要：本发明系有关于使用低动力以产生高温的强循环流之气流炉，该气流炉备有用来加热炉外的循环气体之热源3A、3B、及用来将炉内18之燃烧气体取出至炉外并再度由别的地方回流回炉内18之炉外循环通路4。且，该炉外循环通路4系具有：分别位于加热室2的循环气流出入口9A、9B处之蓄热体5A、5B，循环风扇6，令循环风扇6的吸入口侧及吐出口侧选择性交替地连通于蓄热体5A、5B中之一之流路切换设备7，及借由进行除热或稀释以改变两蓄热体5A、5B间的区间之气流的气体性状之除热设备8；借由流路切换设备7以在内炉内18形成气流的流动方向为周期性地反转之高温强循环流10。

2. 发明专利

TW200511374A 製造電漿顯示面板的方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL 失效
简体标题：制造等离子显示皮肤的方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL
公开(公告)号：TW200511374A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：TW093124434
申请日：2004-08-13
申请人：富士通日立等離子顯示器股份有限公司 FUJITSU HITACHI PLASMA DISPLAY LIMITED
发明人：木素成 KIFUNE, MOTONARI , 岡野秀樹 OKANO, HIDEKI
IPC分类号： H01L , H01J
CPC分类号： H01J9/241 , F27B9/10 , F27B9/2407 , F27B9/3011 , H01J9/39 , H01J9/48
摘要：一種用以製造一電漿顯示器面板(PDP)的方法，包含：攜帶一製造中的PDP進入一具有複數個燃燒區之裝置中；以及在循環的熱氣經供應入該個別燃燒區之下進行一燃燒步驟及／或一乾燥步驟。於該燃燒步驟及／或乾燥步驟中產生的有機組份係經氧化地分解在一用於循環該熱氣之路徑中。
简体摘要：一种用以制造一等离子显示器皮肤(PDP)的方法，包含：携带一制造中的PDP进入一具有复数个燃烧区之设备中；以及在循环的热气经供应入该个别燃烧区之下进行一燃烧步骤及／或一干燥步骤。于该燃烧步骤及／或干燥步骤中产生的有机组份系经氧化地分解在一用于循环该热气之路径中。

3. 发明专利

TW581816B 直接還原法及回轉爐床爐有权
简体标题：直接还原法及回转炉床炉
公开(公告)号：TW581816B
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：TW089108189
申请日：2000-04-29
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：西村真 NISHIMURA, MAKOTO , 田中英年 TANAKA, HIDETOSHI
IPC分类号： C22B , C21B
CPC分类号： C21B13/10 , C21B13/105 , C22B1/216 , C22B5/10 , F27B9/16 , F27B9/3011 , F27B2009/3055 , F27B2009/3607 , F27B2009/3646 , F27D2099/0048 , Y02P10/136
摘要：一種直接還原法是將含金屬氧化物和碳材的原料供給回轉爐床爐後，在把從所述原料產生的全部可燃性氣體量的70－80%的可燃性氣體產生為止期間作為還原初期，在該期間對於所述原料附近的氣氛通過設置顯示強攪拌作用的噴燃器加熱和還原所述原料後，在其後的還原後期，對於所述原料的附近的氣氛設置顯示弱攪拌作用的噴燃器加熱和還原所述原料製造金屬，按該還原法能提高生產性，同時也可實現降低原單位的燃燒的使用量。
简体摘要：一种直接还原法是将含金属氧化物和碳材的原料供给回转炉床炉后，在把从所述原料产生的全部可燃性气体量的70－80%的可燃性气体产生为止期间作为还原初期，在该期间对于所述原料附近的气氛通过设置显示强搅拌作用的喷燃器加热和还原所述原料后，在其后的还原后期，对于所述原料的附近的气氛设置显示弱搅拌作用的喷燃器加热和还原所述原料制造金属，按该还原法能提高生产性，同时也可实现降低原单位的燃烧的使用量。

4. 发明专利

TW201702387A 鐵鋼製品的加熱裝置及鐵鋼製品的加熱方法审中-公开
简体标题：铁钢制品的加热设备及铁钢制品的加热方法
公开(公告)号：TW201702387A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW105109402
申请日：2016-03-25
申请人：大陽日酸股份有限公司 , TAIYO NIPPON SANSO CORPORATION , 日新製鋼股份有限公司 , NISSHIN STEEL CO., LTD.
发明人：山本康之 , YAMAMOTO, YASUYUKI , 飯野公夫 , IINO, KIMIO , 古賀慎一 , KOGA, SHINICHI
IPC分类号： C21D1/52 , C21D9/56
CPC分类号： C21D9/56 , C21D1/52 , C23C2/02 , F27B9/10 , F27B9/12 , F27B9/20 , F27B9/28 , F27B9/3011 , F27B9/36 , F27B2009/3638 , F27D7/02 , F27D17/00 , F27D17/001 , F27D17/004
摘要：本發明為一種鐵鋼製品的加熱裝置，其係具備：預熱室，用以預熱前述鐵鋼製品；加熱室，連結於前述預熱室且用以將前述鐵鋼製品加熱至期望溫度；複數支燃燒器，於前述加熱室中以從上下方夾持前述鐵鋼製品之方式所配置；以及將包含前述燃燒器中的燃燒氣體之排氣流入於前述預熱室內之手段；前述燃燒器係藉由燃料與氧濃度80vol%以上的氧化劑來形成火焰，並具有：藉由前述火焰將附著於前述鐵鋼製品的表面之油脂吹散之功能；前述預熱室，構成為：以藉由前述手段所流入之排氣，進行前述鐵鋼製品的預熱之構造。
简体摘要：本发明为一种铁钢制品的加热设备，其系具备：预热室，用以预热前述铁钢制品；加热室，链接于前述预热室且用以将前述铁钢制品加热至期望温度；复数支燃烧器，于前述加热室中以从上下方夹持前述铁钢制品之方式所配置；以及将包含前述燃烧器中的燃烧气体之排气流入于前述预热室内之手段；前述燃烧器系借由燃料与氧浓度80vol%以上的氧化剂来形成火焰，并具有：借由前述火焰将附着于前述铁钢制品的表面之油脂吹散之功能；前述预热室，构成为：以借由前述手段所流入之排气，进行前述铁钢制品的预热之构造。

5. 发明专利

TWI272644B 製造電漿顯示面板的方法及裝置 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL 失效
简体标题：制造等离子显示皮肤的方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PLASMA DISPLAY PANEL
公开(公告)号：TWI272644B
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW093124434
申请日：2004-08-13
申请人：富士通日立等離子顯示器股份有限公司 FUJITSU HITACHI PLASMA DISPLAY LIMITED
发明人：木素成 KIFUNE, MOTONARI , 岡野秀樹 OKANO, HIDEKI
IPC分类号： H01L , H01J
CPC分类号： H01J9/241 , F27B9/10 , F27B9/2407 , F27B9/3011 , H01J9/39 , H01J9/48
摘要：一種用以製造一電漿顯示器面板(PDP)的方法，包含：攜帶一製造中的PDP進入一具有複數個燃燒區之裝置中；以及在循環的熱氣經供應入該個別燃燒區之下進行一燃燒步驟及/或一乾燥步驟。於該燃燒步驟及/或乾燥步驟中產生的有機組份係經氧化地分解在一用於循環該熱氣之路徑中。
简体摘要：一种用以制造一等离子显示器皮肤(PDP)的方法，包含：携带一制造中的PDP进入一具有复数个燃烧区之设备中；以及在循环的热气经供应入该个别燃烧区之下进行一燃烧步骤及/或一干燥步骤。于该燃烧步骤及/或干燥步骤中产生的有机组份系经氧化地分解在一用于循环该热气之路径中。

6. 发明专利

TW509772B 淨化室失效
简体标题：净化室
公开(公告)号：TW509772B
公开(公告)日：2002-11-11
申请号：TW090117371
申请日：2001-07-16
申请人：哈潑國際公司
发明人：布魯斯多佛 , 卡爾威德 , 愛德華麥柯米克
IPC分类号： F24F , F27B
CPC分类号： F27B9/10 , F24F9/00 , F24F2011/0004 , F27B9/3011 , F27D2001/1875
摘要：一種提供經控制氣體以處理材料之淨化室，其包含一外殼，可使待處理之材料通過該外殼，並且可以受到一淨化氣體之交叉流之淨化，其中該淨化氣體係經由複數個沿著外殼長度配置之注入口及排出口而進入及排出於該腔室。排出之氣體係可以再循環使用，並且可以新鮮氣體混合而再重新進入淨化室。實務上，待處理之材料係可以輸送通過腔室，同時包圍該材料之氣體係連續地更換。橫跨該腔室寬度之擋葉門，係沿著待處理材料之移動路徑來配置，以導引該淨化氣體之交叉流進入，並且防止不需要之氣體進入。
简体摘要：一种提供经控制气体以处理材料之净化室，其包含一外壳，可使待处理之材料通过该外壳，并且可以受到一净化气体之交叉流之净化，其中该净化气体系经由复数个沿着外壳长度配置之注入口及排出口而进入及排出于该腔室。排出之气体系可以再循环使用，并且可以新鲜气体混合而再重新进入净化室。实务上，待处理之材料系可以输送通过腔室，同时包围该材料之气体系连续地更换。横跨该腔室宽度之挡也门，系沿着待处理材料之移动路径来配置，以导引该净化气体之交叉流进入，并且防止不需要之气体进入。

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