会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 著色硬化性組成物、彩色濾光片及其製法 COLORED CURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER AND PRODUCTION METHOD THEREOF
    • 着色硬化性组成物、彩色滤光片及其制法 COLORED CURABLE COMPOSITION, COLOR FILTER AND PRODUCTION METHOD THEREOF
    • TW200617592A
    • 2006-06-01
    • TW094125999
    • 2005-08-01
    • 富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
    • 瀨戶信夫 SETO, NOBUO水川裕樹 MIZUKAWA, YUKI藤森亨 FUJIMORI, TORU
    • G03FC09BG02B
    • G03F7/0007C09B47/063C09B47/065C09B47/0675C09B47/0678
    • 本發明係為一種含有以下述一般式(C1)所代表化合物、或含有一在分子內具有至少一個以下述一般式(I)所代表的基之四系色素之著色硬化性組成物,以及使用它之彩色濾光片、及其製造方法。094125999-p01.bmp094125999-p02.bmp〔RC1:鹵素原子、脂肪族基、芳基、雜環基、氰基、羧基、胺甲醯基、脂肪族氧羰基、芳氧羰基、醯基、羥基、脂肪族氧基、芳氧基等;ZC1:和碳原子一起形成6員環所需要的非金屬原子群;M:2個氫原子、2價金屬原子、2價金屬氧化物、2價金屬氫氧化物、或2價金屬氯化物;cm=0~2;cn=0、1~5的整數;cr1、cr2、cr3、cr4=0、1(cr1+cr2+cr3+cr4≧1);L^1:伸烷基;A^1、A^2:-O-、-C(=O)-、-OC(–O)-、-C(=O)O-、-N(R2)C(=O)-、-C(=O)N(R^2)-、-N(R^2)C(=O)-、-OC(=O)N(R^2)-、N(R^2@e P!)C(=O)N(R^3)-、-N(R^2)SO2-、-SO2N(R^2)-、或-SO2-;L^2:伸烷基、伸芳烷基、或伸芳基;n:1~3之整數;m:0~3 整數;R^1:氫原子、烷基、芳基、或雜環基;R^2及R^3:氫原子、烷基、芳基、或雜環基〕。
    • 本发明系为一种含有以下述一般式(C1)所代表化合物、或含有一在分子内具有至少一个以下述一般式(I)所代表的基之四系色素之着色硬化性组成物,以及使用它之彩色滤光片、及其制造方法。094125999-p01.bmp094125999-p02.bmp〔RC1:卤素原子、脂肪族基、芳基、杂环基、氰基、羧基、胺甲酰基、脂肪族氧羰基、芳氧羰基、酰基、羟基、脂肪族氧基、芳氧基等;ZC1:和碳原子一起形成6员环所需要的非金属原子群;M:2个氢原子、2价金属原子、2价金属氧化物、2价金属氢氧化物、或2价金属氯化物;cm=0~2;cn=0、1~5的整数;cr1、cr2、cr3、cr4=0、1(cr1+cr2+cr3+cr4≧1);L^1:伸烷基;A^1、A^2:-O-、-C(=O)-、-OC(–O)-、-C(=O)O-、-N(R2)C(=O)-、-C(=O)N(R^2)-、-N(R^2)C(=O)-、-OC(=O)N(R^2)-、N(R^2@e P!)C(=O)N(R^3)-、-N(R^2)SO2-、-SO2N(R^2)-、或-SO2-;L^2:伸烷基、伸芳烷基、或伸芳基;n:1~3之整数;m:0~3 整数;R^1:氢原子、烷基、芳基、或杂环基;R^2及R^3:氢原子、烷基、芳基、或杂环基〕。
    • 5. 发明专利
    • 酞青類錯合物
    • 酞青类错合物
    • TW201643222A
    • 2016-12-16
    • TW105104831
    • 2016-02-19
    • 迪睿合股份有限公司DEXERIALS CORPORATION
    • 岩田亮介IWATA, RYOSUKE石井康久ISHII, YASUHISA水野幹久MIZUNO, MIKIHISA
    • C09B47/08C09B47/32
    • C09B47/0673C07D487/22C07F1/08C07F3/06C09B47/063C09B47/0675C09B47/0678C09B47/12C09B47/20C09B47/24
    • 本發明提供可藉由塗佈於金屬面,使(i)對於金屬的密著性、及(ii)耐久性提高的酞青類錯合物。所述酞青類錯合物的特徵在於以下述通式(1)表示。 [化1]通式(1)   所述通式(1)中的M是Cu、Fe、Ti、V、Ni、Pd、Pt、Pb、Si、Bi、Cd、La、Tb、Ce、Be、Mg、Co、Ru、Mn、Cr、Mo、Sn及Zn的任意者,可存在亦可不存在, 所述通式(1)中的R1 ~R4 在酞青部位存在一個以上即可,包含下述通式群組(A)中的通式的任意者所表示的離子,可分別相同亦可不同, [化2]所述通式群組(A)中的R5 ~R7 是氫或烴基,可分別相同亦可不同, 所述R1 ~R4 進一步包含下述通式群組(B)中的通式的任意者所表示的抗衡離子, [化3]所述通式群組(B)中的X是SO3- 、COO- 、PO3 H- 、PO32- 、N+ R8 R9 R10 、PhN+ R8 R9 R10 所表示的離子、下述通式(2)所表示的離子、及下述結構式(1)所表示的離子的任意者, [化4]通式(2)   [化5]結構式(1)   所述通式群組(B)、N+ R8 R9 R10 、PhN+ R8 R9 R10 及通式(2)中的R8 ~R10 是氫或烴基,可分別相同亦可不同。
    • 本发明提供可借由涂布于金属面,使(i)对于金属的密着性、及(ii)耐久性提高的酞青类错合物。所述酞青类错合物的特征在于以下述通式(1)表示。 [化1]通式(1)   所述通式(1)中的M是Cu、Fe、Ti、V、Ni、Pd、Pt、Pb、Si、Bi、Cd、La、Tb、Ce、Be、Mg、Co、Ru、Mn、Cr、Mo、Sn及Zn的任意者,可存在亦可不存在, 所述通式(1)中的R1 ~R4 在酞青部位存在一个以上即可,包含下述通式群组(A)中的通式的任意者所表示的离子,可分别相同亦可不同, [化2]所述通式群组(A)中的R5 ~R7 是氢或烃基,可分别相同亦可不同, 所述R1 ~R4 进一步包含下述通式群组(B)中的通式的任意者所表示的抗衡离子, [化3]所述通式群组(B)中的X是SO3- 、COO- 、PO3 H- 、PO32- 、N+ R8 R9 R10 、PhN+ R8 R9 R10 所表示的离子、下述通式(2)所表示的离子、及下述结构式(1)所表示的离子的任意者, [化4]通式(2)   [化5]结构式(1)   所述通式群组(B)、N+ R8 R9 R10 、PhN+ R8 R9 R10 及通式(2)中的R8 ~R10 是氢或烃基,可分别相同亦可不同。