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1. 发明专利

TW201734143A 偏光元件及使用該偏光元件之偏光板與顯示裝置审中-公开
简体标题：偏光组件及使用该偏光组件之偏光板与显示设备
公开(公告)号：TW201734143A
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW106103650
申请日：2017-02-03
申请人：日本化藥股份有限公司 , NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA , 寶來科技股份有限公司 , POLATECHNO CO., LTD.
发明人：望月典明 , MOCHIZUKI, NORIAKI
IPC分类号： C09B33/02 , C09B45/08 , G02B5/30
CPC分类号： C09B31/30 , C09B31/18 , C09B45/28 , C09B67/0046
摘要：本發明係提供光學特性、耐久性提高之偏光元件。偏光元件，例如包括基材及游離酸的形態為下述通式(1-1)以及通式(1-2)所示的偶氮化合物。 Ar11表示具有取代基的苯基或萘基，Rr11至Rr16表示氫原子、低級(碳數1至4)烷基、低級烷氧基或低級磺基烷氧基，Xr11表示可具有特定取代基的胺基、苯甲醯基、苯基胺基、苯甲醯基胺基、苯基偶氮基或萘基三唑基，m1、n1表示0或1，於m1、n1為1的情況，Rr15、Rr16為氫原子、低級烷基或低級磺基烷氧基； Ab11表示具有取代基的苯基或萘基，Rb11至Rb16表示氫原子、低級烷基、低級烷氧基或低級磺基烷氧基，Xb11表示可具有取代基的胺基、苯基偶氮基、苯甲醯基或萘基三唑基。
简体摘要：本发明系提供光学特性、耐久性提高之偏光组件。偏光组件，例如包括基材及游离酸的形态为下述通式(1-1)以及通式(1-2)所示的偶氮化合物。 Ar11表示具有取代基的苯基或萘基，Rr11至Rr16表示氢原子、低级(碳数1至4)烷基、低级烷氧基或低级磺基烷氧基，Xr11表示可具有特定取代基的胺基、苯甲酰基、苯基胺基、苯甲酰基胺基、苯基偶氮基或萘基三唑基，m1、n1表示0或1，于m1、n1为1的情况，Rr15、Rr16为氢原子、低级烷基或低级磺基烷氧基； Ab11表示具有取代基的苯基或萘基，Rb11至Rb16表示氢原子、低级烷基、低级烷氧基或低级磺基烷氧基，Xb11表示可具有取代基的胺基、苯基偶氮基、苯甲酰基或萘基三唑基。

2. 发明专利

TW201803939A 偶氮化合物或其鹽及含有該等化合物之偏光膜审中-公开
简体标题：偶氮化合物或其盐及含有该等化合物之偏光膜
公开(公告)号：TW201803939A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106106517
申请日：2017-02-24
申请人：日本化藥股份有限公司 , NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA , 寶來技術有限公司 , POLATECHNO CO., LTD.
发明人：樋下田貴大 , HIGETA, TAKAHIRO , 中村光則 , NAKAMURA, MITSUNORI , 服部由侑 , HATTORI, YU , 望月典明 , MOCHIZUKI, NORIAKI
IPC分类号： C09B31/072 , G02B5/30
CPC分类号： C09B31/20 , C09B31/18 , C09B67/0046 , G02B5/3033
摘要：本發明係以提供一種具有優異之偏光性能及耐濕性．耐熱性．耐光性的高性能染料系偏光膜及染料系偏光板，尤其是中性灰之高性能染料系膜及染料系偏光板，以及將其製造變可能之偶氮化合物或其鹽作為目的。本發明係提供一種式(1)表示之偶氮化合物或其鹽，
简体摘要：本发明系以提供一种具有优异之偏光性能及耐湿性．耐热性．耐光性的高性能染料系偏光膜及染料系偏光板，尤其是中性灰之高性能染料系膜及染料系偏光板，以及将其制造变可能之偶氮化合物或其盐作为目的。本发明系提供一种式(1)表示之偶氮化合物或其盐，

3. 发明专利

TWI495692B 黑色二色性染料有权
公开(公告)号：TWI495692B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW100120580
申请日：2011-06-13
申请人：巴地斯顏料化工廠 , BASF SE
发明人：巴切爾珍皮耳 , BACHER, JEAN-PIERRE , 德凱澤赫拉爾杜斯 , DE KEYZER, GERARDUS , 萊曼恩厄斯 , LEHMANN, URS
IPC分类号： C09B67/22 , C09B35/00 , C09K19/60 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC分类号： C09K19/601 , C09B31/043 , C09B31/18 , C09B31/28 , C09B67/0055 , G02B5/223 , G02B5/3033 , Y10T428/1041

4. 发明专利

TW201207050A 黑色二色性染料 BLACK DICHROIC DYE 审中-公开
公开(公告)号：TW201207050A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100120580
申请日：2011-06-13
申请人：巴地斯顏料化工廠
发明人：巴切爾珍皮耳 , 德凱澤赫拉爾杜斯 , 萊曼恩厄斯
IPC分类号： C09B , C09K , G02B , G02F
CPC分类号： C09K19/601 , C09B31/043 , C09B31/18 , C09B31/28 , C09B67/0055 , G02B5/223 , G02B5/3033 , Y10T428/1041
摘要：本發明描述一種包含兩種或兩種以上染料之黑色二色性染料組合物，其中至少一種一般為紅色染料及視情況選用之黃色染料的染料符合式A
且至少一種通常為藍色染料之染料符合式B Ar1N=N-[Ar2-N=N-]qAr3-N=N-Ar4 (B) 其中符號如本發明之申請專利範圍中所定義。該染料組合物非常適於與液晶材料組合，尤其用作偏振膜及/或用於液晶顯示器中，尤其展示高二色性比率及與液晶(liquid crystal，LC)材料極好的相容性。
简体摘要：本发明描述一种包含两种或两种以上染料之黑色二色性染料组合物，其中至少一种一般为红色染料及视情况选用之黄色染料的染料符合式A 且至少一种通常为蓝色染料之染料符合式B Ar1N=N-[Ar2-N=N-]qAr3-N=N-Ar4 (B) 其中符号如本发明之申请专利范围中所定义。该染料组合物非常适于与液晶材料组合，尤其用作偏振膜及/或用于液晶显示器中，尤其展示高二色性比率及与液晶(liquid crystal，LC)材料极好的兼容性。

5. 发明专利

TWI564350B 用於形成染料型偏光器的組成物和染料型偏光器有权
简体标题：用于形成染料型偏光器的组成物和染料型偏光器
公开(公告)号：TWI564350B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW103144984
申请日：2014-12-23
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD.
发明人：柳東雨 , YOO, DONG WOO , 全成浩 , CHUN, SUNG-HO , 徐慶昌 , SEO, KYUNG CHANG , 張炯玭 , JANG, HYEONG BIN
IPC分类号： C09B69/10 , C09B62/475 , C09B62/473 , C09K19/38 , G02B5/30
CPC分类号： G02B1/08 , C09B29/12 , C09B31/043 , C09B31/062 , C09B31/18 , C09B35/021 , C09B69/106 , G02B5/26 , G02B5/3033

6. 发明专利

TW201326316A 三偶氮酸性染料审中-公开
公开(公告)号：TW201326316A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101137472
申请日：2012-10-11
申请人：克萊瑞特國際股份有限公司 , CLARIANT INTERNATIONAL LTD.
发明人：努瑟瑞納 , NUSSER, RAINER
IPC分类号： C09B31/18
CPC分类号： C09B31/18 , C09D11/328
摘要：本發明係關於新穎之式(I)的酸性染料和彼之製法及彼於有機基材的染色和/或印刷之用途。
简体摘要：本发明系关于新颖之式(I)的酸性染料和彼之制法及彼于有机基材的染色和/或印刷之用途。

7. 发明专利

TW201307488A 偏光元件及偏光板审中-公开
简体标题：偏光组件及偏光板
公开(公告)号：TW201307488A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101124523
申请日：2012-07-06
申请人：日本化藥公司 , NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA , 寶來科技股份有限公司 , POLATECHNO CO., LTD.
发明人：望月典明 , MOCHIZUKI, NORIAKI
IPC分类号： C09B56/04 , C09B31/22 , C09B45/28 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3033 , C09B31/18 , C09B31/30
摘要：本發明之目的在於提供一種對於在520 nm至545 nm具有最高發光強度之光源具有較高之偏光性能的偏光元件及偏光板。本發明之偏光元件之特徵在於：其具有含有化合物(1)及化合物(2)所表示之二色性色素並進行延伸而成之聚乙烯醇系膜。 (式(1)中，n為1至4之整數)。 (化合物(2)中，X為具有至少一個磺基之苯基或萘基，R1至R6分別獨立表示氫原子、碳數1至4之低級烷基、碳數1至4之烷氧基或乙醯胺基，Y表示氫原子或胺基，m表示0或1)。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种对于在520 nm至545 nm具有最高发光强度之光源具有较高之偏光性能的偏光组件及偏光板。本发明之偏光组件之特征在于：其具有含有化合物(1)及化合物(2)所表示之二色性色素并进行延伸而成之聚乙烯醇系膜。 (式(1)中，n为1至4之整数)。 (化合物(2)中，X为具有至少一个磺基之苯基或萘基，R1至R6分别独立表示氢原子、碳数1至4之低级烷基、碳数1至4之烷氧基或乙酰胺基，Y表示氢原子或胺基，m表示0或1)。

8. 发明专利

TW201708411A 三偶氮酸性染料及其製造方法與用途、以及將其用於染色或印刷基板的製程和使用其所得到之具有顏色的基板、以及其染色組成审中-公开
简体标题：三偶氮酸性染料及其制造方法与用途、以及将其用于染色或印刷基板的制程和使用其所得到之具有颜色的基板、以及其染色组成
公开(公告)号：TW201708411A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105107838
申请日：2016-03-15
申请人：亞齊羅馬IP公司 , ARCHROMA IP GMBH
发明人：努瑟瑞納 , NUSSER, RAINER
IPC分类号： C09B31/18 , C09B67/20 , D06P1/06 , D06P1/39 , D06P3/24 , C09D11/328 , C09B67/22
CPC分类号： C09B31/18 , C09B67/0046 , C09D11/328 , D06P1/06 , D06P3/06 , D06P3/16 , D06P3/241
摘要：一種三偶氮酸性染料，具有式(I)：
简体摘要：一种三偶氮酸性染料，具有式(I)：

9. 发明专利

TWI561588B 三偶氮酸性染料有权
公开(公告)号：TWI561588B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW101137472
申请日：2012-10-11
申请人：亞克羅瑪智財公司 , ARCHROMA IP GMBH
发明人：努瑟瑞納 , NUSSER, RAINER
IPC分类号： C09B31/18
CPC分类号： C09B31/18 , C09D11/328

10. 发明专利

TWI560244B 偏光元件及偏光板有权
简体标题：偏光组件及偏光板
公开(公告)号：TWI560244B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW101124523
申请日：2012-07-06
申请人：日本化藥公司 , NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA , 寶來科技股份有限公司 , POLATECHNO CO., LTD.
发明人：望月典明 , MOCHIZUKI, NORIAKI
IPC分类号： C09B56/04 , C09B31/22 , C09B45/28 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3033 , C09B31/18 , C09B31/30

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