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1. 发明专利

TWI617544B 聯咔唑化合物、光硬化性組成物、其硬化物、塑料透鏡用硬化性組成物及塑料透鏡有权
简体标题：联咔唑化合物、光硬化性组成物、其硬化物、塑料透镜用硬化性组成物及塑料透镜
公开(公告)号：TWI617544B
公开(公告)日：2018-03-11
申请号：TW103125427
申请日：2014-07-25
申请人： DIC股份有限公司 , DIC CORPORATION
发明人：宮本正紀 , MIYAMOTO, MASANORI , 小林伸生 , KOBAYASHI, NOBUO , 鄧長軍 , DENG, CHANGJUN , 楊霞 , YANG, XIA
IPC分类号： C07D209/86 , C08L33/24 , C08L33/04 , C08L39/04 , C08L101/02 , C08J3/28 , G02B1/04 , G02B3/00 , G02C7/02
CPC分类号： C07D209/86 , C08F222/22 , C08F222/385 , C08F290/00 , G02B1/041 , G02B3/08 , C08L39/00

2. 发明专利

TW201534630A 具有光配向性之熱硬化性組成物、配向層、附有配向層之基材、相位差板及裝置审中-公开
简体标题：具有光配向性之热硬化性组成物、配向层、附有配向层之基材、相位差板及设备
公开(公告)号：TW201534630A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104104041
申请日：2015-02-06
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：奧山健一 , OKUYAMA, KENICHI , 本岡麻美 , MOTOOKA, MAMI
IPC分类号： C08F220/28 , G02F1/1337 , G02F1/13363 , G02B5/30
CPC分类号： C09K19/56 , C08F12/22 , C08F12/24 , C08F12/32 , C08F212/14 , C08F212/145 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F222/20 , C08F222/22 , C08F2220/281 , G02B5/30 , G02B5/3083 , G02F1/13363 , G02F1/133788 , C08F2220/303 , C08F2222/102 , C08F2220/365
摘要：本發明主要目的在於提供：可形成液晶配向能力安定性優異之配向層，且可低溫硬化的具有光配向性之熱硬化性組成物，以及使用其之配向層、附有配向層之基材、相位差板及裝置。本發明係藉由提供的下述具有光配向性之熱硬化性組成物，而達成上述目的。該具有光配向性之熱硬化性組成物係含有光配向性構成單元與熱交聯性構成單元的共聚合體；該熱交聯性構成單元係熱交聯性基經由碳數4~11之直鏈伸烷基、或重複數2~5之聚乙二醇基而鍵結。
简体摘要：本发明主要目的在于提供：可形成液晶配向能力安定性优异之配向层，且可低温硬化的具有光配向性之热硬化性组成物，以及使用其之配向层、附有配向层之基材、相位差板及设备。本发明系借由提供的下述具有光配向性之热硬化性组成物，而达成上述目的。该具有光配向性之热硬化性组成物系含有光配向性构成单元与热交联性构成单元的共聚合体；该热交联性构成单元系热交联性基经由碳数4~11之直链伸烷基、或重复数2~5之聚乙二醇基而键结。

3. 发明专利

TW445286B 輻射可聚合組成物、由其製成之薄膜及使用此組成物在基材上形成塗層之方法有权
简体标题：辐射可聚合组成物、由其制成之薄膜及使用此组成物在基材上形成涂层之方法
公开(公告)号：TW445286B
公开(公告)日：2001-07-11
申请号：TW087113794
申请日：1998-08-21
申请人：亨克爾公司
发明人：瑞麥奇L.那拉亞 , 米格A.道尼斯 , 泰瑞沙M.米勒
IPC分类号： C09D
CPC分类号： C09D11/101 , C07C69/54 , C09D4/00 , C08F222/20 , C08F222/22
摘要：一種輻射可聚合之組成物含有：至少一種輻射可固化之丙烯酸酯樹脂低聚物,此低聚物係由使一種經烷氧基化之多元醇與包括一種烯屬不飽和羧酸之第一種酸性組份反應所製成;及一種流變學改良劑,其係由一種二環氧化物與包括一種烯屬不飽和羧酸或其反應性衍生物之第二種酸性組份,於有基於一種聚合之脂肪酸之聚醯胺存在下起反應所製成。第一和第二種酸性組份的烯屬不飽和羧酸宜是丙烯酸或甲基丙烯酸。該二環氧化物宜是一種二縮水甘油醚,例如,雙酚A。可將著色劑例如顏料或染料選擇性摻合入該組成物中而形成油墨,其可經由紫外光(UV)或電子束輻射而固化。
简体摘要：一种辐射可聚合之组成物含有：至少一种辐射可固化之丙烯酸酯树脂低聚物,此低聚物系由使一种经烷氧基化之多元醇与包括一种烯属不饱和羧酸之第一种酸性组份反应所制成;及一种流变学改良剂,其系由一种二环氧化物与包括一种烯属不饱和羧酸或其反应性衍生物之第二种酸性组份,于有基于一种聚合之脂肪酸之聚酰胺存在下起反应所制成。第一和第二种酸性组份的烯属不饱和羧酸宜是丙烯酸或甲基丙烯酸。该二环氧化物宜是一种二缩水甘油醚,例如,双酚A。可将着色剂例如颜料或染料选择性掺合入该组成物中而形成油墨,其可经由紫外光(UV)或电子束辐射而固化。

4. 发明专利

TWI589646B 有機無機複合體有权
简体标题：有机无机复合体
公开(公告)号：TWI589646B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105119340
申请日：2016-06-20
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：青山和賢 , AOYAMA, KAZUMASA
IPC分类号： C08L83/07 , C08G77/20 , C08L33/14 , C09D183/07 , C09D133/14 , C09D7/12 , C09D5/00
CPC分类号： C09D4/00 , B32B27/00 , B32B27/30 , B32B2305/72 , C08F222/22 , C08F290/06 , C08F299/08 , C08G77/08 , C09D7/40 , C09D183/04

5. 发明专利

TWI589601B 聚合光起始劑有权
简体标题：聚合光起始剂
公开(公告)号：TWI589601B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW102126758
申请日：2013-07-25
申请人：歐內克斯比利時股份有限公司 , ALLNEX BELGIUM, S. A.
发明人：范登貝根休格斯 , VAN DEN BERGEN, HUGUES , 吉伐特保羅 , GEVAERT, PAUL , 凱佩勒史蒂文 , CAPPELLE, STEVEN
IPC分类号： C08F2/50 , C09D4/00
CPC分类号： C08F222/22 , C08F222/1006 , C08G65/3326 , C08K5/103 , C09D4/00

6. 发明专利

TW201606434A 在全像光聚合物配製物中作為寫入單體之芳香族二醇醚审中-公开
简体标题：在全像光聚合物配制物中作为写入单体之芳香族二醇醚
公开(公告)号：TW201606434A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104112982
申请日：2015-04-23
申请人：拜耳材料科學股份有限公司 , BAYER MATERIALSCIENCE AG
发明人：費克湯瑪斯 , FAECKE, THOMAS , 布魯德弗德里希卡爾 , BRUDER, FRIEDRICH-KARL , 羅艾里湯瑪斯 , ROELLE, THOMAS , 威瑟馬可史蒂芬 , WEISER, MARC-STEPHAN , 侯內爾丹尼斯 , HOENEL, DENNIS , 本內斯侯斯特 , BERNETH, HORST , 瓦澤岡瑟 , WALZE, GUENTHER , 哈根萊納 , HAGEN, RAINER
IPC分类号： G03F7/028 , G02B5/32 , G03H1/02
CPC分类号： G03F7/001 , C07C69/017 , C07C69/54 , C07C69/612 , C07C271/16 , C08F290/062 , C08F290/067 , G03F7/028 , G03F7/035 , G03H1/0248 , G03H2001/0264 , G03H2260/12 , G11B7/24044 , C08F220/34 , C08F2220/346 , C08F222/22
摘要：本發明關於一種光聚合物配製物，其包含特定芳香族二醇醚作為寫入單體、基質聚合物(matrix polymers)及光起始劑。本發明進一步提供一種可使用本發明光聚合物配製物獲得之未曝光的全像介質，及一種曝光的全像介質，其可藉由使一全像圖曝光至本發明未曝光的全像介質內而獲得。本發明同樣提供一種包含本發明曝光的全像介質之視覺顯示器(visual display)，亦提供本發明曝光的全像介質的用途，以用於晶片卡、身分證件、3D影像、產品保護標籤、標籤、鈔票或全像光學元件之製造，及一種特定芳香族二醇醚。
简体摘要：本发明关于一种光聚合物配制物，其包含特定芳香族二醇醚作为写入单体、基质聚合物(matrix polymers)及光起始剂。本发明进一步提供一种可使用本发明光聚合物配制物获得之未曝光的全像介质，及一种曝光的全像介质，其可借由使一全像图曝光至本发明未曝光的全像介质内而获得。本发明同样提供一种包含本发明曝光的全像介质之视觉显示器(visual display)，亦提供本发明曝光的全像介质的用途，以用于芯片卡、身分证件、3D影像、产品保护标签、标签、钞票或全像光学组件之制造，及一种特定芳香族二醇醚。

7. 发明专利

TWI306848B 含有乙烯性不飽和基之異氰酸酯化合物及其製造方法、以及反應性單體、反應性(甲基)丙烯酸酯聚合物及其用途有权
简体标题：含有乙烯性不饱和基之异氰酸酯化合物及其制造方法、以及反应性单体、反应性(甲基)丙烯酸酯聚合物及其用途
公开(公告)号：TWI306848B
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW094138119
申请日：2005-10-31
申请人：昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K.
发明人：野澤金男 NOZAWA, KANEO , 森中克利 MORINAKA, KATSUTOSHI , 佐佐木透 SASAKI, TORU , 室伏克己 MUROFUSHI, KATSUMI
IPC分类号： C07C , C08F
CPC分类号： C07C265/04 , B33Y70/00 , C07C271/16 , C07C271/34 , C07C275/22 , C07C275/24 , C07C275/30 , C07C333/04 , C07C2601/14 , C07C2603/18 , C07C2603/74 , C08F222/1006 , C08F222/22 , G03F7/027 , H05K3/287 , Y10T428/24917
摘要：本發明為提供一種含有新穎的乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物、其製造方法、及由該異氰酸酯化合物所得之反應性罩體、反應性聚合物及其用途。
本發明的含有乙烯性不飽和基的異氰酸酯化合物為下述式(I)所示,與持有活性氫的官能基所結合之化合物進行反應後得到反應性罩體。又,與具有持有活性氫之官能基所結合之重複單位的聚羥基化合物進行反應得到反應性(甲基)丙烯酸酯。
(式中,R1表示碳數1~10的直鏈或支鏈之飽和脂肪族基,R2表示氫原子或甲基,R3表示碳數0~5的直鏈或支鏈之伸烷基,R4表示氫原子、碳數1~6的直鏈或支鏈之烷基、或芳基)。
简体摘要：本发明为提供一种含有新颖的乙烯性不饱和基的异氰酸酯化合物、其制造方法、及由该异氰酸酯化合物所得之反应性罩体、反应性聚合物及其用途。本发明的含有乙烯性不饱和基的异氰酸酯化合物为下述式(I)所示,与持有活性氢的官能基所结合之化合物进行反应后得到反应性罩体。又,与具有持有活性氢之官能基所结合之重复单位的聚羟基化合物进行反应得到反应性(甲基)丙烯酸酯。 (式中,R1表示碳数1~10的直链或支链之饱和脂肪族基,R2表示氢原子或甲基,R3表示碳数0~5的直链或支链之伸烷基,R4表示氢原子、碳数1~6的直链或支链之烷基、或芳基)。

8. 发明专利

TWI586727B 光硬化性組合物及硬質被覆劑有权
简体标题：光硬化性组合物及硬质被覆剂
公开(公告)号：TWI586727B
公开(公告)日：2017-06-11
申请号：TW102109915
申请日：2013-03-20
申请人：艾迪科股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：神本哲男 , KAMIMOTO, TETSUO , 增田誠士 , MASUDA, SATOSHI , 佐藤文彥 , SATO, FUMIHIKO , 石間洋輔 , ISHIMA, YOSUKE
IPC分类号： C08K5/3492 , C09D4/02
CPC分类号： C08F226/06 , C07D251/24 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08F265/04 , C08F290/067 , C08F2222/225 , C08K5/3492 , C09D5/32 , C09D7/48 , C09D139/04 , C09D201/02 , C08F222/22

9. 发明专利

TW201343747A 光硬化性組合物及硬質被覆劑审中-公开
简体标题：光硬化性组合物及硬质被覆剂
公开(公告)号：TW201343747A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW102109915
申请日：2013-03-20
申请人：艾迪科股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：神本哲男 , KAMIMOTO, TETSUO , 增田誠士 , MASUDA, SATOSHI , 佐藤文彥 , SATO, FUMIHIKO , 石間洋輔 , ISHIMA, YOSUKE
IPC分类号： C08K5/3492 , C09D4/02
CPC分类号： C08F226/06 , C07D251/24 , C08F2/50 , C08F222/1006 , C08F265/04 , C08F290/067 , C08F2222/225 , C08K5/3492 , C09D5/32 , C09D7/48 , C09D139/04 , C09D201/02 , C08F222/22
摘要：本發明係關於一種含有下述通式(1)所表示之紫外線吸收劑之一種以上之光硬化性組合物及包含該光硬化性組合物之硬質被覆劑。 (式中，R1~R3彼此可相同亦可不同，表示經(甲基)丙烯醯氧基取代之C1~20之支鏈或直鏈之烷基。該烷基亦可經羥基、C1~8之烷氧基、C1~8之醯氧基取代。又，亦可經氧原子、硫原子、羰基、酯基、醯胺基、醯亞胺基中之1個以上中斷。R4~R6彼此可相同亦可不同，表示氫原子、鹵素原子、羥基、碳原子數1~12之烷基、碳原子數1~12之烷氧基)。
简体摘要：本发明系关于一种含有下述通式(1)所表示之紫外线吸收剂之一种以上之光硬化性组合物及包含该光硬化性组合物之硬质被覆剂。 (式中，R1~R3彼此可相同亦可不同，表示经(甲基)丙烯酰氧基取代之C1~20之支链或直链之烷基。该烷基亦可经羟基、C1~8之烷氧基、C1~8之酰氧基取代。又，亦可经氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基、酰亚胺基中之1个以上中断。R4~R6彼此可相同亦可不同，表示氢原子、卤素原子、羟基、碳原子数1~12之烷基、碳原子数1~12之烷氧基)。

10. 发明专利

TW201211016A 含氟單體、高分子化合物、光阻材料及圖案形成方法 FLUORINATED MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS 审中-公开
简体标题：含氟单体、高分子化合物、光阻材料及图案形成方法 FLUORINATED MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
公开(公告)号：TW201211016A
公开(公告)日：2012-03-16
申请号：TW100112058
申请日：2011-04-07
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：提箸正義 , 長谷川幸士 , 佐佐見武志
IPC分类号： C07D , C08F , G03F , H01L
CPC分类号： C07C69/013 , C07C69/653 , C07D317/34 , C07D317/72 , C08F24/00 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F222/18 , C08F222/20 , C08F222/22 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111
摘要：一種以通式(1)表示之含氟單體：
(R 1 代表H、F、甲基或三氟甲基。R 2 、R 3 為H或C1~15之1價烴基。R 2 、R 3 也可彼此鍵結而與此等所鍵結之碳原子一起形成非芳香環。R 4 ~R 6 為C1~6之氟化1價烴基。A為C1~10之2價烴基。k 1 為0~2之整數。)本發明之含氟單體，當作機能性材料、醫藥‧農藥等的原料為有用，且當作用於製造對於波長500nm以下的放射線具有優異的透明性，且顯影缺陷少的感放射線光阻材料的添加劑用樹脂的單體非常有用。由上述單體獲得之高分子化合物，可利用樹脂之構造選擇而調整撥水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、水解性等各種性能。
简体摘要：一种以通式(1)表示之含氟单体： (R 1 代表H、F、甲基或三氟甲基。R 2 、R 3 为H或C1~15之1价烃基。R 2 、R 3 也可彼此键结而与此等所键结之碳原子一起形成非芳香环。R 4 ~R 6 为C1~6之氟化1价烃基。A为C1~10之2价烃基。k 1 为0~2之整数。)本发明之含氟单体，当作机能性材料、医药‧农药等的原料为有用，且当作用于制造对于波长500nm以下的放射线具有优异的透明性，且显影缺陷少的感放射线光阻材料的添加剂用树脂的单体非常有用。由上述单体获得之高分子化合物，可利用树脂之构造选择而调整拨水性、滑水性、脂溶性、酸分解性、水解性等各种性能。

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