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1. 发明专利

TW200726744A 水溶性光起始劑 WATER SOLUBLE PHOTOINITIATOR 审中-公开
简体标题：水溶性光起始剂 WATER SOLUBLE PHOTOINITIATOR
公开(公告)号：TW200726744A
公开(公告)日：2007-07-16
申请号：TW095137006
申请日：2006-10-05
申请人：亞比馬利股份有限公司 ALBEMARLE CORPORATION
发明人：況文芬 KUANG, WENFENG
IPC分类号： C07C , C08F
CPC分类号： C08F2/50 , C07C51/412 , C08F2/48 , G03F7/029 , C07C65/34
摘要：本發明同時提供羧酸金屬鹽及羧酸季銨鹽,而在羧酸鹽中存有苯甲醯苯基。本發明同時也提供光起始劑組成物,其包含a)(i)至少一種羧酸金屬鹽,而在羧酸鹽中存有苯甲醯苯基,和/或(ii)至少一種羧酸季銨鹽,而在羧酸鹽中存有苯甲醯苯基;以及b)至少一種包含至少一個苯甲醯基團和至少一種脂肪醇基團的共同起始劑。本發明同時也提供與這些光起始劑組成物進行光聚合的方法。
简体摘要：本发明同时提供羧酸金属盐及羧酸季铵盐,而在羧酸盐中存有苯甲酰苯基。本发明同时也提供光起始剂组成物,其包含a)(i)至少一种羧酸金属盐,而在羧酸盐中存有苯甲酰苯基,和/或(ii)至少一种羧酸季铵盐,而在羧酸盐中存有苯甲酰苯基;以及b)至少一种包含至少一个苯甲酰基团和至少一种脂肪醇基团的共同起始剂。本发明同时也提供与这些光起始剂组成物进行光聚合的方法。

2. 发明专利

TW251292B 直鏈丙烯二聚物之製備方法失效
简体标题：直链丙烯二聚物之制备方法
公开(公告)号：TW251292B
公开(公告)日：1995-07-11
申请号：TW083108006
申请日：1994-08-31
申请人：宇部興產股份有限公司
发明人：白井昌志 , 杉瀨良二 , 柏木公一 , 島川敏弘
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C07C65/32 , C07C65/34 , C07C253/30 , Y02P20/52
摘要：直鏈丙烯二聚物包含1,4-二氰基丁烯，1,4-二氰基丁二烯及己二者，係經由於釕催化劑存在下，及於直鏈二聚物選擇性促進劑存在下二聚合丙烯，而以高選擇性生產，該直鏈二聚物選擇性促進劑包括選自下列之至少一者：
(A) 經取代之苯甲酸，但一烷基苯甲酸除外，含至少一個取代基，且較佳具有於水中，於25℃於離子強度0 至0.1莫耳／升測得之pKa為1.50至6.0；
(B) 含至少一個取代基之含雜原子非環系羧酸含有一個硫或氮原子接到相對於主要烴結構之羧基呈位在α–位或β–位之碳原子；及
(C) ５至12員雜環系羧酸有一個氧，硫或氮原子含於５至12員雜環系結構內，及一個羧基或羧甲基接在相對於雜原子之α–位的碳原子。
简体摘要：直链丙烯二聚物包含1,4-二氰基丁烯，1,4-二氰基丁二烯及己二者，系经由于钌催化剂存在下，及于直链二聚物选择性促进剂存在下二聚合丙烯，而以高选择性生产，该直链二聚物选择性促进剂包括选自下列之至少一者： (A) 经取代之苯甲酸，但一烷基苯甲酸除外，含至少一个取代基，且较佳具有于水中，于25℃于离子强度0 至0.1莫耳／升测得之pKa为1.50至6.0； (B) 含至少一个取代基之含杂原子非环系羧酸含有一个硫或氮原子接到相对于主要烃结构之羧基呈位在α–位或β–位之碳原子；及 (C) ５至12员杂环系羧酸有一个氧，硫或氮原子含于５至12员杂环系结构内，及一个羧基或羧甲基接在相对于杂原子之α–位的碳原子。

3. 发明专利

TW201425292A 硬罩幕組成物與其使用的單體及其圖案形成方法审中-公开
简体标题：硬罩幕组成物与其使用的单体及其图案形成方法
公开(公告)号：TW201425292A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW102145484
申请日：2013-12-11
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：辛乘旭 , SHIN, SEUNG-WOOK , 金潤俊 , KIM, YUN-JUN , 金惠廷 , KIM, HEA-JUNG , 趙娟振 , CHO, YOUN-JIN , 崔有廷 , CHOI, YOO-JEONG
IPC分类号： C07C65/15 , C07C65/17 , C07C65/19 , G03F7/16 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , C07C63/15 , C07C63/26 , C07C65/32 , C07C65/34 , C07C65/40 , G03F1/00 , G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/26 , G03F7/30 , G03F7/36 , G03F7/40
摘要：揭露一種由下列化學式1表示的用於硬罩幕組成物的單體、一種含有單體的硬罩幕組成物、以及一種使用硬罩幕組成物的圖案形成方法。在上述的化學式1中，A、A'、L、L'、X以及n與說明書中所定義的相同。
简体摘要：揭露一种由下列化学式1表示的用于硬罩幕组成物的单体、一种含有单体的硬罩幕组成物、以及一种使用硬罩幕组成物的图案形成方法。在上述的化学式1中，A、A'、L、L'、X以及n与说明书中所定义的相同。

4. 发明专利

TW200619191A 具有2以上取代基之苯化合物 PHENYL COMPOUNDS WITH MORE THAN 2 SUBSTITUTES 审中-公开
公开(公告)号：TW200619191A
公开(公告)日：2006-06-16
申请号：TW094137473
申请日：2005-10-26
申请人：三共股份有限公司 SANKYO COMPANY, LIMITED
发明人：玉木和彥 TAMAKI, KAZUHIKO , 山口孝弘 YAMAGUCHI, TAKAHIRO , 小田晃造 ODA, KOZO , 寺直生 TERASAKA, NAOKI , 中井大介 NAKAI, DAISUKE , 中臺正和 NAKADAI, MASAKAZU
IPC分类号： C07C , A61K , A61P
CPC分类号： C07C217/80 , C07C45/00 , C07C45/673 , C07C45/68 , C07C47/565 , C07C65/24 , C07C65/30 , C07C65/34 , C07C65/40 , C07C69/78 , C07C69/88 , C07C69/92 , C07C69/94 , C07C205/35 , C07C235/34 , C07C235/46 , C07C255/57 , C07C311/04 , C07C311/08 , C07C317/22 , C07C317/46 , C07C323/62 , C07D213/55 , C07D213/65 , C07D213/71 , C07D213/79 , C07D213/80 , C07D239/26 , C07D257/04 , C07D277/30 , C07D307/84 , C07D333/24
摘要：本發明提供優異LXR調節劑。如下式(I)094137473-p01.bmp〔式中，R^1：－COR^9(式中，R^9：烷基、可有取代烷氧基、可有取代胺基)；R^2：H、OH、烷氧基、可有取代胺基等；R^3：H、可有取代烷基、環烷基、可有取代烷氧基、可有取代胺基、鹵素等；R^4、R^5：H、可有取代烷基、鹵素等；R^6、R^7：H、烷基；R^8：－X^2R^10〔式中，R^10：－COR^11(式中，R^11：OH、可有取代烷氧基、可有取代胺基等)、－SO2R^12(式中，R^12：可有取代烷基、可有取代胺基等)、四唑–5–基等；X^2：單鍵、可有取代伸烷基等〕；X^1：－NH–、－O－、－S－等；Y^1：可有取代苯基、可有取代5～6員芳香族雜環基；Y^2：可有取代芳基、有取代雜環基等〕之化合物等。094137473-p01.bmp
简体摘要：本发明提供优异LXR调节剂。如下式(I)094137473-p01.bmp〔式中，R^1：－COR^9(式中，R^9：烷基、可有取代烷氧基、可有取代胺基)；R^2：H、OH、烷氧基、可有取代胺基等；R^3：H、可有取代烷基、环烷基、可有取代烷氧基、可有取代胺基、卤素等；R^4、R^5：H、可有取代烷基、卤素等；R^6、R^7：H、烷基；R^8：－X^2R^10〔式中，R^10：－COR^11(式中，R^11：OH、可有取代烷氧基、可有取代胺基等)、－SO2R^12(式中，R^12：可有取代烷基、可有取代胺基等)、四唑–5–基等；X^2：单键、可有取代伸烷基等〕；X^1：－NH–、－O－、－S－等；Y^1：可有取代苯基、可有取代5～6员芳香族杂环基；Y^2：可有取代芳基、有取代杂环基等〕之化合物等。094137473-p01.bmp

5. 发明专利

TWI535697B 硬罩幕組成物與其使用的單體及其圖案形成方法有权
简体标题：硬罩幕组成物与其使用的单体及其图案形成方法
公开(公告)号：TWI535697B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW102145484
申请日：2013-12-11
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：辛乘旭 , SHIN, SEUNG-WOOK , 金潤俊 , KIM, YUN-JUN , 金惠廷 , KIM, HEA-JUNG , 趙娟振 , CHO, YOUN-JIN , 崔有廷 , CHOI, YOO-JEONG
IPC分类号： C07C65/15 , C07C65/17 , C07C65/19 , G03F7/16 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/004 , C07C63/15 , C07C63/26 , C07C65/32 , C07C65/34 , C07C65/40 , G03F1/00 , G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/26 , G03F7/30 , G03F7/36 , G03F7/40

6. 发明专利

TWI282786B 2-鹵化苯甲酸類之製法 A PROCESS FOR PREPARING 2-HALAGENOBENZOIC ACIDS 有权
简体标题： 2-卤化苯甲酸类之制法 A PROCESS FOR PREPARING 2-HALAGENOBENZOIC ACIDS
公开(公告)号：TWI282786B
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：TW090110105
申请日：2001-04-27
申请人：日本農藥股份有限公司 NIHON NOHYAKU CO., LTD.
发明人：兒玉浩宜 , 勝平健 KATSUHIRA, TAKESHI , 西田立樹 , 日野智和 HINO TOMOKAZU , 津幡健治
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07D213/643 , B01J27/13 , B01J31/28 , C07B39/00 , C07C51/363 , C07C231/12 , C07C315/04 , C07C319/20 , C07D213/75 , C07D239/34 , C07D239/60 , C07C63/70 , C07C65/34 , C07C317/28 , C07C317/40 , C07C317/44 , C07C323/41 , C07C323/42 , C07C323/62 , C07C233/65
摘要：本發明提供一種如下列式(Ⅰ)表示的2-鹵化苯甲酸類之製法。其特徵係使式(Ⅱ)的苯甲酸類和鹵化劑在鈀觸媒的共存下進行反應。
(式中，A為-OH、-OM(式中，M為鹼金屬)、-N(R6)R7(式中，R6、R7為H、C1-C6烷基、(取代)苯基等)、R為H、C1-C6烷基、C1-C6烷羰基、羧基、C1-C12烷氧羰基、(取代)苯羰基等，n為0～4，X為Cl、Br、I。又，(R)n也可以取代苯環上鄰接的碳形成由C3-C4伸烷基、C3-C4伸烯基組成的稠環。)
简体摘要：本发明提供一种如下列式(Ⅰ)表示的2-卤化苯甲酸类之制法。其特征系使式(Ⅱ)的苯甲酸类和卤化剂在钯触媒的共存下进行反应。 (式中，A为-OH、-OM(式中，M为碱金属)、-N(R6)R7(式中，R6、R7为H、C1-C6烷基、(取代)苯基等)、R为H、C1-C6烷基、C1-C6烷羰基、羧基、C1-C12烷氧羰基、(取代)苯羰基等，n为0～4，X为Cl、Br、I。又，(R)n也可以取代苯环上邻接的碳形成由C3-C4伸烷基、C3-C4伸烯基组成的稠环。)

7. 发明专利

TW482811B 使用酮染料整體染色之方法失效
简体标题：使用酮染料整体染色之方法
公开(公告)号：TW482811B
公开(公告)日：2002-04-11
申请号：TW087104434
申请日：1998-03-25
申请人：拜耳廠股份有限公司
发明人：麥帝凡
IPC分类号： C09B , C08K
CPC分类号： C08K5/3437 , C07C65/34 , C09B25/00
摘要：已發現一種式(1)所示的染料，它特別適合對塑料，特別是熱塑塑料進行整體染色。其中，A代表被取代的苯基。
简体摘要：已发现一种式(1)所示的染料，它特别适合对塑料，特别是热塑塑料进行整体染色。其中，A代表被取代的苯基。

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