专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI395726B 具有低膨漲梯度之低膨漲性玻璃材料有权
简体标题：具有低膨涨梯度之低膨涨性玻璃材料
公开(公告)号：TWI395726B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW097146540
申请日：2008-11-28
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：肯尼埃德哈迪納 , KENNETH EDWARD HRDINA , 羅伯沙巴 , ROBERT SABIA
IPC分类号： C03C3/04 , C03C3/06
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/1407 , C03B19/143 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03C2201/42 , C03C2203/40

2. 发明专利

TW200417822A 減小條紋極紫外線元件 REDUCED STRIAE EXTREME ULTRAVIOLET ELEMENTS 审中-公开
简体标题：减小条纹极紫外线组件 REDUCED STRIAE EXTREME ULTRAVIOLET ELEMENTS
公开(公告)号：TW200417822A
公开(公告)日：2004-09-16
申请号：TW092105046
申请日：2003-03-04
申请人：康寧公司 CORNING INCORPORATED
发明人：肯尼埃德哈迪納 KENNETH E. HRDINA , 貝耐特里昂麥林 BRENT RYAN MCLEAN , 詹埃得馬克松 JOHN EDWARD MAXON
IPC分类号： G03F
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , C03B19/1446 , C03B19/1484 , C03B2201/42 , C03B2207/62 , C03B2207/66 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , G03F1/24 , G03F7/70958
摘要：本發明揭示出含有具有低條紋值之氧化鈦矽石玻璃物體以及極紫外線元件。本發明亦揭示出製造以及在玻璃元件以及極紫外線元件中量測條紋之方法以及裝置。
简体摘要：本发明揭示出含有具有低条纹值之氧化钛硅石玻璃物体以及极紫外线组件。本发明亦揭示出制造以及在玻璃组件以及极紫外线组件中量测条纹之方法以及设备。

3. 发明专利

TWI363045B 具優異之耐電漿腐蝕性石英玻璃及其製造方法 QUARTZ GLASS HAVING EXCELLENT RESISTANCE AGAINST PLASMA CORROSION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME 有权
简体标题：具优异之耐等离子腐蚀性石英玻璃及其制造方法 QUARTZ GLASS HAVING EXCELLENT RESISTANCE AGAINST PLASMA CORROSION AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
公开(公告)号：TWI363045B
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW094120838
申请日：2005-06-22
申请人：信越石英股份有限公司
发明人：佐藤龍弘 , 吉田宜正 , 遠藤護
IPC分类号： C03C
CPC分类号： C03C3/06 , C03B19/01 , C03B19/06 , C03B19/066 , C03B19/09 , C03B19/1438 , C03B19/1453 , C03B20/00 , C03B2201/36 , C03C2201/36 , C03C2203/10 , C03C2203/22 , C03C2203/40
摘要：本發明係提供可使用作為用於半導體製造之電漿反應用夾具材料，對於耐電漿腐蝕性、特別是F系電漿氣體之耐腐蝕性優異，對於矽晶圓不會造成異常之石英玻璃，以及石英玻璃夾具以及此等之製造方法。含有合計0.1~20wt%的2種以上金屬元素之石英玻璃，該金屬元素係由至少一種選自周期表第3B族之第1金屬元素、與至少一種選自Mg、Ca，Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf，鑭系元素及錒系元素構成族群之第2金屬元素所構成，第2金屬元素各自最大濃度為2.0wt%以下。
简体摘要：本发明系提供可使用作为用于半导体制造之等离子反应用夹具材料，对于耐等离子腐蚀性、特别是F系等离子气体之耐腐蚀性优异，对于硅晶圆不会造成异常之石英玻璃，以及石英玻璃夹具以及此等之制造方法。含有合计0.1~20wt%的2种以上金属元素之石英玻璃，该金属元素系由至少一种选自周期表第3B族之第1金属元素、与至少一种选自Mg、Ca，Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf，镧系元素及锕系元素构成族群之第2金属元素所构成，第2金属元素各自最大浓度为2.0wt%以下。

4. 发明专利

TWI227219B 用於光學元件的石英玻璃毛胚及其製造方法與使用 Quartz Glass Blank for an Optical Component, and Manufacturing Procedure and Use thereof 失效
简体标题：用于光学组件的石英玻璃毛胚及其制造方法与使用 Quartz Glass Blank for an Optical Component, and Manufacturing Procedure and Use thereof
公开(公告)号：TWI227219B
公开(公告)日：2005-02-01
申请号：TW091124792
申请日：2002-10-24
申请人：信越石英股份有限公司 SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , 赫里斯果斯克來斯有限兩合公司 HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
发明人：波多.昆恩 KUHN, BODO , 布諾.維賓 UEBBING, BRUNO , 馬丁.托莫 TROMMER, MARTIN , 史帝芬.歐克斯 OCHS, STEFAN , 傑洛.費雪 FISCHER, GERO , 伍拉.霍斯特 HOLST, ULLA
IPC分类号： C03C , C03B
CPC分类号： C03B19/1469 , C03B19/1415 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , Y02P40/57
摘要：本發明與一種用於一光學元件，供傳輸波長小或等於250nm之紫外線輻射之石英玻璃毛胚有關，並與其在波長小或等於250nm之紫外線輻射之激蝕刻術中之石英玻璃毛胚之使用有關。而且，本發明與石英玻璃毛胚之製造方法有關。
所說明型式之石英玻璃毛胚應表現很小之所引起之吸收度並針對壓實和解壓實予以最佳化。如本發明之石英玻璃毛胚特徵如下：
玻璃結構基本上不具氧缺陷位置，
H2含量範圍為0.1×1016分子/cm3至4.0×1016分子/cm3，
OH含量範圍為125wt-ppm至450wt-ppm，
SiH族含量小於5×1016分子/cm3，
折射率異質性△n小於2ppm，以及
張力雙折射度小於2nm/cm。
在根據本發明之使用中，石英玻璃毛胚分別基於具 OH含量，最小和最大氫含量，COH，CH2min，和CH2max，遵照尺度化規則(2)，(3)，和(4)，P為脈衝數而ε為能量密度： COH[wt-ppm]=1,700×ε[mJ/cm2]0.4±50 (2) CH2min[分子/cm3]=1×106ε2P (3)， CH2max[分子/cm3]=2×1018ε (4)，
根據本發明方法之特徵為藉由混合兩石英玻璃，從第一和第二石英玻璃產生一混合之石英玻璃。
简体摘要：本发明与一种用于一光学组件，供传输波长小或等于250nm之紫外线辐射之石英玻璃毛胚有关，并与其在波长小或等于250nm之紫外线辐射之激蚀刻术中之石英玻璃毛胚之使用有关。而且，本发明与石英玻璃毛胚之制造方法有关。所说明型式之石英玻璃毛胚应表现很小之所引起之吸收度并针对压实和解压实予以最优化。如本发明之石英玻璃毛胚特征如下：玻璃结构基本上不具氧缺陷位置， H2含量范围为0.1×1016分子/cm3至4.0×1016分子/cm3， OH含量范围为125wt-ppm至450wt-ppm， SiH族含量小于5×1016分子/cm3，折射率异质性△n小于2ppm，以及张力双折射度小于2nm/cm。在根据本发明之使用中，石英玻璃毛胚分别基于具 OH含量，最小和最大氢含量，COH，CH2min，和CH2max，遵照尺度化守则(2)，(3)，和(4)，P为脉冲数而ε为能量密度： COH[wt-ppm]=1,700×ε[mJ/cm2]0.4±50 (2) CH2min[分子/cm3]=1×106ε2P (3)， CH2max[分子/cm3]=2×1018ε (4)，根据本发明方法之特征为借由混合两石英玻璃，从第一和第二石英玻璃产生一混合之石英玻璃。

5. 发明专利

TW583150B 供光學組件用之石英玻璃空白體,其製法及其用途有权
简体标题：供光学组件用之石英玻璃空白体,其制法及其用途
公开(公告)号：TW583150B
公开(公告)日：2004-04-11
申请号：TW091125264
申请日：2002-10-25
申请人：信越石英股份有限公司 SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , 赫里斯果斯克來斯有限兩合公司 HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO.KG
发明人：波多昆恩 KUHN, BODO , 布諾維賓 UEBBING, BRUNO , 馬丁托莫 TROMMER MARTIN , 史帝芬歐克斯 OCHS, STEFAN , 史帝芬凱瑟 KAISER, STEFFEN , 詹維德拉 VYDRA, JAN , 史帝芬湯瑪士 THOMAS, STEPHAN
IPC分类号： C03C , C03B
CPC分类号： C03C4/0071 , C03B19/1453 , C03B19/1469 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , Y02P40/57
摘要：本發明係有關供波長250奈米(nm)或更短者的紫外輻射透射用的光學組件用之石英玻璃空白體，及有關該石英玻璃空白體在配合波長250奈米或更短者的紫外輻射的微型刻板術中之用途。再者，本發明係有關一種製造該石英玻璃空白體的方法。
所述類型的石英玻璃空白體應該顯示出很少的誘導吸收且針對壓實和解壓實予以最優化。本發明石英玻璃空白體的特徵在於具有下列性質：基本上不含氧缺陷部位的玻璃構造，在0.1×1016分子/立方公分到4.0×1016分子/立方公分範圍內的H2-含量，在125wt-ppm到450wt-ppm的OH-含量，少於5×1016分子/立方公分的SiH基含量，小於2ppm的折射率不勻性，△n，及小於2奈米/公分的應變雙折射。
於本發明用途中，該石英玻璃空白體就其最小和最大氫含量與OH-含量，CH2min，CH2max，和COH分別符合因次定則(2)，(3)，和(4)，其中P為脈衝數且ε為能量密度： CH2min[分子/立方公分]=1×106ε2P (2)， CH2max[分子/立方公分]=2×1018ε (3)， COH[wt-ppm]=1.700×ε[毫焦/平方公分]0.4±50 (4)。
本發明方法的特徵在於經由將第一和第二石英玻璃於勻化處理過程中混合而產生一混合石英玻璃。
简体摘要：本发明系有关供波长250奈米(nm)或更短者的紫外辐射透射用的光学组件用之石英玻璃空白体，及有关该石英玻璃空白体在配合波长250奈米或更短者的紫外辐射的微型刻板术中之用途。再者，本发明系有关一种制造该石英玻璃空白体的方法。所述类型的石英玻璃空白体应该显示出很少的诱导吸收且针对压实和解压实予以最优化。本发明石英玻璃空白体的特征在于具有下列性质：基本上不含氧缺陷部位的玻璃构造，在0.1×1016分子/立方公分到4.0×1016分子/立方公分范围内的H2-含量，在125wt-ppm到450wt-ppm的OH-含量，少于5×1016分子/立方公分的SiH基含量，小于2ppm的折射率不匀性，△n，及小于2奈米/公分的应变双折射。于本发明用途中，该石英玻璃空白体就其最小和最大氢含量与OH-含量，CH2min，CH2max，和COH分别符合因次定则(2)，(3)，和(4)，其中P为脉冲数且ε为能量密度： CH2min[分子/立方公分]=1×106ε2P (2)， CH2max[分子/立方公分]=2×1018ε (3)， COH[wt-ppm]=1.700×ε[毫焦/平方公分]0.4±50 (4)。本发明方法的特征在于经由将第一和第二石英玻璃于匀化处理过程中混合而产生一混合石英玻璃。

6. 发明专利

TW343959B 燃燒液態反應劑形成熔融矽石之方法及裝置失效
简体标题：燃烧液态反应剂形成熔融硅石之方法及设备
公开(公告)号：TW343959B
公开(公告)日：1998-11-01
申请号：TW086100125
申请日：1997-04-07
申请人：康寧公司
发明人：伊來赫特魯地 , 帶尼華倫賀特 , 答尼李哈德森 , 葛立尤金史密司
IPC分类号： C01B
CPC分类号： B01J19/26 , B01J2219/00157 , B01J2219/00159 , C01B33/183 , C03B19/1415 , C03B19/1423 , C03B37/01413 , C03B37/0142 , C03B2207/06 , C03B2207/14 , C03B2207/20 , C03B2207/32 , C03B2207/34 , C03B2207/42 , C03B2207/80 , C03C1/00 , C03C3/06 , C03C2201/06 , C03C2203/40 , Y02P40/57
摘要：本發明係關於一種製造矽石之方法。提供液態不含鹵化物能夠藉由熱氧化分解為SiO2之含矽化合物以及直接地加入燃燒器火焰，因而形成微細分離非結晶粉塵。非結晶粉塵沉積於承受器表面上，與沉積同時或隨後將粉塵固結為熔融砂石玻璃物體。本發明更進一步係關於一種由液態不含鹵化物之含矽化合物形成熔融矽石之裝置，其包含：在操作時產生火焰之燃燒器；供應液態含矽化合物至火焰以藉由熱氧化分解將化合物轉化為微細分離非結晶粉塵之注入器；以及承受器表白，粉塵將沉積在該表面上。
简体摘要：本发明系关于一种制造硅石之方法。提供液态不含卤化物能够借由热氧化分解为SiO2之含硅化合物以及直接地加入燃烧器火焰，因而形成微细分离非结晶粉尘。非结晶粉尘沉积于承受器表面上，与沉积同时或随后将粉尘固结为熔融砂石玻璃物体。本发明更进一步系关于一种由液态不含卤化物之含硅化合物形成熔融硅石之设备，其包含：在操作时产生火焰之燃烧器；供应液态含硅化合物至火焰以借由热氧化分解将化合物转化为微细分离非结晶粉尘之注入器；以及承受器表白，粉尘将沉积在该表面上。

7. 发明专利

TWI608997B 奈米壓印模具用合成石英玻璃及其製造方法有权
简体标题：奈米压印模具用合成石英玻璃及其制造方法
公开(公告)号：TWI608997B
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW102124524
申请日：2013-07-09
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：每田繁 , MAIDA, SHIGERU , 大塚久利 , OTSUKA, HISATOSHI
IPC分类号： C03B20/00 , B82Y40/00 , C03C3/04 , C03C4/00
CPC分类号： C03C3/04 , B29C33/38 , C03B19/1453 , C03B20/00 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/52 , Y02P40/57

8. 发明专利

TW201625493A 製造用於ＥＵＶ微影術之高矽酸含量的氟與鈦摻雜玻璃底板的方法及由該方法製造之底板审中-公开
简体标题：制造用于ＥＵＶ微影术之高硅酸含量的氟与钛掺杂玻璃底板的方法及由该方法制造之底板
公开(公告)号：TW201625493A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104129797
申请日：2015-09-09
申请人：信越石英股份有限公司 , SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. , 赫里斯果斯克來斯有限兩合公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
发明人：歐克斯史帝芬 , OCHS, STEFAN , 貝克克勞斯 , BECKER, KLAUS
IPC分类号： C03B19/14 , C03B8/04 , C03C3/06 , C03C4/00 , H01L23/15 , G03F1/22
CPC分类号： G03F1/22 , C03B19/06 , C03B19/14 , C03B19/1453 , C03B19/1461 , C03B32/00 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/23 , C03B2201/42 , C03C3/04 , C03C3/06 , C03C21/007 , C03C23/00 , C03C23/007 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/54 , G03F1/24 , G03F1/60 , G03F7/00
摘要：本發明係關於一種製造用於EUV微影術之經鈦與氟共摻雜的矽石玻璃底板之方法，該玻璃底板在樣本厚度為10mm下，於400nm至700nm之波長範圍的內透射為至少60%，鈦係以Ti3+及Ti4+之氧化形式存在，該方法包括下列步驟：(a)利用含矽及含鈦之前驅物質的火焰水解(flame hydrolysis)製造TiO2-SiO2煙灰體，(b)將該煙灰體氟化以形成氟摻雜之TiO2-SiO2煙灰體，(c)在含水蒸氣之氣氛中處理該氟摻雜之TiO2-SiO2煙灰體以形成經調理之煙灰體，及(d)將該經調理之煙灰體玻璃化以形成平均OH含量在 10至100wt.ppm之範圍，且平均氟含量在2,500至10,000wt.ppm之範圍的鈦摻雜矽石玻璃之底板。而且在還原氣氛於該底板上作用之後，藉由水蒸氣處理所引入之OH基團顯示在用作Ti3+離子內氧化成Ti4+離子之貯藏所方面的延長作用期間，因此Ti3+/Ti4+之比可調整至2×10-4之值。
简体摘要：本发明系关于一种制造用于EUV微影术之经钛与氟共掺杂的硅石玻璃底板之方法，该玻璃底板在样本厚度为10mm下，于400nm至700nm之波长范围的内透射为至少60%，钛系以Ti3+及Ti4+之氧化形式存在，该方法包括下列步骤：(a)利用含硅及含钛之前驱物质的火焰水解(flame hydrolysis)制造TiO2-SiO2烟灰体，(b)将该烟灰体氟化以形成氟掺杂之TiO2-SiO2烟灰体，(c)在含水蒸气之气氛中处理该氟掺杂之TiO2-SiO2烟灰体以形成经调理之烟灰体，及(d)将该经调理之烟灰体玻璃化以形成平均OH含量在 10至100wt.ppm之范围，且平均氟含量在2,500至10,000wt.ppm之范围的钛掺杂硅石玻璃之底板。而且在还原气氛于该底板上作用之后，借由水蒸气处理所引入之OH基团显示在用作Ti3+离子内氧化成Ti4+离子之贮藏所方面的延长作用期间，因此Ti3+/Ti4+之比可调整至2×10-4之值。

9. 发明专利

TW201546010A 具有按組成變化之Ｔｚｃ梯度的低膨脹矽石－鈦氧化物製品审中-公开
简体标题：具有按组成变化之Ｔｚｃ梯度的低膨胀硅石－钛氧化物制品
公开(公告)号：TW201546010A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104103087
申请日：2015-01-29
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：安吉爾威廉R 四世 , ANGELL IV, WILLIAM R , 安那馬萊瑟海恩 , ANNAMALAI, SEZHIAN , 杜蘭卡洛斯艾柏托 , DURAN, CARLOS ALBERTO , 麥克斯恩約翰艾德華 , MAXON, JOHN EDWARD
IPC分类号： C03C3/06 , C03C3/076 , G03F1/24 , C03B19/00
CPC分类号： C03C3/076 , C03B19/09 , C03B19/1407 , C03B19/1415 , C03B2201/42 , C03B2207/50 , C03C3/06 , C03C3/062 , C03C2201/23 , C03C2201/42 , C03C2203/10 , C03C2203/40 , G03F1/24 , G03F1/60
摘要：本發明提供一種供超紫外光微影(Extreme Ultra-Violet Lithography；EUVL)中使用的玻璃製品。玻璃製品包括具有穿過玻璃製品之組成梯度的矽石-鈦氧化物玻璃，該組成梯度藉由以下函數界定：[TiO2]=(c+f(x,y,z))，及[SiO2]=(100-{c+f(x,y,z)}-δ(x,y,z))其中[TiO2]係以重量%為單位的鈦氧化物濃度，[SiO2]係以重量%為單位的矽石濃度，c係針對預定零交越溫度(Tzc)以重量%為單位的鈦氧化物濃度，f(x,y,z)係三維空間中的函數，該函數界定相對於c集中在坐標(x,y,z)處的體積元素之平均組成中的差，且δ(x,y,z)係三維空間中的函數，該函數界定集中在坐標(x,y,z)處的體積元素之所有其他組份的和。
简体摘要：本发明提供一种供超紫外光微影(Extreme Ultra-Violet Lithography；EUVL)中使用的玻璃制品。玻璃制品包括具有穿过玻璃制品之组成梯度的硅石-钛氧化物玻璃，该组成梯度借由以下函数界定：[TiO2]=(c+f(x,y,z))，及[SiO2]=(100-{c+f(x,y,z)}-δ(x,y,z))其中[TiO2]系以重量%为单位的钛氧化物浓度，[SiO2]系以重量%为单位的硅石浓度，c系针对预定零交越温度(Tzc)以重量%为单位的钛氧化物浓度，f(x,y,z)系三维空间中的函数，该函数界定相对于c集中在坐标(x,y,z)处的体积元素之平均组成中的差，且δ(x,y,z)系三维空间中的函数，该函数界定集中在坐标(x,y,z)处的体积元素之所有其他组份的和。

10. 发明专利

TW201437156A 用於製造經鈦摻雜之合成石英玻璃之方法审中-公开
简体标题：用于制造经钛掺杂之合成石英玻璃之方法
公开(公告)号：TW201437156A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW103104470
申请日：2014-02-11
申请人：何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
发明人：法畢安漢斯 , FABIAN, HEINZ , 湯瑪士史蒂分 , THOMAS, STEPHAN
IPC分类号： C03B20/00 , C03C3/06
CPC分类号： C03B19/1415 , C03B19/14 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03B2207/32 , C03B2207/34 , C03C3/06 , C03C2201/42 , C03C2203/40
摘要：本發明係關於一種用於製造經鈦摻雜之合成石英玻璃之已知方法，其包含以下程序步驟：(A)提供液體SiO2原料材料(105)，其包含大於60重量%聚烷基矽氧烷D4；(B)蒸發該液體SiO2原料材料(105)以產生氣態SiO2原料蒸氣(107)；(C)蒸發液體TiO2原料材料(205)以產生氣態TiO2原料蒸氣(207)；(D)將該SiO2原料蒸氣(107)及該TiO2原料蒸氣分別轉化成SiO2粒子及TiO2粒子；(E)將該等SiO2粒子及該等TiO2粒子沈積於沈積表面(160)上，同時形成經鈦摻雜之SiO2灰體(200)；(F)使該經鈦摻雜之SiO2灰體玻璃化，同時形成該合成石英玻璃，由此該合成石英玻璃之TiO2濃度係在5重量%與11重量%之間。根據本發明之範疇，該液體SiO2原料材料(105)包含至少一種由重量分率為mD3之聚烷基矽氧烷D3製成之其他組份及一種由重量分率為mD5之聚烷基矽氧烷D5製成之其他組份(mD3/mD5之重量比在0.01至1範圍內)，且蒸發所提供之該液體SiO2原料材料(105)同時保持mD3/mD5之重量比，且使其至少99重量%蒸發以形成該氣態SiO2原料蒸氣(107)。
简体摘要：本发明系关于一种用于制造经钛掺杂之合成石英玻璃之已知方法，其包含以下进程步骤：(A)提供液体SiO2原料材料(105)，其包含大于60重量%聚烷基硅氧烷D4；(B)蒸发该液体SiO2原料材料(105)以产生气态SiO2原料蒸气(107)；(C)蒸发液体TiO2原料材料(205)以产生气态TiO2原料蒸气(207)；(D)将该SiO2原料蒸气(107)及该TiO2原料蒸气分别转化成SiO2粒子及TiO2粒子；(E)将该等SiO2粒子及该等TiO2粒子沉积于沉积表面(160)上，同时形成经钛掺杂之SiO2灰体(200)；(F)使该经钛掺杂之SiO2灰体玻璃化，同时形成该合成石英玻璃，由此该合成石英玻璃之TiO2浓度系在5重量%与11重量%之间。根据本发明之范畴，该液体SiO2原料材料(105)包含至少一种由重量分率为mD3之聚烷基硅氧烷D3制成之其他组份及一种由重量分率为mD5之聚烷基硅氧烷D5制成之其他组份(mD3/mD5之重量比在0.01至1范围内)，且蒸发所提供之该液体SiO2原料材料(105)同时保持mD3/mD5之重量比，且使其至少99重量%蒸发以形成该气态SiO2原料蒸气(107)。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式