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1. 发明专利

TWI610880B 半撓性的驗證質量有权
简体标题：半挠性的验证质量
公开(公告)号：TWI610880B
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：TW105129586
申请日：2016-09-12
申请人：村田製作所股份有限公司 , MURATA MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：布洛克菲斯特安西 , BLOMQVIST, ANSSI , 瑞特庫尼斐勒佩卡 , RYTKONEN, VILLE-PEKKA , 里歐庫瑪堤 , LIUKKU, MATTI
IPC分类号： B81B3/00 , B81B7/00 , B81C1/00 , G01P15/08 , G01P15/125
CPC分类号： G01M7/08 , B81B3/001 , B81B3/0013 , B81B7/0016 , B81B2201/0235 , B81C1/00968 , G01P15/0802 , G01P15/125 , G01P2015/0814 , G01P2015/0874

2. 发明专利

TW302554B 使微機械裝置的組件不會黏著之方法失效
简体标题：使微机械设备的组件不会黏着之方法
公开(公告)号：TW302554B
公开(公告)日：1997-04-11
申请号：TW085101698
申请日：1996-02-12
申请人：德州儀器公司
发明人：杜孟泰 , 魏羅伯
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B81C1/0096 , B81C1/00968 , B81C2201/117 , G02B26/0841 , H01H1/0036
摘要：一種分開微機械裝置(20)接觸元件(11，17)黏合現象之方法。該裝置被曝露於帶有表面活化劑(32)的低表面張力液體、或曝露於超臨界流體(62)，以避免對該裝置(30)的易破碎零件造成損壞。曝露條件係受到控制，以便得到最佳的結果而不會對該裝置造成傷害。
简体摘要：一种分开微机械设备(20)接触组件(11，17)黏合现象之方法。该设备被曝露于带有表面活化剂(32)的低表面张力液体、或曝露于超临界流体(62)，以避免对该设备(30)的易破碎零件造成损坏。曝露条件系受到控制，以便得到最佳的结果而不会对该设备造成伤害。

3. 发明专利

TW201544617A 形成抗沾黏塗層的方法與其抗沾黏塗層审中-公开
简体标题：形成抗沾黏涂层的方法与其抗沾黏涂层
公开(公告)号：TW201544617A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW103122675
申请日：2014-07-01
申请人：立景光電股份有限公司 , HIMAX DISPLAY, INC.
发明人：蓋德羅蘭德V , GELDER, ROLAND V.
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/00 , C23C16/455 , B01D1/00 , B05D5/08 , G02B26/00
CPC分类号： B81C1/00968 , B81B3/0005 , B81B2201/042 , B81C1/00984 , B81C2201/112 , C09D1/00 , C09D4/00 , C10M109/02 , C10N2240/20 , G02B1/12 , G02B1/16 , G02B26/0833
摘要：提出一種在半導體元件的表面上形成抗沾黏塗層的方法。在抗沾黏塗層沉積之前，先使用原子層沉積程序以活化表面，以取得對表面具有強化學鍵結的抗沾黏塗層。
简体摘要：提出一种在半导体组件的表面上形成抗沾黏涂层的方法。在抗沾黏涂层沉积之前，先使用原子层沉积进程以活化表面，以取得对表面具有强化学键结的抗沾黏涂层。

4. 发明专利

TW335561B 使微機械裝置的組件不會黏著之方法(二) 失效
简体标题：使微机械设备的组件不会黏着之方法(二)
公开(公告)号：TW335561B
公开(公告)日：1998-07-01
申请号：TW085113016
申请日：1996-02-12
申请人：德州儀器公司
发明人：杜孟泰 , 魏羅伯
IPC分类号： H01L
CPC分类号： B81C1/0096 , B81C1/00968 , B81C2201/117 , G02B26/0841 , H01H1/0036
摘要：一種分開微機械裝置（20）接觸元件（11，17）黏合現象之方法。該裝置被曝露於帶有表面活化劑（32）的低表面張力液體、或曝露於超臨界流體（62），以避免對該裝置（30）的易破碎零件造成損壞。曝露條件係受到控制，以便得到最佳的結果而不會對該裝置造成傷害。
简体摘要：一种分开微机械设备（20）接触组件（11，17）黏合现象之方法。该设备被曝露于带有表面活化剂（32）的低表面张力液体、或曝露于超临界流体（62），以避免对该设备（30）的易破碎零件造成损坏。曝露条件系受到控制，以便得到最佳的结果而不会对该设备造成伤害。

5. 发明专利

TW201720745A 半撓性的驗證質量审中-公开
简体标题：半挠性的验证质量
公开(公告)号：TW201720745A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW105129586
申请日：2016-09-12
申请人：村田製作所股份有限公司 , MURATA MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：布洛克菲斯特安西 , BLOMQVIST, ANSSI , 瑞特庫尼斐勒佩卡 , RYTKONEN, VILLE-PEKKA , 里歐庫瑪堤 , LIUKKU, MATTI
IPC分类号： B81B3/00 , B81B7/00 , B81C1/00 , G01P15/08 , G01P15/125
CPC分类号： G01M7/08 , B81B3/001 , B81B3/0013 , B81B7/0016 , B81B2201/0235 , B81C1/00968 , G01P15/0802 , G01P15/125 , G01P2015/0814 , G01P2015/0874
摘要：本發明係關於一種微機電裝置，其包括一半撓性驗證質量，該半撓性驗證質量包含至少一個初級部分、至少一個次級部分以及懸置該半撓性驗證質量之所述至少一個初級部分及所述至少一個次級部分的至少一個剛性彈簧。該剛性彈簧實質上使得所述至少一個初級部分及所述至少一個次級部分在該裝置處於其正常操作範圍內時作為單個、剛性實體移動。該裝置進一步包括經組態以使所述至少一個初級部分停止之至少一個第一擋止件結構。該半撓性驗證質量經組態以在該裝置經受藉由超出該裝置之該正常操作範圍之一力衝擊該裝置之一震動時經由所述至少一個剛性彈簧之偏轉而變形。在該震動引起該半撓性驗證質量至少沿著一移動軸在一個方向上之一運動時，所述至少一個剛性彈簧進一步經組態以產生一恢復力，該恢復力使得至少該半撓性驗證質量之所述至少一個次級部分被驅動進入在與由該震動引起之沿著該移動軸之該運動相反之一方向上的一恢復運動，其中處於該恢復運動中之所述至少一個次級部分之動量進一步使得所述至少一個初級部分自該第一擋止件結構移走。
简体摘要：本发明系关于一种微机电设备，其包括一半挠性验证质量，该半挠性验证质量包含至少一个初级部分、至少一个次级部分以及悬置该半挠性验证质量之所述至少一个初级部分及所述至少一个次级部分的至少一个刚性弹簧。该刚性弹簧实质上使得所述至少一个初级部分及所述至少一个次级部分在该设备处于其正常操作范围内时作为单个、刚性实体移动。该设备进一步包括经组态以使所述至少一个初级部分停止之至少一个第一挡止件结构。该半挠性验证质量经组态以在该设备经受借由超出该设备之该正常操作范围之一力冲击该设备之一震动时经由所述至少一个刚性弹簧之偏转而变形。在该震动引起该半挠性验证质量至少沿着一移动轴在一个方向上之一运动时，所述至少一个刚性弹簧进一步经组态以产生一恢复力，该恢复力使得至少该半挠性验证质量之所述至少一个次级部分被驱动进入在与由该震动引起之沿着该移动轴之该运动相反之一方向上的一恢复运动，其中处于该恢复运动中之所述至少一个次级部分之动量进一步使得所述至少一个初级部分自该第一挡止件结构移走。

6. 发明专利

TWI532868B 形成抗沾黏塗層的方法與其抗沾黏塗層有权
简体标题：形成抗沾黏涂层的方法与其抗沾黏涂层
公开(公告)号：TWI532868B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW103122675
申请日：2014-07-01
申请人：立景光電股份有限公司 , HIMAX DISPLAY, INC.
发明人：蓋德羅蘭德V , GELDER, ROLAND V.
IPC分类号： C23C16/02 , C23C16/00 , C23C16/455 , B01D1/00 , B05D5/08 , G02B26/00
CPC分类号： B81C1/00968 , B81B3/0005 , B81B2201/042 , B81C1/00984 , B81C2201/112 , C09D1/00 , C09D4/00 , C10M109/02 , C10N2240/20 , G02B1/12 , G02B1/16 , G02B26/0833

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