专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW358040B 適用處理低黏度液之裝置失效
简体标题：适用处理低黏度液之设备
公开(公告)号：TW358040B
公开(公告)日：1999-05-11
申请号：TW086113052
申请日：1997-09-09
申请人：赫斯特化工廠
发明人：高登.索
IPC分类号： B01D , B01J , C08G
CPC分类号： C08G63/785 , B01D1/225 , B01J10/02 , B01J19/1887
摘要：本發明有關裝置具體適用於處理低黏度聚合物液，包含一容器（１）具攪拌元件，攪拌元件６基本包含一支承結構通過容器，其上安排表面定形器。根據本發明，支承結構設計如籠狀棒架（７）。優點如下：１﹒歸因表面可連續沾濕或擦拭，可防止硬皮及不均性。２﹒因以堰板強化串級，可控制停留時間殘留，乃提高產
品品質。３﹒降低攪拌元件彎曲。
简体摘要：本发明有关设备具体适用于处理低黏度聚合物液，包含一容器（１）具搅拌组件，搅拌组件６基本包含一支承结构通过容器，其上安排表面定形器。根据本发明，支承结构设计如笼状棒架（７）。优点如下：１﹒归因表面可连续沾湿或擦拭，可防止硬皮及不均性。２﹒因以堰板强化串级，可控制停留时间残留，乃提高产品品质。３﹒降低搅拌组件弯曲。

2. 发明专利

TW200642749A 用於立式聚合反應器之擋板總成模組 BAFFLE ASSEMBLY MODULE FOR VERTICAL STAGED POLYMERIZATION REACTORS 失效
简体标题：用于立式聚合反应器之挡板总成模块 BAFFLE ASSEMBLY MODULE FOR VERTICAL STAGED POLYMERIZATION REACTORS
公开(公告)号：TW200642749A
公开(公告)日：2006-12-16
申请号：TW095115927
申请日：2006-05-04
申请人：伊士曼化學公司 EASTMAN CHEMICAL COMPANY
发明人：湯瑪士羅得永特 YOUNT, THOMAS LLOYD , 保羅凱司先爾 SCHERRER, PAUL KEITH , 賴瑞凱司溫德斯 WINDES, LARRY CATES
IPC分类号： B01J , C08F
CPC分类号： B01J19/247 , B01J10/02 , B01J19/0006 , B01J19/32 , B01J19/325 , B01J2219/0077 , B01J2219/32206 , B01J2219/32213 , B01J2219/32234 , B01J2219/32272 , B01J2219/3306 , C08G63/785
摘要：本發明提供一種總成，其用於重力流驅動之立式聚合反應器，以組合高黏度、高產量及淺聚合物深度。本發明之擋板總成模組包括一具有複數個側面開口之支持結構。該等側面開口允許自聚合物溶體釋放出之蒸汽逸出。該總成進一步包括一在兩個或兩個以上垂直排列之擋板列之前的進料分裂器，其中該進料分裂器及該等擋板依序定位於該支持結構中。一列中之複數個平行擋板成角度，以使得當一聚合物溶體接觸一給定擋板時該聚合物溶體在重力作用下於一向下方向上移動。該等列之配置使得每一列(除最低列外)輸送該聚合物溶體至一較低的垂直鄰近列直至達到該模組中之最後一列擋板。根據該擋板總成模組中之組件之立式配置及藉由堆疊額外的擋板總成模組(若在反應器內需要)，該聚合物溶體沿反應容器內部之垂直長度成瀑布流下。本發明亦提供一種結合本發明之總成的聚合反應器及一種藉由使用本發明之總成來增加聚合物溶體之聚合程度的方法。
简体摘要：本发明提供一种总成，其用于重力流驱动之立式聚合反应器，以组合高黏度、高产量及浅聚合物深度。本发明之挡板总成模块包括一具有复数个侧面开口之支持结构。该等侧面开口允许自聚合物溶体释放出之蒸汽逸出。该总成进一步包括一在两个或两个以上垂直排列之挡板列之前的进料分裂器，其中该进料分裂器及该等挡板依序定位于该支持结构中。一列中之复数个平行挡板成角度，以使得当一聚合物溶体接触一给定挡板时该聚合物溶体在重力作用下于一向下方向上移动。该等列之配置使得每一列(除最低列外)输送该聚合物溶体至一较低的垂直邻近列直至达到该模块中之最后一列挡板。根据该挡板总成模块中之组件之立式配置及借由堆栈额外的挡板总成模块(若在反应器内需要)，该聚合物溶体沿反应容器内部之垂直长度成瀑布流下。本发明亦提供一种结合本发明之总成的聚合反应器及一种借由使用本发明之总成来增加聚合物溶体之聚合程度的方法。

3. 发明专利

TW200300702A 混合器、薄膜製造裝置及薄膜製造方法审中-公开
简体标题：混合器、薄膜制造设备及薄膜制造方法
公开(公告)号：TW200300702A
公开(公告)日：2003-06-16
申请号：TW091135080
申请日：2002-12-03
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：山田貴一 , 增田健 , 沼雅彥 , 植松正紀 , 鄒紅罡
IPC分类号： C23C , H01L , B01J
CPC分类号： C23C16/45502 , B01F3/02 , B01F5/0256 , B01F2215/0427 , B01J4/001 , B01J10/02 , B01J19/247 , C23C16/4412 , C23C16/45512 , C23C16/45519 , C23C16/4558 , C23C16/4585 , H01L21/67017
摘要：一種混合器、薄膜製造裝置及薄膜製造方法，是具有：二支氣體導入管5、6分別將氣體導入口5a、5b互相設成對向的攪拌室2、及混合氣體的擴散室3，在攪拌室及擴散室之間，設置特定形狀之間隔板4使擴散室容積大於攪拌室容積，在間隔板，是在連結二個氣體導入口之直線的垂直方向下側之預定位置設有一個噴氣口7，可均勻地來混合重量不同之氣體的簡單構成之混合器1。間隔板，對於混合器之底部具有凸狀的二次曲線形狀。使用具備該混合器1之薄膜製造裝置及在該混合器內混合成均勻的成膜氣體來形成薄膜之薄膜製造方法。又，以簡單的構造且低廉的成本可製作，並且，可抑制亂流、對流及熱對流的產生可將混合氣體的氣流形成均勻的薄膜製造裝置中，在真空反應室2內部設有載置基板的載物台53，對向於載物台53在真空反應室2上面之中央部配設氣頭57來導入成膜氣體到真空反應室內。密接於載物台53的側壁，設置具有預定長度之圓筒形狀的套管構件61來包圍其周圍，介於該套管構件及構成反應室的內壁面之間的間隙，使排氣在形成氣頭及載物台的第1空間內不會對流而從第1空間來各向排氣，連接真空排氣手段55之載物台下側的第2空間之容積在比第1空間之容積更大的位置來設定載物台之高度位置。
简体摘要：一种混合器、薄膜制造设备及薄膜制造方法，是具有：二支气体导入管5、6分别将气体导入口5a、5b互相设成对向的搅拌室2、及混合气体的扩散室3，在搅拌室及扩散室之间，设置特定形状之间隔板4使扩散室容积大于搅拌室容积，在间隔板，是在链接二个气体导入口之直线的垂直方向下侧之预定位置设有一个喷气口7，可均匀地来混合重量不同之气体的简单构成之混合器1。间隔板，对于混合器之底部具有凸状的二次曲线形状。使用具备该混合器1之薄膜制造设备及在该混合器内混合成均匀的成膜气体来形成薄膜之薄膜制造方法。又，以简单的构造且低廉的成本可制作，并且，可抑制乱流、对流及热对流的产生可将混合气体的气流形成均匀的薄膜制造设备中，在真空反应室2内部设有载置基板的载物台53，对向于载物台53在真空反应室2上面之中央部配设气头57来导入成膜气体到真空反应室内。密接于载物台53的侧壁，设置具有预定长度之圆筒形状的套管构件61来包围其周围，介于该套管构件及构成反应室的内壁面之间的间隙，使排气在形成气头及载物台的第1空间内不会对流而从第1空间来各向排气，连接真空排气手段55之载物台下侧的第2空间之容积在比第1空间之容积更大的位置来设置载物台之高度位置。

4. 发明专利

TWI253479B 混合器、薄膜製造裝置及薄膜製造方法有权
简体标题：混合器、薄膜制造设备及薄膜制造方法
公开(公告)号：TWI253479B
公开(公告)日：2006-04-21
申请号：TW091135080
申请日：2002-12-03
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：山田貴一 YAMADA, TAKAKAZU , 增田健 MASUDA, TAKESHI , 沼雅彥 KAJINUMA, MASAHIKO , 植松正紀 UEMATSU, MASAKI , 鄒紅罡 SUU, KOUKOU
IPC分类号： C23C , H01L , B01J
CPC分类号： C23C16/45502 , B01F3/02 , B01F5/0256 , B01F2215/0427 , B01J4/001 , B01J10/02 , B01J19/247 , C23C16/4412 , C23C16/45512 , C23C16/45519 , C23C16/4558 , C23C16/4585 , H01L21/67017
摘要：一種混合器、薄膜製造裝置及薄膜製造方法，是具有：二支氣體導入管5、6分別將氣體導入口5a、5b互相設成對向的攪拌室2、及混合氣體的擴散室3，在攪拌室及擴散室之間，設置特定形狀之間隔板4使擴散室容積大於攪拌室容積，在間隔板，是在連結二個氣體導入口之直線的垂直方向下側之預定位置設有一個噴氣口7，可均勻地來混合重量不同之氣體的簡單構成之混合器1。間隔板，對於混合器之底部具有凸狀的二次曲線形狀。使用具備該混合器1之薄膜製造裝置及在該混合器內混合成均勻的成膜氣體來形成薄膜之薄膜製造方法。
又，以簡單的構造且低廉的成本可製作，並且，可抑制亂流、對流及熱對流的產生可將混合氣體的氣流形成均勻的薄膜製造裝置中，在真空反應室2內部設有載置基板的載物台53，對向於載物台53在真空反應室2上面之中央部配設氣頭57來導入成膜氣體到真空反應室內。密接於載物台53的側壁，設置具有預定長度之圓筒形狀的套管構件61來包圍其周圍，介於該套管構件及構成反應室的內壁面之間的間隙，使排氣在形成氣頭及載物台的第1空間內不會對流而從第1空間來各向排氣，連接真空排氣手段55之載物台下側的第2空間之容積在比第1空間之容積更大的位置來設定載物台之高度位置。
简体摘要：一种混合器、薄膜制造设备及薄膜制造方法，是具有：二支气体导入管5、6分别将气体导入口5a、5b互相设成对向的搅拌室2、及混合气体的扩散室3，在搅拌室及扩散室之间，设置特定形状之间隔板4使扩散室容积大于搅拌室容积，在间隔板，是在链接二个气体导入口之直线的垂直方向下侧之预定位置设有一个喷气口7，可均匀地来混合重量不同之气体的简单构成之混合器1。间隔板，对于混合器之底部具有凸状的二次曲线形状。使用具备该混合器1之薄膜制造设备及在该混合器内混合成均匀的成膜气体来形成薄膜之薄膜制造方法。又，以简单的构造且低廉的成本可制作，并且，可抑制乱流、对流及热对流的产生可将混合气体的气流形成均匀的薄膜制造设备中，在真空反应室2内部设有载置基板的载物台53，对向于载物台53在真空反应室2上面之中央部配设气头57来导入成膜气体到真空反应室内。密接于载物台53的侧壁，设置具有预定长度之圆筒形状的套管构件61来包围其周围，介于该套管构件及构成反应室的内壁面之间的间隙，使排气在形成气头及载物台的第1空间内不会对流而从第1空间来各向排气，连接真空排气手段55之载物台下侧的第2空间之容积在比第1空间之容积更大的位置来设置载物台之高度位置。

5. 发明专利

TW302291B 處理反應器內污染氣體和液體的方法和裝置失效
简体标题：处理反应器内污染气体和液体的方法和设备
公开(公告)号：TW302291B
公开(公告)日：1997-04-11
申请号：TW084108816
申请日：1995-08-24
申请人：奧特拉萊特股份有限公司
发明人：卡爾.普吉必拉 , 格洛.培索
IPC分类号： B01D , B05B
CPC分类号： C02F1/325 , A61L2/08 , B01D53/007 , B01D53/78 , B01J10/02 , B01J19/2405 , B01J19/247 , B01J2219/00076 , C02F2201/3228
摘要：處理反應器內污染氣體和液體的方裝置
於純化被污染的液體和氣體的方法中，係利用一噴嘴（１５）製成一連續表面膜（３１）並同時用適當輻射源（１７），例如，ＵＶ燈，予以照射。該表面膜（３１）以落膜或淋膜（３３）的形式排出，該膜亦接受輻射照射。將要純化的氣體通過該表面膜（３１）。於這於條件中，污染粒子和氣體中的其他污染物即被液體吸收。上述方法的優點在於污染物的分解在氣相中和液相中都會發生。在氣相中未分解的旯體污染物會被液體所吸收，並於液體中最後分解掉。使用本發明可以同時處理液體和氣體。
简体摘要：处理反应器内污染气体和液体的方设备于纯化被污染的液体和气体的方法中，系利用一喷嘴（１５）制成一连续表面膜（３１）并同时用适当辐射源（１７），例如，ＵＶ灯，予以照射。该表面膜（３１）以落膜或淋膜（３３）的形式排出，该膜亦接受辐射照射。将要纯化的气体通过该表面膜（３１）。于这于条件中，污染粒子和气体中的其他污染物即被液体吸收。上述方法的优点在于污染物的分解在气相中和液相中都会发生。在气相中未分解的旯体污染物会被液体所吸收，并于液体中最后分解掉。使用本发明可以同时处理液体和气体。

7. 发明专利

TWI409099B 用於立式聚合反應器之擋板總成模組失效
简体标题：用于立式聚合反应器之挡板总成模块
公开(公告)号：TWI409099B
公开(公告)日：2013-09-21
申请号：TW095115927
申请日：2006-05-04
申请人：伊士曼化學公司 , EASTMAN CHEMICAL COMPANY
发明人：湯瑪士羅得永特 , YOUNT, THOMAS LLOYD , 保羅凱司先爾 , SCHERRER, PAUL KEITH , 賴瑞凱司溫德斯 , WINDES, LARRY CATES
IPC分类号： B01J10/00 , B01J19/00 , B01J19/24 , C08F2/00
CPC分类号： B01J19/247 , B01J10/02 , B01J19/0006 , B01J19/32 , B01J19/325 , B01J2219/0077 , B01J2219/32206 , B01J2219/32213 , B01J2219/32234 , B01J2219/32272 , B01J2219/3306 , C08G63/785

8. 发明专利

TW200704433A 一靜止薄膜產生器及用於垂直安置之聚合作用反應器之薄膜支撐結構 A FAMILY OF STATIONARY FILM GENERATORS AND FILM SUPPORT STRUCTURES FOR VERTICAL STAGED POLYMERIZATION REACTORS 审中-公开
简体标题：一静止薄膜产生器及用于垂直安置之聚合作用反应器之薄膜支撑结构 A FAMILY OF STATIONARY FILM GENERATORS AND FILM SUPPORT STRUCTURES FOR VERTICAL STAGED POLYMERIZATION REACTORS
公开(公告)号：TW200704433A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095115834
申请日：2006-05-04
申请人：伊士曼化學公司 EASTMAN CHEMICAL COMPANY
发明人：賴瑞凱司溫德斯 WINDES, LARRY CATES , 威廉史潘特莫得可 MURDOCH, WILLIAM SPEIGHT , 湯瑪士羅得永特 YOUNT, THOMAS LLOYD , 保羅凱司先爾 SCHERRER, PAUL KEITH , 理查吉爾邦諾 BONNER, RICHARD GILL , 克里斯多夫史考特史拉特 SLAUGHTER, CHRISTOPHER SCOTT
IPC分类号： B01J , C08F
CPC分类号： B01J19/247 , B01J10/02 , B01J19/006 , B01J19/32 , B01J19/325 , B01J2219/00768 , B01J2219/32206 , B01J2219/32213 , B01J2219/32227 , B01J2219/32237 , B01J2219/32255 , B01J2219/32272 , B01J2219/32275 , B01J2219/32286 , B01J2219/32289 , B01J2219/32408 , B01J2219/32416 , B01J2219/32491 , C08G63/785
摘要：本發明提供一種用於垂直、重力流驅動之聚合作用反應器之束流總成(bundle assembly),該聚合作用反應器用於高黏度、高產量及薄聚合物薄膜之組合。該束流總成包括提供較大區域自由液體表面與反應器氣體接觸且同時仍獲得充分液體停滯時間以發生聚合作用的靜態內部組件。該束流總成包括一或多個靜止薄膜產生器。該束流總成進一步包括薄膜支撐結構之一或多個靜止陣列。該等薄膜支撐結構各具有一第一側及一第二側。薄膜支撐結構之兩側各以流動聚合物塗覆。束流總成中組件之垂直排列導致聚合物熔體向下噴流一併入該束流總成之反應容器內部的垂直長度。本發明亦提供一種結合本發明之該總成之聚合作用反應器,及一種藉由使用本發明之總成來增加一聚合物熔體之聚合度的方法。
简体摘要：本发明提供一种用于垂直、重力流驱动之聚合作用反应器之束流总成(bundle assembly),该聚合作用反应器用于高黏度、高产量及薄聚合物薄膜之组合。该束流总成包括提供较大区域自由液体表面与反应器气体接触且同时仍获得充分液体停滞时间以发生聚合作用的静态内部组件。该束流总成包括一或多个静止薄膜产生器。该束流总成进一步包括薄膜支撑结构之一或多个静止数组。该等薄膜支撑结构各具有一第一侧及一第二侧。薄膜支撑结构之两侧各以流动聚合物涂覆。束流总成中组件之垂直排列导致聚合物熔体向下喷流一并入该束流总成之反应容器内部的垂直长度。本发明亦提供一种结合本发明之该总成之聚合作用反应器,及一种借由使用本发明之总成来增加一聚合物熔体之聚合度的方法。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式