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1. 发明专利

TWI270627B 具有滲漏偵測功能之滲漏偵測器之管路結構 PIPING STRUCTURE HAVING LEAK DETECTION FUNCTION AND LEAK DETECTOR 失效
简体标题：具有渗漏侦测功能之渗漏侦测器之管路结构 PIPING STRUCTURE HAVING LEAK DETECTION FUNCTION AND LEAK DETECTOR
公开(公告)号：TWI270627B
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：TW094102458
申请日：2005-01-27
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：塚越雅之 MASAYUKI TSUKAGOSHI
IPC分类号： F17D , G01M
CPC分类号： G01M3/283 , F16L9/18 , F16L2201/30
摘要：具有一閥之一蓋覆構件係包圍著一撓性軟管，以形成一雙管件。複數個氣體供應管接頭係連附至該雙管件之各末端，以在該撓性軟管與該蓋覆構件之間形成一密閉空間。該蓋覆構件亦具有一壓力量測裝置，而配備有一告警裝置之一決策單元係連接至該壓力量測裝置。相同於流通過該撓性軟管者之氣體或液體，係自設於該蓋覆構件中之閥導入該密閉空間，且藉由關閉該閥而得密封於該密閉空間中。可將該密閉空間中之壓力設定成，高於氣體或液體在流動時，於該撓性軟管中所產生之壓力。該壓力量測裝置可測量出，當氣體或液體於該撓性軟管中流動時，在該密閉空間中之壓力，且該決策單元將比較該量測值與一參考值。結果，倘若由該壓力量測裝置測得之數值低於該參考值，則該決策單元將判定已發生一破壞，且接著該告警裝置將致動一告警。
简体摘要：具有一阀之一盖覆构件系包围着一挠性软管，以形成一双管件。复数个气体供应管接头系连附至该双管件之各末端，以在该挠性软管与该盖覆构件之间形成一密闭空间。该盖覆构件亦具有一压力量测设备，而配备有一告警设备之一决策单元系连接至该压力量测设备。相同于流通过该挠性软管者之气体或液体，系自设于该盖覆构件中之阀导入该密闭空间，且借由关闭该阀而得密封于该密闭空间中。可将该密闭空间中之压力设置成，高于气体或液体在流动时，于该挠性软管中所产生之压力。该压力量测设备可测量出，当气体或液体于该挠性软管中流动时，在该密闭空间中之压力，且该决策单元将比较该量测值与一参考值。结果，倘若由该压力量测设备测得之数值低于该参考值，则该决策单元将判定已发生一破坏，且接着该告警设备将致动一告警。

2. 发明专利

TW200603928A 門型XY滑動台座失效
简体标题：门型XY滑动台座
公开(公告)号：TW200603928A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：TW093129788
申请日：2004-10-01
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：岩永康志 YASUSHI IWANAGA , 水戶部和彥 KAZUHIKO MITOBE
IPC分类号： B23K , B23Q
CPC分类号： G03F7/70716 , B23K26/0876 , G02B7/005
摘要：在架座上設置9個避振座，在其上設置石平台。而，在石平台6上置一對導引基座，在其上將由CFRP構成之一對支柱設置成在Y方向可移動。又，在一對支柱間舖設由CFRP構成之樑。還將移動基座設置成相對於樑在X方向可移動，在移動基座裝載雷射光學單元。
简体摘要：在架座上设置9个避振座，在其上设置石平台。而，在石平台6上置一对导引基座，在其上将由CFRP构成之一对支柱设置成在Y方向可移动。又，在一对支柱间铺设由CFRP构成之梁。还将移动基座设置成相对于梁在X方向可移动，在移动基座装载激光光学单元。

3. 发明专利

TW200533859A 具有滲漏偵測功能之滲漏偵測器之管路結構 PIPING STRUCTURE HAVING LEAK DETECTION FUNCTION AND LEAK DETECTOR 失效
简体标题：具有渗漏侦测功能之渗漏侦测器之管路结构 PIPING STRUCTURE HAVING LEAK DETECTION FUNCTION AND LEAK DETECTOR
公开(公告)号：TW200533859A
公开(公告)日：2005-10-16
申请号：TW094102458
申请日：2005-01-27
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：塚越雅之 MASAYUKI TSUKAGOSHI
IPC分类号： F17D , G01M
CPC分类号： G01M3/283 , F16L9/18 , F16L2201/30
摘要：具有一閥之一蓋覆構件係包圍著一撓性軟管，以形成一雙管件。複數個氣體供應管接頭係連附至該雙管件之各末端，以在該撓性軟管與該蓋覆構件之間形成一密閉空間。該蓋覆構件亦具有一壓力量測裝置，而配備有一告警裝置之一決策單元係連接至該壓力量測裝置。相同於流通過該撓性軟管者之氣體或液體，係自設於該蓋覆構件中之閥導入該密閉空間，且藉由關閉該閥而得密封於該密閉空間中。可將該密閉空間中之壓力設定成，高於氣體或液體在流動時，於該撓性軟管中所產生之壓力。該壓力量測裝置可測量出，當氣體或液體於該撓性軟管中流動時，在該密閉空間中之壓力，且該決策單元將比較該量測值與一參考值。結果，倘若由該壓力量測裝置測得之數值低於該參考值，則該決策單元將判定已發生一破壞，且接著該告警裝置將致動一告警。
简体摘要：具有一阀之一盖覆构件系包围着一挠性软管，以形成一双管件。复数个气体供应管接头系连附至该双管件之各末端，以在该挠性软管与该盖覆构件之间形成一密闭空间。该盖覆构件亦具有一压力量测设备，而配备有一告警设备之一决策单元系连接至该压力量测设备。相同于流通过该挠性软管者之气体或液体，系自设于该盖覆构件中之阀导入该密闭空间，且借由关闭该阀而得密封于该密闭空间中。可将该密闭空间中之压力设置成，高于气体或液体在流动时，于该挠性软管中所产生之压力。该压力量测设备可测量出，当气体或液体于该挠性软管中流动时，在该密闭空间中之压力，且该决策单元将比较该量测值与一参考值。结果，倘若由该压力量测设备测得之数值低于该参考值，则该决策单元将判定已发生一破坏，且接着该告警设备将致动一告警。

4. 发明专利

TWI241356B 雷射化學氣相沈積裝置與雷射化學氣相沈積方法 LASER CVD DEVICE AND LASER CVD METHOD 失效
简体标题：激光化学气相沉积设备与激光化学气相沉积方法 LASER CVD DEVICE AND LASER CVD METHOD
公开(公告)号：TWI241356B
公开(公告)日：2005-10-11
申请号：TW092117264
申请日：2003-06-25
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：森重幸雄 MORISHIGE, YUKIO , 上田淳 UEDA, ATSUSHI
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： C23C16/45519 , C23C16/0245 , C23C16/047 , C23C16/483 , H01J37/32339
摘要：提供一種雷射CVD裝置能夠加強由雷射CVD形成的膜對基板的膜形成面之黏著及避免膜本身發生破裂。此裝置包含有一電漿單元，用以藉電弧放電轉變預處理氣體成為電漿狀態、及用以供應電漿狀態氣體至膜形成面；及一膜形成單元，具有用以密封膜形成氣體同時與外部大氣分離的裝置、用以發射雷射光束至膜形成氣體的裝置，其中將膜形成於基板的膜形成面上。
简体摘要：提供一种激光CVD设备能够加强由激光CVD形成的膜对基板的膜形成面之黏着及避免膜本身发生破裂。此设备包含有一等离子单元，用以藉电弧放电转变预处理气体成为等离子状态、及用以供应等离子状态气体至膜形成面；及一膜形成单元，具有用以密封膜形成气体同时与外部大气分离的设备、用以发射激光光束至膜形成气体的设备，其中将膜形成于基板的膜形成面上。

5. 发明专利

TWI242479B 門型XY滑動台座失效
简体标题：门型XY滑动台座
公开(公告)号：TWI242479B
公开(公告)日：2005-11-01
申请号：TW093129788
申请日：2004-10-01
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：岩永康志 YASUSHI IWANAGA , 水戶部和彥 KAZUHIKO MITOBE
IPC分类号： B23K , B23Q
CPC分类号： G03F7/70716 , B23K26/0876 , G02B7/005
摘要：在架座上設置9個避振座，在其上設置石平台。而，在石平台6上置一對導引基座，在其上將由CFRP構成之一對支柱設置成在Y方向可移動。又，在一對支柱間舖設由CFRP構成之樑。還將移動基座設置成相對於樑在X方向可移動，在移動基座裝載雷射光學單元。
简体摘要：在架座上设置9个避振座，在其上设置石平台。而，在石平台6上置一对导引基座，在其上将由CFRP构成之一对支柱设置成在Y方向可移动。又，在一对支柱间铺设由CFRP构成之梁。还将移动基座设置成相对于梁在X方向可移动，在移动基座装载激光光学单元。

6. 发明专利

TW200512312A 配線修補裝置 WIRING REPAIR APPARATUS 审中-公开
简体标题：配线修补设备 WIRING REPAIR APPARATUS
公开(公告)号：TW200512312A
公开(公告)日：2005-04-01
申请号：TW093127446
申请日：2004-09-10
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：若林浩次 KOJI WAKABAYASHI
IPC分类号： C23C , G02F
CPC分类号： C23C16/45519 , C23C16/047 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：一配線修補裝置包括一XY平台，在其上可放置一基板(substrate)；一雷射來源單元，配置於該XY平台上方；第一和第二氣體窗，配置於該雷射來源單元與該XY平台之間；以及第一和第二CVD氣體單元。該雷射來源單元放射出一雷射線到要修補的基板部分，這雷射線通過第一或第二氣體窗之一，第一化學氣相沈積氣體單元提供鋁原料氣體(DMAH氣體)到第一氣體窗，而第二化學氣相沈積氣體單元提供一鉻原料氣體(Cr(CO)6氣體)到第二氣體窗。
简体摘要：一配线修补设备包括一XY平台，在其上可放置一基板(substrate)；一激光来源单元，配置于该XY平台上方；第一和第二气体窗，配置于该激光来源单元与该XY平台之间；以及第一和第二CVD气体单元。该激光来源单元放射出一激光线到要修补的基板部分，这激光线通过第一或第二气体窗之一，第一化学气相沉积气体单元提供铝原料气体(DMAH气体)到第一气体窗，而第二化学气相沉积气体单元提供一铬原料气体(Cr(CO)6气体)到第二气体窗。

7. 发明专利

TW200730837A 配線修正方法 WIRING CORRECTION METHOD 审中-公开
简体标题：配线修正方法 WIRING CORRECTION METHOD
公开(公告)号：TW200730837A
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：TW095137585
申请日：2006-10-12
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：久木田留理子 KUKITA, RURIKO , 高橋昌見 TAKAHASHI, YOSHIMI
IPC分类号： G01R
CPC分类号： H01L22/20 , G01N21/95684 , G02F2001/136263 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：一種檢測配線圖型中之缺陷存在的方法,其係藉由視覺方法、影像處理或類似者來達成,且當偵測到缺陷時確認缺陷位置、座標及尺寸等資訊,確認缺陷之類型,並根據該缺陷之類型及條件來設定處理方法及處理條件(步驟S1)。基於已設定的處理方法及處理條件及已確認的缺陷資訊來修正短路缺陷(步驟S2)。接著,基於已設定的處理方法及處理條件及已確認的缺陷資訊來修正斷路缺陷(步驟S3)。在完成該些修正操作後,對該缺陷是否已加以修正作出判斷(步驟S4)。藉由此方式,可縮短配線修正之操作時間及促進自動化。
简体摘要：一种检测配线图型中之缺陷存在的方法,其系借由视觉方法、影像处理或类似者来达成,且当侦测到缺陷时确认缺陷位置、座标及尺寸等信息,确认缺陷之类型,并根据该缺陷之类型及条件来设置处理方法及处理条件(步骤S1)。基于已设置的处理方法及处理条件及已确认的缺陷信息来修正短路缺陷(步骤S2)。接着,基于已设置的处理方法及处理条件及已确认的缺陷信息来修正断路缺陷(步骤S3)。在完成该些修正操作后,对该缺陷是否已加以修正作出判断(步骤S4)。借由此方式,可缩短配线修正之操作时间及促进自动化。

8. 发明专利

TW200712552A 光位準控制裝置、該裝置之控制方法以及雷射應用裝置 OPTICAL LEVEL CONTROL DEVICE, METHOD FOR CONTROLLING SAME, AND LASER APPLICATION DEVICE 失效
简体标题：光位准控制设备、该设备之控制方法以及激光应用设备 OPTICAL LEVEL CONTROL DEVICE, METHOD FOR CONTROLLING SAME, AND LASER APPLICATION DEVICE
公开(公告)号：TW200712552A
公开(公告)日：2007-04-01
申请号：TW095134244
申请日：2006-09-15
申请人：雷射先進技術股份有限公司 LASERFRONT TECHNOLOGIES, INC.
发明人：長野强 TSUYOSHI NAGANO , 太田義德 YOSHINORI OHTA
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B27/283
摘要：光位準控制裝置獨立地控制從一雷射振盪器被發射之具有不同波長的二光束的强度,且光位準控制裝置包括一波長相依波長板及一偏振分光器。波長相依波長板相對於第一光波係做為半波片且相對於第二光波係做為全波片。只有偏振分光器關於光軸的旋轉角被調整以設定沿著直線被傳送穿過偏振分光器的第二光波的强度。然後,偏振分光器被固定在調整的角度上,且波長板關於光軸的旋轉角被調整以設定第一光波的强度。
简体摘要：光位准控制设备独立地控制从一激光振荡器被发射之具有不同波长的二光束的强度,且光位准控制设备包括一波长相依波长板及一偏振分光器。波长相依波长板相对于第一光波系做为半波片且相对于第二光波系做为全波片。只有偏振分光器关于光轴的旋转角被调整以设置沿着直线被发送穿过偏振分光器的第二光波的强度。然后,偏振分光器被固定在调整的角度上,且波长板关于光轴的旋转角被调整以设置第一光波的强度。

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