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1. 发明专利

TW200927848A 輥成形性優異之樹脂塗裝金屬板 RESIN-COATED METAL PLATE EXCELLENT IN ROLL FORMING PROPERTY 审中-公开
简体标题：辊成形性优异之树脂涂装金属板 RESIN-COATED METAL PLATE EXCELLENT IN ROLL FORMING PROPERTY
公开(公告)号：TW200927848A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097129413
申请日：2008-08-01
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：中元忠繁 NAKAMOTO, TADASHIGE , 篠原可亮 SHINOHARA, YOSHIAKI , 岩辰彥 IWA, TATSUHIKO , 菊池紀行 KIKUCHI, NORIYUKI , 照沼泰則 TERUNUMA, YASUNORI , 秋本幹夫 AKIMOTO, MIKIO , 村松隆司 MURAMATSU, TAKASHI , 信近一雄 NOBUCHIKA, KAZUO
IPC分类号： C09D , C23C
CPC分类号： C23C2222/20
摘要：本發明係關於一種樹脂塗裝金屬板,其為具備由表面處理組成物所得之樹脂皮膜的樹脂塗裝金屬板,其特徵係前述表面處理組成物為含有60-95質量份之由矽酸鋰及膠體二氧化矽所成的無機成分與5-40質量份之樹脂成分的同時,尚含有相對於無機成分與樹脂成分的合計100質量份為7-35質量份之含縮水甘油基的矽烷偶合劑與0.5-7質量份的偏釩酸鹽,其中該樹脂成分係相對於烯烴-��,��-不飽和羧酸共聚物及��,��-不飽和羧酸聚合物的合計100質量份,含有1-9質量份含噁唑基的共聚物。藉由此種構成,除了具備耐腐蝕性等之樹脂塗裝金屬板所要求的特性外,其輥成形時也不會發生障礙。
简体摘要：本发明系关于一种树脂涂装金属板,其为具备由表面处理组成物所得之树脂皮膜的树脂涂装金属板,其特征系前述表面处理组成物为含有60-95质量份之由硅酸锂及胶体二氧化硅所成的无机成分与5-40质量份之树脂成分的同时,尚含有相对于无机成分与树脂成分的合计100质量份为7-35质量份之含缩水甘油基的硅烷偶合剂与0.5-7质量份的偏钒酸盐,其中该树脂成分系相对于烯烃-��,��-不饱和羧酸共聚物及��,��-不饱和羧酸聚合物的合计100质量份,含有1-9质量份含恶唑基的共聚物。借由此种构成,除了具备耐腐蚀性等之树脂涂装金属板所要求的特性外,其辊成形时也不会发生障碍。

2. 发明专利

TW200919734A 使用鋁合金之低接觸電性阻抗型電極及其之製造方法以及顯示裝置 ELECTRODE OF ALUMINUM-ALLOY FILM WITH LOW CONTACT RESISTANCE, METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, AND DISPLAY UNIT 审中-公开
简体标题：使用铝合金之低接触电性阻抗型电极及其之制造方法以及显示设备 ELECTRODE OF ALUMINUM-ALLOY FILM WITH LOW CONTACT RESISTANCE, METHOD FOR PRODUCTION THEREOF, AND DISPLAY UNIT
公开(公告)号：TW200919734A
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW097122886
申请日：2008-06-19
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：越智元隆 OCHI, MOTOTAKA , 後藤裕史 GOTOU, HIROSHI , 奧野博行 OKUNO, HIROYUKI , 武富雄一 TAKETOMI, YUICHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L27/124 , H01L29/458
摘要： [課題]提供一種即使減少Al合金中的合金元素,仍能夠降低與透明氧化物導電膜的接觸阻抗的低接觸阻抗型電極,和用於製造這種電極的有用的方法,以及具有這種電極的顯示裝置。[解決手段]本發明的低接觸阻抗型電極,在由與氧化物透明導電膜直接接觸的Al合金膜構成的低接觸阻抗型電極中,前述Al合金膜以0.1-1.0原子%的比例來含有比Al離子化傾向小的金屬元素,且與Al合金膜的氧化物透明電極直接接觸的Al合金膜表面,形成有以最大高度粗糙度Rz計測為5nm以上的凹凸。
简体摘要： [课题]提供一种即使减少Al合金中的合金元素,仍能够降低与透明氧化物导电膜的接触阻抗的低接触阻抗型电极,和用于制造这种电极的有用的方法,以及具有这种电极的显示设备。[解决手段]本发明的低接触阻抗型电极,在由与氧化物透明导电膜直接接触的Al合金膜构成的低接触阻抗型电极中,前述Al合金膜以0.1-1.0原子%的比例来含有比Al离子化倾向小的金属元素,且与Al合金膜的氧化物透明电极直接接触的Al合金膜表面,形成有以最大高度粗糙度Rz计测为5nm以上的凹凸。

3. 发明专利

TW200918304A 預塗金屬板及預塗金屬板的製造方法 PRE-COATED METAL PLATE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME 有权
简体标题：预涂金属板及预涂金属板的制造方法 PRE-COATED METAL PLATE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
公开(公告)号：TW200918304A
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW096149945
申请日：2007-12-25
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：服部伸郎 HATTORI, NOBUO
IPC分类号： B32B , B05D , C09D
CPC分类号： B05D7/14 , B05D2602/00 , C08L75/04 , C09D5/002 , C09D7/65 , C09D167/00
摘要：本發明係提供比先前之預塗金屬板的防止刮傷性更為改善之預塗金屬板及預塗金屬板的製造方法。本發明之預塗金屬板1為具備金屬板2、和其表面所形成之樹脂皮膜3的預塗金屬板1,該樹脂皮膜3為具備玻璃態化溫度為0℃以上50℃以下之聚酯樹脂與硬化劑交聯反應而成之基質層4,和在該基質層4中分散、根據微小壓縮試驗之單一珠粒10%變形時之壓縮强度為10MPa以下的軟質珠粒5,且該軟質珠粒5之含有率相對於該基質層4,為15質量%以上50質量%以下,該軟質珠粒5之平均粒徑為該基質層4之平均厚度的1.1倍以上5倍以下。
简体摘要：本发明系提供比先前之预涂金属板的防止刮伤性更为改善之预涂金属板及预涂金属板的制造方法。本发明之预涂金属板1为具备金属板2、和其表面所形成之树脂皮膜3的预涂金属板1,该树脂皮膜3为具备玻璃态化温度为0℃以上50℃以下之聚酯树脂与硬化剂交联反应而成之基质层4,和在该基质层4中分散、根据微小压缩试验之单一珠粒10%变形时之压缩强度为10MPa以下的软质珠粒5,且该软质珠粒5之含有率相对于该基质层4,为15质量%以上50质量%以下,该软质珠粒5之平均粒径为该基质层4之平均厚度的1.1倍以上5倍以下。

4. 发明专利

TW200916745A 溫度測定構件、溫度測定裝置及溫度測定方法审中-公开
简体标题：温度测定构件、温度测定设备及温度测定方法
公开(公告)号：TW200916745A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW097121753
申请日：2008-06-11
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：水野雅夫 MIZUNO, MASAO , 平野貴之 HIRANO, TAKAYUKI , 富久勝文 TOMIHISA, KATSUFUMI
IPC分类号： G01K
CPC分类号： G01K3/14 , G01K11/06 , G01K2213/00
摘要：本發明,係提供一種:不需要外部配線,也沒有雜質和粉塵的產生,而能夠進行從低溫至高溫之廣溫度範圍下的最高到達溫度的測定之溫度測定構件、溫度測定裝置和溫度測定方法。本發明構成如下:以經由光學顯微鏡(3)、CCD攝像機(4)和IO埠(5)而被輸出到運算處理裝置(6)處的圖像資料為基礎,來藉由個數計算部(7)而計算出由於在形成有金屬薄膜之溫度測定構件(1)處所受到的熱過程所致的在金屬薄膜上所產生之突起形狀的面密度,並根據該面密度、和預先儲存在記憶體(8)中的相關於最高到達溫度與面密度之資料,來藉由溫度計算部(9)而求得被測溫對象的最高到達溫度。另外,本發明構成如下:使用在基板上成膜鋁薄膜而成的溫度測定構件,測定伴隨該溫度測定構件所受到之溫度過程而在薄膜表面所形成的突起所引起的薄膜的反射率之降低量,並基於此反射率的降低量,推定溫度過程之中最高到達溫度。
简体摘要：本发明,系提供一种:不需要外部配线,也没有杂质和粉尘的产生,而能够进行从低温至高温之广温度范围下的最高到达温度的测定之温度测定构件、温度测定设备和温度测定方法。本发明构成如下:以经由光学显微镜(3)、CCD摄像机(4)和IO端口(5)而被输出到运算处理设备(6)处的图像数据为基础,来借由个数计算部(7)而计算出由于在形成有金属薄膜之温度测定构件(1)处所受到的热过程所致的在金属薄膜上所产生之突起形状的面密度,并根据该面密度、和预先存储在内存(8)中的相关于最高到达温度与面密度之数据,来借由温度计算部(9)而求得被测温对象的最高到达温度。另外,本发明构成如下:使用在基板上成膜铝薄膜而成的温度测定构件,测定伴随该温度测定构件所受到之温度过程而在薄膜表面所形成的突起所引起的薄膜的反射率之降低量,并基于此反射率的降低量,推定温度过程之中最高到达温度。

5. 发明专利

TW200916418A 成形模具 MOLDING TOOL 审中-公开
公开(公告)号：TW200916418A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW097106084
申请日：2008-02-21
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：伊藤弘高 ITO, HIROTAKA , 山本兼司 YAMAMOTO, KENJI
IPC分类号： C03B , B29C , C23C , G02B
CPC分类号： C03B11/086 , B29C33/3842 , B29C33/56 , C03B2215/11 , C03B2215/12 , C03B2215/22 , C03B2215/24
摘要：本發明之課題是為了提供一種具有類鑽石碳膜(以下稱DLC膜)所構成的披覆層之成形模具,在DLC膜之除膜、再生步驟進行DLC膜的除膜時,不容易發生蝕刻所造成之成形模具基材之粗面化。本發明的解決手段之成形模具,係具有DLC膜構成的披覆層之成形模具,其特徵在於:在該披覆層和成形模具基材之間具有中間層,該中間層,是由(Cr1-a Sia)(Bx Cy N1-x-y)所構成且符合下式(1)-(3)之皮膜層,是在成膜時的氣體壓力:0.2-0.5Pa進行成膜而得之皮膜層,0.5≦a≦0.95…式(1)、0≦x≦0.2…式(2)、0≦y≦0.5…式(3)上述式(1)-(3)中,a代表Si的原子比,x代表B的原子比,y代表C的原子比。
简体摘要：本发明之课题是为了提供一种具有类钻石碳膜(以下称DLC膜)所构成的披覆层之成形模具,在DLC膜之除膜、再生步骤进行DLC膜的除膜时,不容易发生蚀刻所造成之成形模具基材之粗面化。本发明的解决手段之成形模具,系具有DLC膜构成的披覆层之成形模具,其特征在于:在该披覆层和成形模具基材之间具有中间层,该中间层,是由(Cr1-a Sia)(Bx Cy N1-x-y)所构成且符合下式(1)-(3)之皮膜层,是在成膜时的气体压力:0.2-0.5Pa进行成膜而得之皮膜层,0.5≦a≦0.95…式(1)、0≦x≦0.2…式(2)、0≦y≦0.5…式(3)上述式(1)-(3)中,a代表Si的原子比,x代表B的原子比,y代表C的原子比。

6. 发明专利

TW200910459A 顯示裝置之製造方法 METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY APPARATUS 审中-公开
简体标题：显示设备之制造方法 METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY APPARATUS
公开(公告)号：TW200910459A
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW097122674
申请日：2008-06-18
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：後藤裕史 GOTOU, HIROSHI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L29/458 , H01L27/124 , H01L27/1255 , H01L29/4908
摘要： [課題]本發明,係提供一種直接接觸技術,其係不僅可降低Al合金膜和透明像素電極之間的接觸電阻,且耐熱性亦優良,因而可使Al合金膜與透明像素電極直接接觸,而且更可進一步降低Al合金的電阻,並進一步提高生產效率。[解決手段]一種顯示裝置的製造方法,該顯示裝置,係在基板上,具備有氧化物透明導電膜和Al合金膜直接接觸的構造,其特徵為:前述Al合金膜,係含有0.5原子%以下的從Ag、Zn、Cu及Ni而成之群中所選出的至少一種合金元素,將前述基板的溫度,控制在前述合金元素的析出溫度以上,來形成Al合金膜。
简体摘要： [课题]本发明,系提供一种直接接触技术,其系不仅可降低Al合金膜和透明像素电极之间的接触电阻,且耐热性亦优良,因而可使Al合金膜与透明像素电极直接接触,而且更可进一步降低Al合金的电阻,并进一步提高生产效率。[解决手段]一种显示设备的制造方法,该显示设备,系在基板上,具备有氧化物透明导电膜和Al合金膜直接接触的构造,其特征为:前述Al合金膜,系含有0.5原子%以下的从Ag、Zn、Cu及Ni而成之群中所选出的至少一种合金元素,将前述基板的温度,控制在前述合金元素的析出温度以上,来形成Al合金膜。

7. 发明专利

TW200843949A 導電性優異之樹脂塗裝金屬板 HIGHLY CONDUCTING RESIN-COATED METAL SHEET 审中-公开
简体标题：导电性优异之树脂涂装金属板 HIGHLY CONDUCTING RESIN-COATED METAL SHEET
公开(公告)号：TW200843949A
公开(公告)日：2008-11-16
申请号：TW097107672
申请日：2008-03-05
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奧村和生 OKUMURA, KAZUO , 田富男 KAJITA, TOMIO , 中元忠繁 NAKAMOTO, TADASHIGE , 岡安英 OKA, YASUHIDE , 中西真 NAKANISHI, SHIN
IPC分类号： B32B , B05D
摘要：在金屬板的表面上形成樹脂皮膜的樹脂塗裝金屬板,在前述樹脂塗裝金屬板的粗糙度曲線中,將峰値計數位準(2H)定為2.54��m時,每2.54㎝的峰數(PPI)為10以上,且上述粗糙度曲線的峰度(Rku)為5.0以下。依據該構成,即使在壓力為10-12gf/mm^2左右的輕接觸下,仍能穩定地發揮良好的導電性。
简体摘要：在金属板的表面上形成树脂皮膜的树脂涂装金属板,在前述树脂涂装金属板的粗糙度曲线中,将峰値计数码准(2H)定为2.54��m时,每2.54㎝的峰数(PPI)为10以上,且上述粗糙度曲线的峰度(Rku)为5.0以下。依据该构成,即使在压力为10-12gf/mm^2左右的轻接触下,仍能稳定地发挥良好的导电性。

8. 发明专利

TW200827884A 薄膜電晶體基板及顯示裝置审中-公开
简体标题：薄膜晶体管基板及显示设备
公开(公告)号：TW200827884A
公开(公告)日：2008-07-01
申请号：TW096138515
申请日：2007-10-15
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：日野綾 HINO, AYA , 後藤裕史 GOTOU, HIROSHI
IPC分类号： G02F
CPC分类号： H01L29/458 , H01L23/53233 , H01L27/124 , H01L29/4908 , H01L29/66765 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明的薄膜電晶體基板具有:薄膜電晶體的半導體層33、及源極-汲極電極28和29。源極-汲極電極28和29則是由含有氮之含氮層或是含有氮和氧之含氧氮層28a和29a、及純銅或銅合金的薄膜28b和29b所組成。構成含氮層之氮的一部分或全部、或是構成含氧氮層之氮或氧的一部分或全部,與薄膜電晶體的半導體層35中的Si相結合。另外,純銅或銅合金的薄膜28b和29b,經由含氮層或含氧氮層28a和29a,與薄膜電晶體的半導體層33相結合。
简体摘要：本发明的薄膜晶体管基板具有:薄膜晶体管的半导体层33、及源极-汲极电极28和29。源极-汲极电极28和29则是由含有氮之含氮层或是含有氮和氧之含氧氮层28a和29a、及纯铜或铜合金的薄膜28b和29b所组成。构成含氮层之氮的一部分或全部、或是构成含氧氮层之氮或氧的一部分或全部,与薄膜晶体管的半导体层35中的Si相结合。另外,纯铜或铜合金的薄膜28b和29b,经由含氮层或含氧氮层28a和29a,与薄膜晶体管的半导体层33相结合。

9. 发明专利

TW200825215A 耐污染性優之鍍鋅鋼板 ZINE ELECTRO-PLATED STEEL SHEET HAVING EXCELLENT STAIN RESISTANCE 审中-公开
简体标题：耐污染性优之镀锌钢板 ZINE ELECTRO-PLATED STEEL SHEET HAVING EXCELLENT STAIN RESISTANCE
公开(公告)号：TW200825215A
公开(公告)日：2008-06-16
申请号：TW096129723
申请日：2007-08-10
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：岩井正敏 IWAI, MASATOSHI , 奧村和生 OKUMURA, KAZUO , 久野彰士 HISANO, SHOJI
IPC分类号： C25D
CPC分类号： C23C28/00 , C25D3/565 , C25D5/48
摘要：本發明之鍍鋅鋼板,係於鍍鋅層之上,設置有實質上不含有Cr、含有Na 0.05~5質量%之樹脂皮膜者。該鍍鋅層,係以原子換算計,以Ni:60~6000ppm(ppm係質量ppm之意。以下,相同)、Fe:60~600ppm、Cr:0.5~5ppm、Mo:30~500ppm、Sn:0.6~20ppm、Cu:8~3000ppm、Cd:0.0001~0.02ppm、Ag:1.0~400ppm、Si:30~2000ppm、Co:0.0003~0.3ppm、In:0.1~30ppm、Ir:0.01~10ppm、W:0.1~50ppm之範圍內,含有選自Ni、Fe、Cr、Mo、Sn、Cu、Cd、Ag、Si、Co、In、Ir及W所構成群中之至少一種。
简体摘要：本发明之镀锌钢板,系于镀锌层之上,设置有实质上不含有Cr、含有Na 0.05~5质量%之树脂皮膜者。该镀锌层,系以原子换算计,以Ni:60~6000ppm(ppm系质量ppm之意。以下,相同)、Fe:60~600ppm、Cr:0.5~5ppm、Mo:30~500ppm、Sn:0.6~20ppm、Cu:8~3000ppm、Cd:0.0001~0.02ppm、Ag:1.0~400ppm、Si:30~2000ppm、Co:0.0003~0.3ppm、In:0.1~30ppm、Ir:0.01~10ppm、W:0.1~50ppm之范围内,含有选自Ni、Fe、Cr、Mo、Sn、Cu、Cd、Ag、Si、Co、In、Ir及W所构成群中之至少一种。

10. 发明专利

TW200816292A 顯示裝置之製法 METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY DEVICE 审中-公开
简体标题：显示设备之制法 METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY DEVICE
公开(公告)号：TW200816292A
公开(公告)日：2008-04-01
申请号：TW096127571
申请日：2007-07-27
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奧野博行 OKUNO, HIROYUKI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/0325 , G02F1/13439 , G02F2001/136295 , G03F7/0007
摘要：本發明提供一種顯示裝置之製法,其可以省略遮罩金屬層,實現使鋁合金膜與透明導電膜直接接觸的顯示裝置的製造,並且可以組合防腐蝕性優良的處理液,來克服鋁合金膜所具有的耐腐蝕性不足的問題。在製造如下的顯示裝置時,即具有配置於玻璃基板上的由鋁合金膜構成的配線材料和利用透明導電膜構成的像素電極直接連接而成的構造,在該配線材料與像素電極的連接介面上,構成所述配線材料的鋁合金膜的合金成分的一部份或全部作為析出物或濃化層存在的顯示裝置,作為用於將配線圖型的形成中所用的光阻顯影的顯影液,使用含有 2-3.5 質量%的有機鹼和 2-10 質量%的碳數為 4-6 的糖醇且不含其它的多元醇的光阻用顯影液。
简体摘要：本发明提供一种显示设备之制法,其可以省略遮罩金属层,实现使铝合金膜与透明导电膜直接接触的显示设备的制造,并且可以组合防腐蚀性优良的处理液,来克服铝合金膜所具有的耐腐蚀性不足的问题。在制造如下的显示设备时,即具有配置于玻璃基板上的由铝合金膜构成的配线材料和利用透明导电膜构成的像素电极直接连接而成的构造,在该配线材料与像素电极的连接界面上,构成所述配线材料的铝合金膜的合金成分的一部份或全部作为析出物或浓化层存在的显示设备,作为用于将配线图型的形成中所用的光阻显影的显影液,使用含有 2-3.5 质量%的有机碱和 2-10 质量%的碳数为 4-6 的糖醇且不含其它的多元醇的光阻用显影液。

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