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    • 1. 发明专利
    • 密封件及保護性屏蔽體
    • 密封件及保护性屏蔽体
    • TW477881B
    • 2002-03-01
    • TW089119844
    • 2000-11-07
    • 德拉瓦脫衛得格林公司
    • 提蒙西J 艾德華斯卡明J 郭塔佩拉肯尼斯 幕爾飛羅伯特A 雷伊
    • F16J
    • F16J15/022F16J15/166F16J15/3284
    • 一種密封裝置供用於一第一本體上的一密封槽中,俾以在該第一本體與一第二本體之間形成一封口,該室封槽具有一底表面以及自該底表面延伸的第一及第二側表面,該密封裝置包含:
      一密封體,當該密封體在未壓縮且以橫截面方向觀看時,大體上具有一大體上最高部及一大體上最低部,該密封體包括一至少部份可變形之第一材料,該第一材料大體上至少部份沿著該大體上最高部,並至少部份沿著該大體上最低部配置,當該密封槽被置入且至少部份配置在該密封槽內時,該第一材料接觸該密封槽之底表面。一較該第一材料堅硬之第二材料,該第二材料大體上沿著密封體的一側邊之至少一部份配置,當該密封體以橫截面方向觀看時,該第二材料形成一屏蔽體。其中當該密封體配置在該密封槽內並壓縮時,於該第一本體與該第二本體間因該第一材料而形成該封口,且因該屏蔽體而形成一附加封口供用於延長該密封裝置之操作壽命,同時阻止流體在該第一本體及該第二本體間流動。
    • 一种密封设备供用于一第一本体上的一密封槽中,俾以在该第一本体与一第二本体之间形成一封口,该室封槽具有一底表面以及自该底表面延伸的第一及第二侧表面,该密封设备包含: 一密封体,当该密封体在未压缩且以横截面方向观看时,大体上具有一大体上最高部及一大体上最低部,该密封体包括一至少部份可变形之第一材料,该第一材料大体上至少部份沿着该大体上最高部,并至少部份沿着该大体上最低部配置,当该密封槽被置入且至少部份配置在该密封槽内时,该第一材料接触该密封槽之底表面。一较该第一材料坚硬之第二材料,该第二材料大体上沿着密封体的一侧边之至少一部份配置,当该密封体以横截面方向观看时,该第二材料形成一屏蔽体。其中当该密封体配置在该密封槽内并压缩时,于该第一本体与该第二本体间因该第一材料而形成该封口,且因该屏蔽体而形成一附加封口供用于延长该密封设备之操作寿命,同时阻止流体在该第一本体及该第二本体间流动。
    • 3. 发明专利
    • 用於安裝於環形鳩尾槽之密封元件
    • 用于安装于环形鸠尾槽之密封组件
    • TW368571B
    • 1999-09-01
    • TW084110605
    • 1995-10-09
    • 德拉瓦脫衛得格林公司
    • 約翰A.伯克詹姆斯W.柏恩斯
    • F16J
    • F16J15/32F16J15/062
    • 提出一種用於安裝於環形凹槽之密封元件。該凹槽包括一個腔口,第一與第二側壁,以及一個軸向延展於側壁間之基座。該等側壁彼此相向延展且每一側壁各別趨近腔口以構成環向截面上之鳩尾槽形。於凹槽中,該第一側壁與基座相接於一個大體為內凹圓形之表面。該環形密封元件於環向截面上之外側密封表面包括第一與第二弧形部份與一對溢料點。第一弧形部份接觸於該等側壁與基座並部分突伸出凹槽腔口。該第二弧形部份互補地容納於凹槽之內凹圓形表面部份中。該對鑄模溢料點位於外側密封表面上相對處,每一溢料點均位於外側密封表面上不與受封液體接觸之部份。
    • 提出一种用于安装于环形凹槽之密封组件。该凹槽包括一个腔口,第一与第二侧壁,以及一个轴向延展于侧壁间之基座。该等侧壁彼此相向延展且每一侧壁各别趋近腔口以构成环向截面上之鸠尾槽形。于凹槽中,该第一侧壁与基座相接于一个大体为内凹圆形之表面。该环形密封组件于环向截面上之外侧密封表面包括第一与第二弧形部份与一对溢料点。第一弧形部份接触于该等侧壁与基座并部分突伸出凹槽腔口。该第二弧形部份互补地容纳于凹槽之内凹圆形表面部份中。该对铸模溢料点位于外侧密封表面上相对处,每一溢料点均位于外侧密封表面上不与受封液体接触之部份。
    • 6. 外观设计
    • 半導體生產設備真空密封環
    • 半导体生产设备真空密封环
    • TW270879S
    • 1996-02-11
    • TW083309761
    • 1994-11-26
    • 德拉瓦脫衛得格林公司
    • 詹姆斯W.柏恩士
    • 本創作係有關於一種「半導體生產設備真空密封環」之新式樣設計。
      如圖所示者:本創作主體外觀係呈一O形環設計,由截面圖可見本創作之本體上下緣分別往上下方微凸,兩側則呈平直狀。整體造形極具美觀大方之特質且線條相當簡潔有力。
      上述說明僅係輔助瞭解本創作而非用以限制其內容;理應明瞭,新式樣係以其整體形狀、花紋、色彩指定之,
      亦即以申請專利範圍所界定者為準。
    • 本创作系有关于一种“半导体生产设备真空密封环”之新式样设计。 如图所示者:本创作主体外观系呈一O形环设计,由截面图可见本创作之本体上下缘分别往上下方微凸,两侧则呈平直状。整体造形极具美观大方之特质且线条相当简洁有力。 上述说明仅系辅助了解本创作而非用以限制其内容;理应明了,新式样系以其整体形状、花纹、色彩指定之, 亦即以申请专利范围所界定者为准。